Resumo

GARCIA, DANNA; PIRATOBA, ULISES  e  MARINO, ALVARO. RECUBRIMIENTOS DE (Ti,Al)N SOBRE ACERO AISI 4140 POR   SPUTTERING REACTIVO. Dyna rev.fac.nac.minas [online]. 2007, vol.74, n.152, pp.181-185. ISSN 0012-7353.

Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (Magnetron Sputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizó un blanco formado con polvos metálicos de  Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en  átomos) y una razón de presiones parciales de nitrógeno - argón, PN₂/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura del sustrato se varió entre  260  y 330 ºC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas con diferentes espesores. La composición química de las películas se determinó  mediante la técnica de energía dispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopía de fuerza atómica (AFM). Igualmente se midió  micro dureza, y se determinó su comportamiento electroquímico mediante  espectroscopia de impedancia electroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y de pequeño diámetro, con características electroquímicas de protección al sustrato frente a procesos de corrosión.

Palavras-chave : Recubrimientos duros; (Ti,Al)N; rf Sputtering; Pulverización catódica.

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