Abstract

DEVIA, D. M; MESA, F  and  ARANGO, P. J. Influência da temperatura substrato sobre a microestrutura do TiN/TiC. ing.cienc. [online]. 2011, vol.7, n.14, pp.71-82. ISSN 1794-9165.

As bicamadas de TiN/TiC foram depositadas utilizando a técnica de deposição de vapor assistida por plasma (PAPVD) de pulso, variando a temperatura do substrato na faixa de 100-120 °C, com intervalos de 5 °C. Os revestimentos foram analisados por meio de XRD e XPS. A partir do processamento dos sinais dos espectros estreitos de XPS e dos padrões de DRX, determinou-se a formação dos compostos TiN (nitreto de titânio), TiC (carbeto de titânio) e TiCN (carbonitretos de titânio) em fase cristalográfica fm-3m, correspondente.

Keywords : Arco pulsado; Microestructura; TiN/TiC; XPS; XRD.

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