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Revista Colombiana de Ciencias Hortícolas
versión impresa ISSN 2011-2173
Resumen
MELO-FILHO, JOSÉ SEBASTIÃO DE et al. Aplicación de agua salobre y silicio en el crecimiento, pigmentos cloroplastídicos, fluorescencia de clorofila y producción de remolacha. rev.colomb.cienc.hortic. [online]. 2019, vol.13, n.3, pp.406-415. Epub 08-Ago-2020. ISSN 2011-2173. https://doi.org/10.17584/rcch.2019v13i3.8489.
En los últimos años el uso de aguas salinas en la agricultura es una alternativa, principalmente en virtud de la escasez hídrica. Sin embargo, las plantas no toleran altos niveles de sales, por lo que el uso de atenuadores de estrés salino puede ser una estrategia para posibilitar el uso de aguas salinas en la agricultura. En este sentido, este trabajo tiene como objetivo evaluar el efecto de aguas salinas y aplicación de silicio sobre el crecimiento, pigmentos cloroplatísdicos, fluorescencia de la clorofila a y producción de remolacha. El experimento fue conducido en un diseño de bloques al azar, en factorial 5 X 5, referente a cinco niveles de conductividad eléctrica del agua de riego (CEa): (0,5; 1,3; 3,25; 5,2 y 6 dS m-1) y cinco dosis de silicio (0,00; 2,64; 9,08; 15,52 y 18,16 mL L-1), combinadas según la matriz experimental Compuesto Central de Box, con cuatro repeticiones y tres plantas por parcela. El aumento de la conductividad eléctrica en el agua de riego reduce el crecimiento y la producción de remolacha, pero los índices de clorofila, la producción de biomasa y la fluorescencia no están influenciados por el riego con aguas salinas. La aplicación de silicio a través del suelo promueve un incremento en el crecimiento y la fluorescencia de la clorofila a, sin embargo, no reduce el efecto nocivo del estrés salino. La conductividad eléctrica en el agua de riego por encima de 0,50 dS m-1 es suficiente para afectar negativamente el cultivo de la remolacha y la dosis de 9,08 ml L-1 de silicio es la más recomendada para su aplicación.
Palabras clave : Beta vulgaris L.; abiotic estrés; potasio silicato; photosynthesis.