Resumen

HINCAPIE-ZAPATA, Jorge Mario et al. Instrumentación y control de un sistema de depósito químico de vapor asistido por aerosol (AACVD). Dyna rev.fac.nac.minas [online]. 2019, vol.86, n.210, pp.52-57. ISSN 0012-7353.  https://doi.org/10.15446/dyna.v86n210.77344.

La técnica de depósito de vapor químico asistido por aerosol (AACVD) implica la atomización de una solución precursora en gotas finas que son arrastradas por un flujo de aire caliente a través de la boquilla móvil, hacia una zona calentada donde ocurren diversas reacciones químicas. En este trabajo, se presenta la implementación de los componentes mecánicos, eléctricos y electrónicos para AACVD de manera descriptiva. El equipo y los métodos experimentales implementados se describen, junto con los criterios de automatización de la boquilla, el control de temperatura de la placa de calefactora y el sistema de nebulización. El diagrama de flujo, la secuencia lógica de la programación de control de velocidad y el análisis estadístico del control de desplazamiento de la boquilla se completó y verificó, por lo que se logró un enlace adecuado entre los diversos componentes a través de Arduino con el diseño y los criterios de automatización. Finalmente, se concluyó que los criterios y el proceso de automatización utilizados permitieron con éxito la fabricación de recubrimientos uniformes y reproducibles.

Palabras clave : instrumentación y control; depósito químico de vapor asistido por aerosol; implementación de un sistema de aspersión..

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