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<article-title xml:lang="es"><![CDATA[RESISTENCIA A LA CORROSIÓN DE LAS MULTICAPAS DE [TIN/ALTIN]n DEPOSITADAS Sobre ACERO AL CARBONO AISI 1045]]></article-title>
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<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[In this paper the corrosion resistance improvement of [TiN/AlTiN]n multilayer coatings with bilayers periods of 2, 6, 12 and 24, deposited by magnetron sputtering technique on AISI 1045 steel coating is presented. The electrochemical behavior was studied by Tafel polarization curves and impedance spectroscopy methods (EIS), under 3.5% NaCl + 0.5 M H2SO4 solution. The corrosion resistance increased gradually based of the period increase of the multilayered, finding values of corrosion rate of 18,51 mpy for the substrate without coating and 1x10-6 mpy for the multilayer coatings with 24 bilayers. The electrochemical measurements evidences the positive effect of the period increase of [TiN /AlTiN]n multilayer coatings.]]></p></abstract>
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</front><body><![CDATA[ <p align="center"><font size="4" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>RESISTENCIA A LA   CORROSI&Oacute;N DE LAS MULTICAPAS DE [TIN/ALTIN]<sub>n</sub> DEPOSITADAS Sobre ACERO AL CARBONO   AISI 1045 </b></font></p>     <p align=center><font size="3" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><i>CORROSION   RESISTANCE OF [TiN/AlTiN]<sub>n</sub> MULTILAYERS   DEPOSITED ONTO AISI 1045 STEEL</i></b></font></p>     <p align=center>&nbsp; </p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>WILLIAM APERADOR </b><i>    <br>   Ingenier&iacute;a Mecatr&oacute;nica, Universidad Militar Nueva Granada, <a href="mailto:g.ing.materiales@gmail.com">g.ing.materiales@gmail.com</a></i> </font></p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>CESAR AMAYA </b>    <br>   <i>Ingeniero de materiales, Laboratorio de Recubrimientos Duros CDT-ASTIN   SENA, <a href="mailto:canmayah@hotmail.com">canmayah@hotmail.com</a></i> </font></p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>CLAUDIA ESPAÑA </b>    <br>   <i>Ingeniera de Materiales, Pontificia Universidad Javeriana Cali, <a href="mailto:liliespa@gmail.com">liliespa@gmail.com</a></i></font></p>     <p align="center">&nbsp; </p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p align=center><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Recibido para revisar abril 20   de 2009, aceptado octubre 20 de 2009, versi&oacute;n final noviembre 3 de 2009</b></font></p>     <p align=center>&nbsp; </p> <hr>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>RESUMEN: </b>En este art&iacute;culo se presenta   el mejoramiento frente a la corrosi&oacute;n de los recubrimientos multicapas de   [TiN/AlTiN]<sub>n</sub> con periodos de 2, 6, 12 y 24 bicapas depositados   mediante la t&eacute;cnica de PVD magnetr&oacute;n Sputtering sobre acero al carbono AISI   1045. La evaluaci&oacute;n electroqu&iacute;mica se realiz&oacute; mediante las t&eacute;cnicas espectroscopia   de impedancia electroqu&iacute;mica (EIS) y curvas de polarizaci&oacute;n Tafel, en una soluci&oacute;n de 0.5M de H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub> + 3.5% wt. de NaCl.   La resistencia a la corrosi&oacute;n aument&oacute; de forma gradual en funci&oacute;n del n&uacute;mero de   bicapas en comparaci&oacute;n al sustrato encontrando valores de velocidad de   corrosi&oacute;n de 18.51 mpy para el sustrato sin recubrir y de 1x10<sup>-6</sup> mpy   para la muestra con 24 bicapas. Los resultados electroqu&iacute;micos revelan el   efecto positivo en cuanto a la protecci&oacute;n superficial del acero 1045 con el   incremento del periodo en las multicapas de [TiN /AlTiN]<sub>n</sub>.</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>PALABRAS CLAVE:</b> multicapas de [TiN/AlTiN]<sub>n</sub>,   velocidad de corrosi&oacute;n, EIS, Tafel.</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>ABSTRACT: </b>In this paper the   corrosion resistance improvement of [TiN/AlTiN]n multilayer coatings with   bilayers periods of 2, 6, 12 and 24, deposited by magnetron sputtering   technique on AISI 1045 steel coating is presented. The electrochemical behavior   was studied by Tafel polarization curves and impedance spectroscopy methods   (EIS), under 3.5% NaCl + 0.5 M H<sub>2</sub>SO<sub>4</sub> solution. The corrosion resistance increased gradually based of the period increase of the multilayered,   finding values of corrosion rate of 18,51 mpy for the substrate without coating   and 1x10<sup>-6</sup> mpy for the multilayer coatings with 24 bilayers. The   electrochemical measurements evidences the positive   effect of the period increase of [TiN /AlTiN]<sub>n</sub> multilayer coatings.</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>KEYWORDS:</b> multilayer [TiN/AlTiN]<sub>n</sub>, EIS, rate corrosion, Tafel.</font></p> <hr>     <p>&nbsp;</p>     <p><font size="3" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>1. INTRODUCCI&Oacute;N </b></font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">En la   mayor parte de los procesos industriales se ve involucrado el contacto de   fluidos de diferente naturaleza, es as&iacute; como piezas que est&aacute;n expuestas a la   acci&oacute;n de estos fluidos pueden presentar procesos de corrosi&oacute;n disminuyendo de manera acelerada su vida &uacute;til. Actualmente   los recubrimientos duros tales como los nitruros basados en metales de   transici&oacute;n depositados mediante t&eacute;cnicas como la deposici&oacute;n f&iacute;sica de vapor y   sobre diversos sustratos de acero, se est&aacute;n convirtiendo en la soluci&oacute;n de   muchos problemas de ingenier&iacute;a y entre ellos la corrosi&oacute;n, debido a su inercia   qu&iacute;mica [1][2]. Entre los nitruros mencionados tenemos el nitruro de titanio (TiN)   que depositado como monocapa mantiene una posici&oacute;n dominante en el campo de los   recubrimientos duros para mejorar la resistencia al desgaste de herramientas de   corte en mecanizado de alta velocidad [3][4]. Sin embargo este material binario   mantiene una limitada resistencia a la oxidaci&oacute;n a temperaturas por encima de 600ºC donde   se forma una capa de &oacute;xido de titanio (TiO<sub>2</sub>) [5]. Debido a la gran   diferencia de vol&uacute;menes molares entre el TiO<sub>2</sub> y el TiN, se   desarrollan tensiones compresivas en la capa de &oacute;xido lo que resulta en   delaminaci&oacute;n y en la exposici&oacute;n del nitruro no oxidado para nueva oxidaci&oacute;n. El   mejor ejemplo conocido de mejoramiento de las propiedades por la inclusi&oacute;n de   un tercer componente es el llamado nitruro de aluminio titanio (AlTiN), la   incorporaci&oacute;n de &aacute;tomos de aluminio (Al) dentro de la estructura cristalina del   nitruro de titanio (TiN) no solo incrementa la resistencia a la oxidaci&oacute;n por   medio de la formaci&oacute;n de una capa estable y compacta en la superficie sino que   tambi&eacute;n contribuye a un significativo incremento en la dureza en comparaci&oacute;n   con el nitruro binario simple [6][7]. En los &uacute;ltimos años, se han realizado   considerables esfuerzos para desarrollar recubrimientos multicomponentes como   heteroestructuras en multicapas con el fin de mejorar la resistencia al   desgaste y la oxidaci&oacute;n de los componentes recubiertos. Las mejoras se   presentan en la deposici&oacute;n alternada de dos (o m&aacute;s) capas qu&iacute;micas y/o   mec&aacute;nicamente diferentes, de tal forma que la concentraci&oacute;n de tensiones y las   condiciones para la propagaci&oacute;n de nano-grietas pueda ser controlada. Por lo   tanto la estructura de multicapas puede actuar como inhibidor de nano-grietas,   adem&aacute;s incrementar la resistencia a la fractura [8]. En este trabajo se realiz&oacute;   el estudio electroqu&iacute;mico de los recubrimientos tipo multicapas basados en [TiN/AlTiN]<sub>n</sub> expuestos a un medio agresivo en condiciones est&aacute;ticas, comparando dicho   comportamiento con el presentado   por el sustrato<i>.</i></font></p>     <p>&nbsp;</p> <font size="3" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>2. DESARROLLO EXPERIMENTAL</b></font>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Multicapas de [TiN/AlTiN]<sub>n </sub>se depositaron sobre sustratos de   acero AISI 1045, los cuales   fueron limpiados por ultrasonido en una   secuencia de etanol y acetona durante 15   minutos cada una. Los   recubrimientos fueron obtenidos mediante la t&eacute;cnica del magnetr&oacute;n sputtering   multi-blanco en r.f (13.56 MHz) en la planta piloto del CDT ASTIN, SENA   Regional Valle. Para la deposici&oacute;n de los recubrimientos, se utilizaron blancos   de 4 pulgadas de di&aacute;metro de Ti y Al con una   pureza del 99.9%. La presi&oacute;n base al interior de la c&aacute;mara de vac&iacute;o fue de   7.0x10<sup>-6</sup> mbar. Antes de iniciar la deposici&oacute;n, los sustratos   fueron sometidos a una limpieza por plasma durante 20 minutos en atm&oacute;sfera de Ar a un bias de -400V en   r.f. Durante el crecimiento, los gases de trabajo fueron una mezcla de Ar (93%) y N<sub>2</sub> (7%) con una presi&oacute;n total de trabajo de 6x10<sup>-3</sup> mbar, a una temperatura del sustrato de 300°C y un bias r.f del sustrato de -70V.   Para la deposici&oacute;n de las multicapas, el blanco de aluminio fue peri&oacute;dicamente cubierto   por el obturador, mientras el sustrato se manten&iacute;a bajo rotaci&oacute;n circular en frente de los   blancos para facilitar la formaci&oacute;n de los recubrimientos. Un esquema del sistema magnetr&oacute;n sputtering   multi-blanco utilizado en este trabajo es mostrado   en    la <a href="#fig01">Figura 1</a>. </font></p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><a name="fig01"></a><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19fig01.gif">    <br>   Figura 1. </b>Diagrama esquem&aacute;tico   del sistema magnetr&oacute;n sputtering multi-blanco r.f    <br>   </font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Figure 1. </b>Schematic diagram of the   multitarget r.f. magnetron sputtering system</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Con el fin de estudiar la influencia sobre el   comportamiento electroqu&iacute;mico de recubrimientos tipo multicapas, se depositaron   sistemas de [TiN/AlTiN]<sub>n</sub> con periodos de 2, 6, 12,   y 24 bicapas controlando los tiempos de apertura y cierre del obturador. El espesor de los recubrimientos fue obtenido   mediante un perfil&oacute;metro DEKTAK 8000 con un di&aacute;metro de punta de 12 mm   a una longitud de barrido entre 1000 -   1200 mm.   Para la muestra de 2 bicapas, el espesor fue de 3,22 ± 0,04 mm,   y dado que los recubrimientos fueron obtenidos bajo los mismos par&aacute;metros de   crecimiento y tiempo total de dep&oacute;sito, es posible afirmar que los sistemas   multicapas tienen un espesor alrededor de este valor.</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Para la evaluaci&oacute;n de   la resistencia a la corrosi&oacute;n est&aacute;tica se utiliz&oacute; un potenciostato - galvanostato, Gamry modelo PCI-4;   mediante las t&eacute;cnicas de espectroscopia de impedancia electroqu&iacute;mica (EIS) y   curvas de polarizaci&oacute;n Tafel, a temperatura ambiente, se colocaron las   probetas bajo inmersi&oacute;n   en una soluci&oacute;n 0.5 M H<sub>2</sub>SO<sub>4 </sub>+ 3.5% en peso de NaCl preparada con agua destilada, empleando una celda compuesta por un   contraelectrodo de platino, un electrodo de referencia de Ag/AgCl y como   electrodo de trabajo se utiliz&oacute; el acero AISI 1045 con y sin recubrimiento en forma de multicapas, Los diagramas de Nyquist   se obtuvieron realizando barridos de frecuencia en el rango de 0,001 Hz hasta   100 KHz, empleando una amplitud de la señal sinusoidal de 10 mV. Los diagramas   de Tafel se obtuvieron a una velocidad de barrido de 0,5 mV/s en un rango de   voltajes de -0,25V a 1V empleando un &aacute;rea expuesta de 1 cm<sup>2</sup>.</font></p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">3. RESULTADOS Y DISCUSI&Oacute;N</font></b></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>3.1 Modelamiento matem&aacute;tico de los circuitos   equivalentes    <br>   </b></font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">En este   trabajo se obtuvieron dos circuitos   equivalentes un circuito equivalente tipo Randles (<a href="#fig011">Figura 1</a>) para el acero AISI 1045 sin   recubrir y otro con 2 elementos de fase constante para   las multicapas de [TiN/AlTiN]<sub>n </sub>con periodos de 2, 6, 12, y 24 bicapas, este circuito   es el observado en la <a href="#fig02">Figura 2</a>. </font></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><a name="fig011" id="fig011"></a><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19fig011.gif">    <br>   Figura 1.</b> Circuito equivalente utilizado para ajustar   los datos de impedancia del sustrato.    <br>   </font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Figure 1. </b>Electrical   equivalent circuit used to fit impedance data of steel</font></p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><a name="fig02"></a><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19fig02.gif">    <br>   Figura 2.</b> Circuito equivalente utilizado para ajustar   los datos de impedancia de las multicapas    <br>   </font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Figure 2. </b>Electrical   equivalent circuit used to fit impedance data of multilayers</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">La   impedancia total del circuito de la <a href="#fig011">Figura 1</a>, es calculada con la combinaci&oacute;n   de circuitos en serie y en paralelo. Lo primero que se realiz&oacute; fue el c&aacute;lculo   de la impedancia para la resistencia a la soluci&oacute;n y una a la polarizaci&oacute;n   (Rp=R<sub>1</sub>) y la capacitancia de la doble capa (Cf=CPE<sub>1</sub>), lo   correspondiente a un circuito en paralelo.</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">En el   dominio de frecuencia es posible hallar la impedancia real e imaginaria.</font></p>     <p> <font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19eq004.jpg"> (1) </font></p>     <p> <font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19eq008.jpg"> (2) </font></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p> <font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19eq012.jpg"> (3) </font></p>     <p> <font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19eq016.jpg"> (4)</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Con la   ecuaci&oacute;n 1, se puede calcular el valor te&oacute;rico de los valores de la impedancia   total, este producto es de gran importancia para trabajar los diagramas de   Nyquist, en donde se trabajan la impedancia real correspondiente a los valores   de las resistencias involucradas en el proceso y la impedancia imaginaria   correspondiente a los valores de la capacitancia a la doble capa. (<a href="#tab01">Tabla 1</a>).</font></p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><a name="tab01"></a>Tabla 1.</b> Par&aacute;metros electroqu&iacute;micos usados para   ajustar los datos de impedancia para el sustrato AISI 1045 y las multicapas de   [TiN/AlTiN]<sub>n    <br>   </sub></font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Table 1.</b> Parameters used in   the fitting of impedance data for steel AISI 1045 and multilayers</font>    <br>   <img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19tab01.gif"></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Para el   c&aacute;lculo de la impedancia total del circuito de la <a href="#fig02">Figura 2</a>, se utilizaron las resistencias R<sub>1</sub> y R<sub>2</sub>, el valor   de la resistencia a la soluci&oacute;n (R<sub><font face="Symbol">W</font></sub>) no es tenido en cuenta debido a su bajo valor frente a R<sub>1</sub> y R<sub>2,</sub> el cual es despreciable en este caso, las capacitancias de la   interfase soluci&oacute;n - multicapa (CPE<sub>1</sub>) y capacitancia a la doble capa   (CPE<sub>1</sub>) son utilizadas para efectos del c&aacute;lculo de la impedancia   total, por lo tanto. </font></p>     <p> <font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19eq022.jpg"> (5)</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Al   desarrollar el circuito en serie planteado en la ecuaci&oacute;n 5 obtenemos, </font></p>     <p> <font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19eq026.jpg"> (6)</font></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Donde</font></p>     <p> <font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19eq030.jpg"> </font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Al igual que en el caso anterior,   la ecuaci&oacute;n 6, permite calcular el valor te&oacute;rico de los valores de la   impedancia total, la cual es necesaria para diagnosticar el estado de   protecci&oacute;n de las multicapas investigadas. </font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>3.2 Evaluaci&oacute;n electroqu&iacute;mica    <br>   </b></font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">En la <a href="#fig03">Figura 3</a>, se muestran   los diagramas de Nyquist correspondientes al sustrato y las multicapas de   [TiN/AlTiN]<sub>n</sub>. Se calcularon te&oacute;ricamente los valores de la   impedancia total (ecuaciones 3 y 4), las cuales son equivalentes con los de la <a href="#tab01">Tabla 1</a>; adem&aacute;s se incluyen los par&aacute;metros utilizados en   la simulaci&oacute;n. Los valores de dichos par&aacute;metros se han obtenido utilizando un   programa no lineal de m&iacute;nimos cuadrados complejos (CNLS). Los diagramas de   Nyquist para las bicapas muestran dos elementos de tiempo, el primero es el semic&iacute;rculo hallado en la regi&oacute;n de altas frecuencias,   este corresponde a la capa pasiva y/o a las propiedades diel&eacute;ctricas del   recubrimiento, un segundo semic&iacute;rculo es asociado a la interfase entre las   bicapas y el sustrato, este proceso corrosivo es hallado para las bajas   frecuencias. </font></p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><a name="fig03"></a><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19fig03.gif">    <br>   Figura 3.</b> Diagramas de Nyquist de las multicapas de   [TiN/AlTiN]<sub>n    <br>   </sub></font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Figura   3.</b> Nyquist   plots experimentation for multilayers [TiN/AlTiN]<sub>n</sub></font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Para el sustrato solamente se tiene un semic&iacute;rculo y es debido a la   capa de &oacute;xido que forma el acero con el contacto de la soluci&oacute;n agresiva al que   est&aacute; sometido. Los datos de impedancia total mejor conocida como la sumatoria   de las resistencias R<sub>1</sub>+R<sub>2</sub>, se obtiene que van aumentan­do conforme se aumenta el   n&uacute;mero de bicapas (<a href="#tab01">Tabla 1</a>), se observa adem&aacute;s que son muy superiores al   hallado en el sustrato, debido a que el electrolito es bastante agresivo   generando una velocidad de reacci&oacute;n mayor sobre el acero sin recubrimiento.</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Los curvas de polarizaci&oacute;n Tafel se muestra en la <a href="#fig04">Figura 4</a>, en donde se observa que   los potenciales de corrosi&oacute;n se desplazan hacia zonas catodicas (protecci&oacute;n), a   medida que se aumenta el n&uacute;mero de bicapas, adem&aacute;s la densidad de corriente de   corrosi&oacute;n disminuye en comparaci&oacute;n con la obtenida en el sustrato. </font></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><a name="fig04"></a><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19fig04.gif">    <br>   Figura 4.</b> Curvas de Polarizaci&oacute;n Tafel de las multicapas de [TiN/AlTiN]<sub>n    <br>   </sub></font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Figure   4.</b> Polarization curves Tafel for multilayers [TiN/AlTiN]<sub>n</sub></font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Por otra parte se   observ&oacute; que el acero recubierto con [TiN/AlTiN] el cual contiene 2 bicapas,   muestra un amplio desplazamiento hacia menores densidades   de corriente de corrosi&oacute;n, indicando as&iacute; una   menor susceptibilidad a la corrosi&oacute;n en la soluci&oacute;n analizada, lo cual puede ser   atribuido al grado de porosidades presentes, las cuales pueden producirse en el recubrimiento por fen&oacute;­menos   de nucleaci&oacute;n, durante el crecimiento generando una trayectoria de menor resistencia para el   paso del ion Cl. Recubri­mientos de AlTiN, debido a su alto contenido de Al, se pasivan generando una capa protectora que   hace que se comporten me­jor frente a fen&oacute;menos corrosivos a diferencia del   acero AISI 1045 [5]. Por otro lado, el desplazamiento de las curvas Tafel conforme   se incrementa el periodo, radica en la naturaleza de las estructuras   tipo multicapa, puesto que al aumentar el n&uacute;mero de bicapas se in­crementa el n&uacute;mero de interfaces   entre las monocapas de TiN y AlTiN, y debido a que las interfaces son zonas   donde se presentan desordenes estructurales puesto que se genera un cambio en   la orientaci&oacute;n cristalogr&aacute;fica, act&uacute;an como puntos de dispersi&oacute;n, que   dificultan la migraci&oacute;n del i&oacute;n Cl desde la superficie hacia el sustrato met&aacute;lico,   retrasando el inicio de procesos corrosivos. Como resultado del aumento del n&uacute;mero de capas alternadas   de TiN y AlTiN, para un espesor total constante de la multicapa   [5]. Esto conlleva a que la energ&iacute;a requerida para que los iones de la soluci&oacute;n migren libremente desde la superficie hacia la   interfase pel&iacute;cula/sustrato sea mayor con el aumento del n&uacute;mero de bicapas, lo que se refleja en el   aumento en la resistencia a la polarizaci&oacute;n y la disminuci&oacute;n de la velocidad a la corrosi&oacute;n [9].</font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">En la <a href="#fig05">Figura 5</a>, se observa el comportamiento de la velocidad de corrosi&oacute;n y la resistencia a   la polarizaci&oacute;n, en funci&oacute;n del n&uacute;mero de bicapas, se puede ver claramente que el menor valor de   la resistencia al efecto corrosivo se presenta en el sustrato por lo que genera   el mayor valor de velocidad a la corrosi&oacute;n (18mpy), a medida que se aumentan el   n&uacute;mero de bicapas se genera un incremento en la resistencia a la polarizaci&oacute;n,   lo que indica una significativa disminuci&oacute;n en la velocidad de corrosi&oacute;n,   llegando a valores de 1,016x10<sup>-6 </sup>mpy en las 24 bicapas. </font></p>     <p align="center"><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b><a name="fig05"></a><img src="/img/revistas/dyna/v78n165/a19fig05.gif">    <br>   Figura5.</b> Comportamiento de la velocidad de la   corrosi&oacute;n y resistencia a la polarizaci&oacute;n de los recubrimientos multicapas de   [TiN/AlTiN]<sub>n    <br>   </sub></font><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>Figure   5.</b> Behavior of the rate corrosion and   polarization resistance of multilayer coatings [TiN/AlTiN]<sub>n</sub></font></p>     <p>&nbsp;</p>     <p><font size="3" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>4. CONCLUSIONES</b></font> </p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Se   modelaron los comportamientos electroqu&iacute;micos obtenidos con el sustrato y las   multicapas, permitiendo hallar la relaci&oacute;n de la impedancia total de los   sistemas investigados. Los resultados de la espectroscopia de impedancia   electroqu&iacute;mica y las curvas de polarizaci&oacute;n Tafel indican el buen desempeño de   las multicapas, debido a que incrementan su protecci&oacute;n frente a fen&oacute;menos   altamente corrosivos, adem&aacute;s se observ&oacute;   que la tendencia es a aumentar su valor protector a medida   que se incrementa en n&uacute;mero de bicapas.</font></p>     <p>&nbsp;</p>     <p><font size="3" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>AGRADECIMIENTOS </b></font></p>     <p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">Los autores   agradecen a la direcci&oacute;n de investigaciones de la escuela   colombiana de ingenier&iacute;a - Julio Garavito y el laboratorio de recubrimientos   duros CDT-ASTIN SENA, Cali, por el financiamiento recibido   para su ejecuci&oacute;n.</font></p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif">REFERENCIAS</font></b></p>     <!-- ref --><p><font size="2" face="Verdana, Arial, Helvetica, sans-serif"><b>[1]</b> ENDRINO, J.L., FOX-RABINOVICH, J.L. AND GEY, C. Hard AlTiN, AlCrN PVD coatings for machining of austenitic stainless steel. Surface & Coatings Technology., 200, 6840-6845, 2006.     &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000079&pid=S0012-7353201100010001900001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><br>   <b>[2]</b> SOUTOA, R.M. AND ALANYALIB. H. Electrochemical characteristics of steel coated with TiN and TiAlN coatings, Corrosion Science., 42, 2201-2211, 2000.     &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000080&pid=S0012-7353201100010001900002&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><br>   <b>[3]</b> DING X-Z. Corrosion resistance of CrAlN and TiAlN coatings deposited by lateral rotating cathode arc, Thin Solid Films., 516, 5716-5720, 2008.     &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000081&pid=S0012-7353201100010001900003&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><br>   <b>[4]</b> PAYAN. H., APERADOR. W AND VARGAS. A. Estudio De La Sinergia Corrosi&oacute;n-Erosi&oacute;n De Recubrimientos Duros De TiN Y CrN Obtenidos Sobre Acero AISI 1045, Sciencia et Technica., 38, pp.177-180, 2008.     &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000082&pid=S0012-7353201100010001900004&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><br>   <b>[5]</b> CORREA. F., CAICEDO, J.C., APERADOR W., RINC&Oacute;N. C.A AND BEJARANO, G. Mejoramiento de la resistencia a la corrosi&oacute;n del acero AISI 4140 utilizando multicapas de titanio/nitruro de titanio, Rev. Fac. Ing. Univ. Antioquia N.º 46 pp. 7-14.     &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000083&pid=S0012-7353201100010001900005&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><br>   <b>[7]</b> XUAN-QUIAN. X., HUI. Y AND TONG. Z. Characterization of DC magnetron sputtering deposited thin films of TiN for SBN/MgO/TiN/Si structural waveguide. Univ. Science., 3, 472-476, 2006.     &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000084&pid=S0012-7353201100010001900006&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><br>   <b>[8]</b> SCHÄFER. H AND STOCK. H-R. Improving the corrosion protection of aluminium alloys using reactive magnetron sputtering. Corrosion Science., 47, 953-960, 2005.     &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000085&pid=S0012-7353201100010001900007&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><br>   <b>[9]</b> YATE. L, APERADOR., W CAICEDO. J. C., ESPINOZA. F. J. ZAMBRANO. G. AND MUÑOZ. J. Efecto del Voltaje Bias D.C. en las Propiedades Electroqu&iacute;micas de Pel&iacute;culas Delgadas de AlN Obtenidas por Medio de la T&eacute;cnica Magnetr&oacute;n Sputtering R.F, Revista Colombiana de F&iacute;sica., 40, 576-578, 2008. </font>&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000086&pid=S0012-7353201100010001900008&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --> ]]></body><back>
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