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<article-title xml:lang="es"><![CDATA[Diseño conceptual de una sonda Langmüir para caracterización de plasmas fríos mediante diseño estadístico de experimentos]]></article-title>
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<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[The characterization and control of plasma-assisted processes, has become increasingly urgent to adapt this kind technology to industrial contexts. This work presents the design and construction of a cold plasma characterization system by eleEctrostatic means (Langmuir probe), based on concepts of plasma physics and tools of engineering, design of experiments and conceptual design. The result of this work is a functional prototype probe and some measurements on the reactor.]]></p></abstract>
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</front><body><![CDATA[ <p align="right"><b>ART&Iacute;CULO ORIGINAL</b></p>     <p align="right">&nbsp;</p>     <p align="center"><font size="4"> <b>Dise&ntilde;o conceptual de una sonda Langm&uuml;ir para caracterizaci&oacute;n de plasmas fr&iacute;os mediante dise&ntilde;o estad&iacute;stico de experimentos</b></font></p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p align="center"><font size="3"> <b>Conceptual design of a Langm&uuml;ir probe for cold plasma characterization employing statistical design of experiments</b></font></p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p> <i><b>Victor Hugo Camargo Su&aacute;rez<sup>1</sup>, Diego Andr&eacute;s Acosta Maya<sup>2</sup>, Juan Manuel Jaramillo O<sup>1*</sup></b></i></p>       <p><sup>1</sup>Electromagnetismo  Aplicado. Escuela de Ciencias y Humanidades. Ingenier&iacute;a F&iacute;sica. Universidad  EAFIT. Cra 49 7 Sur 50, Av. Las Vegas. Medell&iacute;n, Colombia.</p>      <p><sup>2</sup>Grupo  de Investigaci&oacute;n DDP. Departamento de Ingenier&iacute;a de Procesos. Escuela de  Ingenier&iacute;as. Universidad EAFIT. Cra 49 7 Sur 50, Av. Las Vegas. Medell&iacute;n,  Colombia.</p>      ]]></body>
<body><![CDATA[<p><sup>*</sup>Autor  para correspondencia: tel&eacute;fono +57 + 4 + 2619500 ext. 9679, correo electr&oacute;nico: <a href="mailto:jjaram44@eafit.edu.co">jjaram44@eafit.edu.co</a> (J. Jaramillo) </p>      <p>&nbsp;</p>     <p align="center">(Recibido  el 12 de Septiembre de 2011. Aceptado el 18 de marzo de 2013)</p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p align="center">&nbsp;</p> <hr noshade size="1">      <p><font size="3"><b>Resumen</b></font></p>       <p>La  caracterizaci&oacute;n y control de los procesos asistidos por plasma, se ha  convertido en una necesidad cada vez m&aacute;s apremiante en el contexto industrial.  Una de las t&eacute;cnicas m&aacute;s vers&aacute;til y econ&oacute;mica es la espectroscopia por m&eacute;todos  electrost&aacute;ticos. En este trabajo se plante&oacute; el dise&ntilde;o y construcci&oacute;n de un  sistema de caracterizaci&oacute;n de plasmas fr&iacute;os por m&eacute;todos electrost&aacute;ticos (Sonda  de Langm&uuml;ir), basado en los conceptos de la f&iacute;sica de plasmas y herramientas  propias de la ingenier&iacute;a como dise&ntilde;o estad&iacute;stico de experimentos y el dise&ntilde;o  conceptual. El resultado de &eacute;ste trabajo consisti&oacute; en el dise&ntilde;o  conceptual, la construcci&oacute;n de una sonda y la verificaci&oacute;n  experimental del funcionamiento de la misma, en un reactor de plasma empleando  dise&ntilde;o de experimentos.</p>        <p><i>Palabras clave:</i> Plasma, sonda de langmuir, dise&ntilde;o conceptual, f&iacute;sica de plasmas, dise&ntilde;o estad&iacute;stico de experimentos</p>   <hr noshade size="1">      <p><font size="3"><b>Abstract</b></font></p>     <p>The characterization and control of  plasma-assisted processes, has become increasingly urgent to adapt this kind  technology to industrial contexts. This work presents the design and  construction of a cold plasma characterization system by eleEctrostatic means  (Langmuir probe), based on concepts of plasma physics and tools of engineering,  design of experiments and conceptual design. The result of this work is a  functional prototype probe and some measurements on the reactor.</p>      ]]></body>
<body><![CDATA[<p><i>Keywords: </i>Plasma, Langmuir probe, conceptual design, design of experiments, plasma physics</p>  <hr noshade size="1">      <p>&nbsp;</p>     <p>&nbsp;</p>     <p><font size="3"><b>Introducci&oacute;n</b></font></p>      <p>Un plasma es un gas  completa o parcialmente ionizado con una densidad igual de part&iacute;culas cargadas  positiva y negativamente, de modo que la carga neta del gas es neutra. Los  diagn&oacute;sticos por plasma se podr&iacute;an clasificar a muy groso modo en tres  categor&iacute;as: monitoreo remoto pasivo, no contacto activo y contacto &#91;1, 2&#93;. El  primero es especialmente empleado para estudiar los plasmas astrof&iacute;sicos como  los generados por el sol o m&aacute;s ampliamente por las estrellas. El m&eacute;todo de no  contacto activo es ampliamente aplicado a plasmas geof&iacute;sicos como la ionosfera y  los m&eacute;todos de contacto son aplicados a plasmas interplanetarios, ionosfera,  pero tambi&eacute;n a los plasma fr&iacute;os de laboratorio. Entre estos &uacute;ltimos, las  pruebas electrost&aacute;ticas son sin duda los m&aacute;s ampliamente utilizados. En este  trabajo se limitar&aacute; la aplicaci&oacute;n de las pruebas a plasmas fr&iacute;os de  laboratorio. B&aacute;sicamente, la sonda electrost&aacute;tica es un objeto conductor  insertado dentro del plasma y conectado al mundo externo a trav&eacute;s de alg&uacute;n tipo  de circuito el&eacute;ctrico. Los dos requisitos fundamentales de la prueba es que  esta debe ser capaz de permanecer inmersa en el plasma sin da&ntilde;arse y el segundo  es que ella no debe alterar el estado global del plasma. Las caracter&iacute;sticas  que se pueden obtener del plasma con la sonda son la densidad de plasma, la  temperatura electr&oacute;nica y el potencial de plasma. El resultado de este trabajo  consisti&oacute; en la construcci&oacute;n de una sonda  doble empleando el dise&ntilde;o conceptual y, una verificaci&oacute;n mediante dise&ntilde;o de  experimentos del funcionamiento de la misma en un reactor de plasma asistido  por microondas, construido en el laboratorio.</p>      <p>&nbsp;</p>     <p><font size="3"><b>Estado del arte</b></font></p>         <p>Durante  los &uacute;ltimos a&ntilde;os, la tecnolog&iacute;a de procesos asistidos por plasmas fr&iacute;os se ha  convertido gradualmente en uno de los motores de la innovaci&oacute;n tecnol&oacute;gica y ha  cobrado una gran importancia en una amplia gama de aplicaciones industriales  &#91;3&#93;. La adaptaci&oacute;n y control de esta tecnolog&iacute;a requiere un profundo  conocimiento sobre las caracter&iacute;sticas de los procesos. En este sentido, las  sondas electrost&aacute;ticas son uno de los medios de caracterizaci&oacute;n m&aacute;s utilizados,  por la relativa simplicidad en la implementaci&oacute;n y la gran cantidad de  informaci&oacute;n que es posible obtener a partir de ella &#91;2&#93;. El uso de sondas  electrost&aacute;ticas para caracterizaci&oacute;n de gases ionizados fue implementado por  primera vez por el f&iacute;sico Irving Langm&uuml;ir en el a&ntilde;o 1924 en sus trabajos con  emisi&oacute;n termoi&oacute;nica. Tanto la invenci&oacute;n y el m&eacute;todo de caracterizaci&oacute;n de  plasmas fueron patentados &#91;4&#93; en el a&ntilde;o 1969. En este documento se  establecieron formalmente las bases te&oacute;ricas y pr&aacute;cticas para la implementaci&oacute;n  de este tipo de dispositivo. En todos los sistemas de caracterizaci&oacute;n por sonda  electrost&aacute;tica pueden identificarse tres componentes fundamentales: sonda (o  sensor), circuito de polarizaci&oacute;n y procesamiento de datos (o interfaz con  usuario). Sobre estos elementos giran las discusiones presentadas por la  literatura &#91;5&#93;.</p>        <p>A  nuestro mejor saber y entender, hasta el momento no se ha reportado una  metodolog&iacute;a de dise&ntilde;o espec&iacute;fica para el desarrollo de estos componentes, ni  una validaci&oacute;n, por lo menos funcional, de los resultados obtenidos con la  sonda a partir de dise&ntilde;o estad&iacute;stico de experimentos. En este trabajo se  implementa la metodolog&iacute;a de dise&ntilde;o conceptual para la construcci&oacute;n de una  sonda doble de Langm&uuml;ir y su validaci&oacute;n funcional haciendo uso del dise&ntilde;o  estad&iacute;stico de experimentos.</p>       <p>Se  aconseja utilizar una sonda doble de Langm&uuml;ir para medir los par&aacute;metros de  plasma en vez de la sonda simple cuando se busca m&aacute;s precisi&oacute;n en las medidas,  pero especialmente cuando es dif&iacute;cil definir el electrodo de referencia o el  potencial del plasma es pobremente definido &#91;6&#93;. El arreglo de la doble sonda  permite determinar la temperatura cin&eacute;tica y la densidad num&eacute;rica de los  electrones aunque no de una medida del potencial del plasma. La sonda doble de  Langm&uuml;ir, funciona insertando dos electrodos polarizados con un potencial  conocido dentro del gas ionizado. La corriente colectada por el electrodo(s)  ser&aacute; la portadora de la informaci&oacute;n del sistema &#91;3&#93;.</p>      ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Dado que la superficie de la sonda esta polarizada con  un voltaje, esta generar&aacute; un movimiento de las part&iacute;culas cargadas que se  encuentran a su alrededor, atrayendo a su superficie las part&iacute;culas de signo  contrario al potencial de polarizaci&oacute;n, este efecto genera una corriente de la  forma como se indica en la ecuaci&oacute;n (1).</p>        <p><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07e01.gif"></p>        <p>D&oacute;nde: <i>A<sub>s</sub></i> corresponde al &Aacute;rea de la sonda, <i>v</i> a la velocidad de las cargas y <i>&rho;</i> es la densidad de part&iacute;culas. Esta  expresi&oacute;n se transforma en la ecuaci&oacute;n (2):</p>        <p><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07e02.gif"></p>        <p>Donde:  <i>&phi;</i> corresponde al potencial el&eacute;ctrico que est&aacute; definido por el voltaje de plasma <i>V<sub>p</sub></i> y el voltaje aplicado a la sonda <i>V<sub>s</sub></i> , ambos voltajes dependen del n&uacute;mero  de electrodos y la forma en la cual estos est&aacute;n distribuidos en la regi&oacute;n de  plasma. Realmente este es el potencial dado por la ecuaci&oacute;n de Poisson y hace  referencia a las cargas que est&aacute;n modificando la regi&oacute;n espacial donde se  encuentran y depende con el inverso de la distancia. Adem&aacute;s, e es la carga del electr&oacute;n, <i>m</i> la masas, <i>k</i> la constante de Boltzman (8.617x10<sup>-5</sup>  eV K<sup>-1</sup>) y  <i>T<sub>e</sub></i> la  temperatura electr&oacute;nica del plasma en <i>eV</i>.</p>        <p>La  curva caracter&iacute;stica  <i>I<sub>s</sub></i> &ndash; <i>V<sub>s</sub></i>  es sim&eacute;trica y limitada a la regi&oacute;n entre las corrientes de saturaci&oacute;n de cada  una de las prueba, como se presenta en la <a href="#Figura1">figura 1</a> donde se indica la regi&oacute;n de  saturaci&oacute;n i&oacute;nica  (<i>I<sub>s, i&oacute;nico</sub></i>) y la regi&oacute;n de saturaci&oacute;n electr&oacute;nica (<i>I<sub>s, electr&oacute;nico</sub></i>). La corriente en la sonda viene  dada por <i>I<sub>s</sub></i> y <i>V<sub>s</sub></i> es el potencial aplicado a la  sonda doble.  <i>V<sub>s</sub></i> es la  diferencia de potencial aplicado entre los dos electrodos, <i>V<sub>s1</sub></i> potencial aplicado al electrodo 1 y <i>V<sub>s2</sub></i> potencial aplicado al electrodo 2.</p>        <p align="center"><a name="Figura1"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i01.gif"></p>          <p>La  simetr&iacute;a de la curva caracter&iacute;stica est&aacute; relacionada con la semejanza de los  electrodos y su posici&oacute;n en el plasma. Si el potencial en los dos electrodos es  igual, no circular&aacute; ninguna corriente entre estos, se puede decir que ambas  sondas adquieren un potencial fluctuante y se comportan como un material  aislante. Est&aacute; condici&oacute;n corresponde al punto cero de la <a href="#Figura1">figura 1</a>. La otra  situaci&oacute;n posible es que  <i>V<sub>s1</sub></i> &lt; <i>V<sub>s2</sub></i>.  En este caso el electrodo n&uacute;mero uno esta polarizado con un potencial <i>V<sub>s1</sub></i> menor respecto al electrodo n&uacute;mero  dos polarizado con un potencial  <i>V<sub>s2</sub></i> .En  esta condici&oacute;n la corriente total fluir&aacute; en direcci&oacute;n a la sonda n&uacute;mero uno y  su magnitud ser&aacute; la suma tanto de la corrientes i&oacute;nica como la corriente  electr&oacute;nica. Esta situaci&oacute;n se presenta en el punto B, en la curva  caracter&iacute;stica de la <a href="#Figura1">figura 1</a>. La corriente sobre la sonda n&uacute;mero uno es  sim&eacute;trica a la corriente sobre la sonda numero dos solo que con direcci&oacute;n  opuesta. Adem&aacute;s, cuando  <i>V<sub>s1</sub></i> &lt; <i>V<sub>s2</sub></i>,  el electrodo n&uacute;mero uno esta polarizado con un potencial <i>V<sub>s1</sub></i> cercano al potencial del plasma y  menor respecto al electrodo n&uacute;mero dos polarizado con un potencial <i>V<sub>s2</sub></i>, bastante negativo. El electrodo  n&uacute;mero uno solo colecta electrones. En esta condici&oacute;n mitad de los electrones  que llegan al electrodo no pasan por el circuito externo en direcci&oacute;n al  electrodo dos. Luego, el sistema se localiza en el punto A de acuerdo con la <a href="#Figura1">figura 1</a>.</p>        <p>El  an&aacute;lisis de la curva caracter&iacute;stica se facilita si se cumplen las siguientes  hip&oacute;tesis:</p>       <p>&bull; Cuasi neutralidad del plasma (<i>n<sub>e</sub> = n<sub>i</sub></i>). Esto posibilita medir la densidad  de electrones a partir de la corriente i&oacute;nica en el punto de inflexi&oacute;n de la  curva caracter&iacute;stica.</p>       ]]></body>
<body><![CDATA[<p>&bull; Di&aacute;metro de la sonda es menor que  el libre camino medio de las especies cargadas e despreciable frente a las  dimensiones del plasma.</p>       <p>&bull; El radio de  la soda es mayor que la longitud de Debye.</p>       <p>&bull; La  temperatura electr&oacute;nica es mucho mayor que la temperatura i&oacute;nica (iones  positivos).</p>       <p>&bull; Existe una distribuci&oacute;n Maxwelliana  de velocidades de los electrones y de los iones, lo que permite medir la  temperatura i&oacute;nica y electr&oacute;nica, sin que sean modificadas por la presencia de  la sonda.</p>       <p>&bull; La corriente colectada del plasma  es suficientemente peque&ntilde;a, que ella no altera las propiedades del plasma en la  frontera de la sonda.</p>     <p>   Si <i>V<sub>s</sub>1</i> &lt; <i>V<sub>s2</sub></i>, la sonda n&uacute;mero uno estar&aacute;  polarizada con un potencial  <i>V<sub>s1</sub></i> menor  respecto a la sonda n&uacute;mero dos, polarizada con un potencial <i>V<sub>s2</sub></i>. Para estas condiciones la  corriente total  <i>I<sub>T</sub></i> fluir&aacute; en  direcci&oacute;n a la sonda n&uacute;mero 1 y su magnitud ser&aacute; la suma  tanto de las corrientes i&oacute;nicas, <i>i<sub>s1</sub></i> , como electr&oacute;nicas <i>i<sub>e1</sub></i>, tal como se indica en la  ecuaci&oacute;n (3).</p>        <p><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07e03.gif"></p>          <p>Si  se sustituye la ecuaci&oacute;n (2) en la (3) se encuentra la ecuaci&oacute;n (4).</p>        <p><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07e04.gif"></p>        <p>Si  se deriva la primera de las desigualdades de la ecuaci&oacute;n (4) con respecto a V,  y teniendo en cuenta que  que <i>V <sub>sl</sub></i>(<i>V<sub>s</sub></i>) = <i>V <sub>s2</sub></i>(<i>-V<sub>s</sub></i>)  se encuentra la ecuaci&oacute;n (5).</p>        ]]></body>
<body><![CDATA[<p><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07e05.gif"></p>        <p>Los  diferentes t&eacute;rminos de la ecuaci&oacute;n (5) se obtienen siguiendo el siguiente  procedimiento:</p>        <p>&bull; <img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07e00a.gif"> Este t&eacute;rmino puede extraerse de la  pendiente de la curva  <i>I<sub>s</sub></i> &ndash; <i>V<sub>s</sub></i>, donde el <i>V<sub>s1</sub></i> = <i>V<sub>s2</sub></i></p>        <p>&bull; <img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07e00b.gif"> Este t&eacute;rmino se obtiene  extrapolando la Regi&oacute;n A de la curva <i>I<sub>s</sub></i> vs <i>V<sub>s</sub></i>, hasta <i>i</i>=0.</p>        <p>&bull; Se  puede extraer  <i>T<sub>e</sub></i> despejando  este t&eacute;rmino de la ecuaci&oacute;n (5).</p>       <p>&bull; Finalmente  y conociendo  <i>T<sub>e</sub></i> se puede  encontrar  <i>n<sub>e</sub></i> de la  regi&oacute;n de saturaci&oacute;n de la curva <i>I<sub>s</sub></i> &ndash;<i> V<sub>s</sub></i>.</p>        <p>En  este trabajo, teniendo en cuenta la teor&iacute;a presentada y el tipo de reactor  sobre el cual se realizaron las medidas, se procedi&oacute; a implementar la  metodolog&iacute;a de dise&ntilde;o conceptual, con el fin de generar propuestas de dise&ntilde;o  acordes con los requerimientos t&eacute;cnicos del sistema en base a la informaci&oacute;n  disponible. Posteriormente con una propuesta de dise&ntilde;o solida se procedi&oacute; a la  implementaci&oacute;n y validaci&oacute;n de funcionalidad del dispositivo.</p>          <p>&nbsp;</p>      <p><font size="3"><b>Dise&ntilde;o conceptual</b></font></p>        <p>El  punto de partida para el dise&ntilde;o conceptual &#91;7&#93; de un sistema de caracterizaci&oacute;n  por sonda doble de Langm&uuml;ir, consiste en acotar los requerimientos t&eacute;cnicos y  de usuario del dispositivo, en relaci&oacute;n al contexto en el cual esta va a ser  usada. Para este fin se construye un PDS (Product Design Specification) como se  indica en la <a href="#Tabla1">tabla 1</a>, con el fin de definir lo que se necesita y lo que se  desea del instrumento que se pretende dise&ntilde;ar. A partir de esta informaci&oacute;n es  posible extraer los requerimientos t&eacute;cnicos del dispositivo <a href="#Tabla1">tabla 1</a>.</p>        ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="center"><a name="Tabla1"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07t01.gif" ></p>        <p>El  siguiente paso en el proceso de dise&ntilde;o consiste en el an&aacute;lisis de los flujos  que circulan por el sistema y extraer de la funci&oacute;n total del dispositivo una  estructura funcional que permita abstraer sus componentes a entidades m&aacute;s  b&aacute;sicas como se presenta en la <a href="#Figura2">figura 2</a>.</p>        <p align="center"><a name="Figura2"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i02.gif"></p>        <p>De  esta estructura funcional es posible hacer una asociaci&oacute;n de componentes que  cumplen funciones cercanas posibilitando la divisi&oacute;n del sistema en subsistemas  o portadores de funci&oacute;n, ver <a href="#Figura3">figura 3</a>. Estos subsistemas pueden analizarse por  separado para entender de manera m&aacute;s clara el comportamiento y relaciones entre  los flujos que lo atraviesan.</p>        <p align="center"><a name="Figura3"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i03.gif"></p>        <p>&bull; El  subsistema 1 corresponde espec&iacute;ficamente a la sonda. Es el material encargado  del contacto con el plasma y de la captura de las part&iacute;culas cargadas, su  funci&oacute;n depende directamente de la geometr&iacute;a y el material. </p>       <p>&bull;  El subsistema 2  transforma la informaci&oacute;n ya conocida del plasma en informaci&oacute;n &uacute;til que  permita filtrar la informaci&oacute;n obtenida por la sonda.</p>       <p>&bull;  El subsistema 3  consiste en el circuito el&eacute;ctrico encargado de polarizar la sonda y colectar la  corriente, su funci&oacute;n depende de las caracter&iacute;sticas de los componentes usados  para su construcci&oacute;n. </p>       <p>&bull;  El subsistema 4 es el encargado de  recopilar, computar y presentar los datos al usuario.</p>      <p>Una  vez identificada la forma en la que el flujo circula por el sistema, el  siguiente paso consiste en seleccionar los portadores de funci&oacute;n para cada uno  de los subsistemas. La informaci&oacute;n de los posibles portadores de funci&oacute;n es  extra&iacute;da de la revisi&oacute;n del estado del arte. En la <a href="#Tabla2">tabla 2</a> se presenta el  resumen de los posibles portadores de funci&oacute;n.</p>         ]]></body>
<body><![CDATA[<p align="center"><a name="Tabla2"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07t02.gif" ></p>        <p>Finalmente a partir de la  informaci&oacute;n de los portadores de funci&oacute;n, es posible establecer criterios de  selecci&oacute;n de portadores que lleven a la construcci&oacute;n del dispositivo con una  mayor eficiencia. En este caso se definieron estos criterios en base a: las  necesidades t&eacute;cnicas del dispositivo, la disponibilidad de los elementos de  construcci&oacute;n y costo de los mismos. La importancia de los par&aacute;metros  (significancia) se estableci&oacute; en porcentajes, y portadores de funci&oacute;n fueron  calificados en escala de 1 a 5, siendo 5 la mejor opci&oacute;n. Esta informaci&oacute;n se  presenta en la <a href="#Tabla3">tabla 3</a>.</p>        <p align="center"><a name="Tabla3"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07t03.gif" ></p>        <p>A  partir de estos par&aacute;metros y de la calificaci&oacute;n de cada uno de los elementos,  se seleccion&oacute; la soluci&oacute;n m&aacute;s adecuada para la construcci&oacute;n de la sonda que en  este caso fue &#91;8&#93;: Una sonda construida de cobre, con geometr&iacute;a cil&iacute;ndrica, el  filtrado de la se&ntilde;al por software, para amplificaci&oacute;n de se&ntilde;al se uso un  amplificador de audio y para la colecci&oacute;n de datos y comunicaci&oacute;n, se uso un  microcontrolador.</p>        <p>&nbsp;</p>      <p><font size="3"><b>Materiales y m&eacute;todos</b> </font></p>        <p>Sonda:  La sonda que se implemento se presenta en la <a href="#Figura4">figura 4</a>, y consiste en un par de  cilindros de cobre de 0.61 mm de di&aacute;metro, encapsulados individualmente en  capilares de vidrio. Los capilares fueron introducidos en un tubo vidrio de  di&aacute;metro mayor, 3mm. Para garantizar el aislamiento electromagn&eacute;tico fue usada  una l&aacute;mina de aluminio ubicada en la cara interna del tubo de vidrio.</p>        <p align="center"><a name="Figura4"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i04.gif"></p>        <p>Circuito de Polarizaci&oacute;n: La implementaci&oacute;n del  circuito de polarizaci&oacute;n se realiz&oacute; usando el amplificador LM3886 en su  configuraci&oacute;n t&iacute;pica, con una ganancia de 1:20 y desactivando su funci&oacute;n de  Mute. Se aliment&oacute; el circuito con un voltaje de &plusmn;40V y como se&ntilde;al de entrada  una funci&oacute;n rampa con una frecuencia de 20Hz y voltaje pico a pico de 2V. La  salida de este amplificador fue usada como voltaje de polarizaci&oacute;n de una de  las sondas. Para medir la corriente se emple&oacute; una resistencia de carga de 560&Omega;  conectada entre una de las sondas y la tierra del circuito de polarizaci&oacute;n.</p>        <p>Para  garantizar el aislamiento el&eacute;ctrico del sistema fueron usados dos  amplificadores de aislamiento AD202 configurados en modo de ganancia unitaria,  ubicados entre la se&ntilde;al de entrada y la salida de la resistencia de carga.</p>        ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Recolecci&oacute;n  y Procesamiento de Datos: Para la recolecci&oacute;n de datos fue usado un conversor  anal&oacute;gico digital de 10 bits integrado en un micro controlador de la serie  PIC16F876a fabricado por la compa&ntilde;&iacute;a Microchip. Este conversor consigue  resolver valores en el rango entre 0-5V. Por lo tanto, para resolver valores  con polaridad negativa es necesaria una etapa extra que permita agregar un  offset a la se&ntilde;al. Esta etapa fue implementada haciendo uso de amplificadores  operacionales.</p>        <p>Para  garantizar una buena frecuencia de muestreo y la adquisici&oacute;n simultanea de los  datos, se emplearon dos microcontroladores sincronizados entre s&iacute; por la misma  se&ntilde;al de disparo y la misma se&ntilde;al de reloj. La <a href="#Figura5">figura 5</a>, presenta el  esquem&aacute;tico del circuito realizado.</p>            <p align="center"><a name="Figura5"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i05.gif"></p>            <p>La  lectura de los datos obtenidos se realiz&oacute; por medio de una interface en  LabView<sup>&reg;</sup> que se encarga de leer estos del puerto serial y enviarlos a un  archivo de texto en formato est&aacute;ndar. Para la interpretaci&oacute;n y tratamiento de  los datos se us&oacute; el software R en su versi&oacute;n 2.13 para la plataforma Windows<sup>&reg;</sup>.</p>          <p>Reactor  de Plasma: El equipo empleado para validar el funcionamiento del sistema de  caracterizaci&oacute;n, consiste en un reactor de proceso basado en un horno  microondas convencional, al cual fue adaptado una c&uacute;pula de borosilicato en la  parte interna y una zona de proceso, construida de acero inoxidable en su parte  inferior. La informaci&oacute;n detallada de este sistema se encuentra en la patente  en tr&aacute;mite de modelo de invenci&oacute;n10-027016 COL. Este sistema cuenta con un Mass  Flow Sierra 810 para el control de ingreso de gases a la c&aacute;mara. Para la  extracci&oacute;n de masa cuenta con una bomba mec&aacute;nica Edwars y para la medici&oacute;n de  la presi&oacute;n cuenta con un sensor pirani.</p>         <p> M&eacute;todos  Experimentales: Para corroborar el buen funcionamiento de la sonda es necesario  realizar algunas medidas, y dado que no se cuenta con otro sistema de referencia, se emple&oacute; un test de hip&oacute;tesis apoyado en el dise&ntilde;o estad&iacute;stico de  experimentos, el cual se presenta a seguir.</p> 	         <p><b><i>Dise&ntilde;o Factorial Completo 2<sup>k</sup></i></b></p>          <p>El  objetivo es comprobar que al variar algunos de los factores, efectivamente la  medida se ve afectada. Para realizar el tratamiento tomaremos como factores  controlables, la presi&oacute;n (<i>P</i>) y el voltaje de prueba (<i>V<sub>P</sub></i>) y como factor dependiente la  temperatura electr&oacute;nica (<i>T<sub>e</sub></i>). Estos factores son remplazados en  el modelo de dise&ntilde;o de experimentos 2<sup>2</sup> con el prop&oacute;sito de  contrastar las siguientes hip&oacute;tesis nula y alterna para cada uno de los  factores involucrados (presi&oacute;n y voltaje):</p>          <p>H<sub>0</sub>:  P=0, V=0 </p>          <p>H<sub>A</sub>: P, V&ne;0</p>          ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Es  decir, en la hip&oacute;tesis nula H<sub>0</sub> la presi&oacute;n y el voltaje no var&iacute;an  mientras que en la hip&oacute;tesis alterna H<sub>A</sub> presi&oacute;n y voltaje var&iacute;an.  Para cada uno de los tratamientos se realizaron 4 r&eacute;plicas aleatorias  implicando finalmente 16 corridas del sistema para obtener la informaci&oacute;n  necesaria.</p>          <p>La  presi&oacute;n del sistema se defini&oacute; como Factor A y voltaje de prueba como Factor B,  los niveles son presentados en la <a href="#Tabla4">tabla 4</a>.</p> 	       <p align="center"><a name="Tabla4"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07t04.gif" ></p> 	       <p>&nbsp;</p>      <p><font size="3"><b>An&aacute;lisis de resultados</b> </font></p> 	       <p>Con  relaci&oacute;n a la Sonda: Para este elemento se realizaron mediciones cuantitativas  de resistividad y de estabilidad dimensional en puntos estrat&eacute;gicos de la sonda  (regi&oacute;n de contacto con el plasma, conexi&oacute;n con el circuito de medida), antes y  despu&eacute;s de cada una de las corridas del experimento. Esto con el fin de  comprobar que efectivamente luego de cada medida estos valores permanecen  constantes. Los valores in&iacute;ciales de resistencia y di&aacute;metro antes de iniciar  los experimentos y despu&eacute;s de los mismos se mantuvieron, es decir la  resistencia de la sonda permaneci&oacute; en 0.06 &#8486; y el di&aacute;metro de la misma en 0.61 <i>mm</i></p>        <p>Con  relaci&oacute;n al circuito de polarizaci&oacute;n: Para este elemento se realizaron medidas  cuantitativas de ganancia y comparaciones cualitativas de la distorsi&oacute;n de la  se&ntilde;al, estos controles se realizaron para ambos amplificadores. Para estas  medidas fue usado un generador de se&ntilde;al Agilent 33220A y un osciloscopio  digital Fluke 125. Para el amplificador de potencia <i>LM3886</i> se obtuvieron los resultados  presentados en las <a href="#Figura6">figuras 6</a> <a href="#Figura6">(a)</a> y <a href="#Figura6">(b)</a>  respectivamente. De las medidas  realizadas se concluy&oacute; que el sistema posee una relaci&oacute;n de ganancia de  aproximadamente 1:20&plusmn;0.6%.</p>           <p align="center"><a name="Figura6"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i06.gif"></p>             <p>Para  el amplificador de aislamiento AD202 se obtuvieron los resultados presentados  en la <a href="#Figura7">figura 7</a> <a href="#Figura7">(a)</a> y <a href="#Figura7">(b)</a> respectivamente. De las medidas realizadas se concluy&oacute;  que esta parte del sistema posee una relaci&oacute;n de ganancia de aproximadamente  1:1&plusmn;0.2%.</p>        <p align="center"><a name="Figura7"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i07.gif"></p>        ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Sistema  de recolecci&oacute;n y procesamiento de dato: Se realizaron medidas cuantitativas de  tiempo de respuesta. Para este fin se ingresaron al sistema se&ntilde;ales sinusoidales  con frecuencias de 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70 y 80Hz usando un generador de  se&ntilde;ales Agilent 33220A y posteriormente se calcul&oacute; el n&uacute;mero de muestras entre  cada uno de los periodos de la se&ntilde;al. Para este elemento se obtuvo un tiempo  respuesta promedio de 4.42 ms con una desviaci&oacute;n est&aacute;ndar de  0.044 ms. Seg&uacute;n el Teorema de Nyquist el ancho de banda del sistema es 113,12Hz, sin embargo este mismo teorema  predice que para reconstruir una se&ntilde;al son necesarias 10 muestras por periodo,  por lo tanto el sistema es capaz de reconstruir se&ntilde;ales de hasta 22.6Hz.</p>      <p>Reactor de plasma: La c&aacute;mara de plasma fue evacuada  hasta alcanzar una presi&oacute;n de fondo de 7,8 x 10<sup>-3</sup> Torr,  posteriormente se estableci&oacute; un flujo de arg&oacute;n hasta alcanzar una presi&oacute;n de  3.5 x 10<sup>-1</sup> Torr (flujo 10 sccm) y 5.5 x 10<sup>-1</sup>  Torr (flujo de 20 sccm) respectivamente. La potencia fue aplicada al sistema  durante 20 segundos y en cada una de las medidas &eacute;sta se mantuvo constante. La  sonda fue ubicada dentro del reactor, cerca de una de las paredes de la c&aacute;mara,  esta fue mantenida en la misma posici&oacute;n durante todas las medidas. La sonda fue  polarizada con voltajes que se variaron entre &plusmn;307 y &plusmn;407. Las curvas obtenidas  son semejantes a las reportadas en la literatura, <a href="#Figura9">figura 9</a> <a href="#Figura9">(a)</a> y <a href="#Figura9">(b</a>, sin  embargo, en algunos de los tratamientos no se alcanza a explorar la regi&oacute;n de  saturaci&oacute;n, como por ejemplo los tratamientos <i>a<sup>1</sup>b<sup>1</sup></i> y <i>a<sup>0</sup>b<sup>0</sup></i> mostrados en la <a href="#Figura8">figura 8</a> <a href="#Figura8">(a)</a> y <a href="#Figura8">(b</a> respectivamente.</p>        <p align="center"><a name="Figura8"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i08.gif"></p>      <p align="center"><a name="Figura9"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07i09.gif"></p>        <p>Este  efecto es debido a que el voltaje de polarizaci&oacute;n de las sondas en ese caso no  fue lo suficientemente alto para alcanzar estas regiones. </p>      <p>A  partir de los resultados se realiz&oacute; el test de hip&oacute;tesis, de acuerdo con la  <a href="#Tabla5">tabla 5</a>. En este experimento se tienen tres grados de libertad para cada  tratamiento</p>         <p align="center"><a name="Tabla5"></a><img src="img/revistas/rfiua/n67/n67a07t05.gif" ></p>          <p>Los  efectos estandarizados est&aacute;n presentados en el gr&aacute;fico de Pareto, con un  coeficiente de confianza &alpha; del 5.0% en la <a href="#Figura9">figura 9</a>.</p>       <p>&nbsp;Del gr&aacute;fico de Pareto es posible concluir:</p>       <p>&bull; El &uacute;nico factor  que presenta efectos significativos sobre el sistema en este caso es el A, que corresponde  a la presi&oacute;n del sistema.</p>       ]]></body>
<body><![CDATA[<p>&bull; El factor B no es  significativo estad&iacute;sticamente.</p>       <p>&bull; La interacci&oacute;n  entre A y B combinados (AB), es estad&iacute;sticamente significativa. No obstante  esto puede deberse a la alta dependencia a la presi&oacute;n (A).</p>      <p>&nbsp;</p>        <p><font size="3"><b>Conclusiones</b> </font></p>         <p>El  modelo matem&aacute;tico del dise&ntilde;o de experimentos fue usado para la interpretaci&oacute;n  de los datos y arroj&oacute; resultados plausibles en las medidas de temperatura  electr&oacute;nicas del sistema (i.e., la temperatura electr&oacute;nica es altamente  dependiente de la presi&oacute;n). Es necesario profundizar en la interacci&oacute;n entre la  presi&oacute;n y el voltaje aplicados a la sonda para minimizar &eacute;sta en la medici&oacute;n de  la temperatura electr&oacute;nica. Aunque estos resultados no fueron corroborados con  otros m&eacute;todos, el test de hip&oacute;tesis planteado valida el comportamiento predicho  por el modelo a la luz de la f&iacute;sica del plasma.</p>         <p>La  implementaci&oacute;n del sistema de adquisici&oacute;n de datos basada en  micro-controladores mostr&oacute; resultados aceptables para esta aplicaci&oacute;n a un  costo considerablemente bajo comparado con otro tipo de soluciones.</p>         <p>La  implementaci&oacute;n del sistema de amplificaci&oacute;n basada en amplificadores de audio  convencionales, present&oacute; resultados satisfactorios para la aplicaci&oacute;n, sin  embargo, estos est&aacute;n limitados por su potencia de trabajo, haciendo que su uso  este limitado para sistemas de plasma de baja potencia.</p>         <p>El  dise&ntilde;o conceptual permiti&oacute; abordar el sistema como un todo y encontrar una  soluci&oacute;n al problema planteado, optimizando los costos sin sacrificar los  requerimientos t&eacute;cnicos del dispositivo, esta t&eacute;cnica podr&iacute;a ser utilizada para  el futuro dise&ntilde;o de sistemas de sonda electrost&aacute;tica m&aacute;s espec&iacute;ficos.</p>          <p>&nbsp;</p>       <p><font size="3"><b>References</b> </font></p>      ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p>1. R. Merlino.  ''Understanding Langmuir probe current- voltage characteristics''. <i>American Journal  Physics</i>. Vol.  75. 2007. pp. 1078-1085.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000123&pid=S0120-6230201300020000700001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>       <!-- ref --><p>2. V. Demidov, S. Ratynskaia, K.  Rypdal. ''Electric probes for plasmas: The link between theory and instrument''. Review of  scientific instruments. Vol. 73. 2002. pp. 3409-3439.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000125&pid=S0120-6230201300020000700002&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>       <!-- ref --><p>3. J. Roth. ''Industrial  plasma engineering''. <i>Industrial plasma engineering</i>. Vol. 2. Ed. IOP  Publishing. London, England. 2003.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000127&pid=S0120-6230201300020000700003&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>       <!-- ref --><p>4. J. Grey. ''Method and device for determining  properties of an ionized gas''. US. Patent No. 3459039. August 5, 1969.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000129&pid=S0120-6230201300020000700004&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>       <!-- ref --><p>5. A. Azooz. ''Analog Data  Acquisition for Obtaining I-V Characteristics Using Sound Cards. <i>Computing in  Science and Engineering</i>. Vol. 8. 2006. pp. 10-15.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000131&pid=S0120-6230201300020000700005&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>       ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p>6. R. Carnile, T. Ariz, S. Ghea.  ''Langm&uuml;ir probe system for radio frequency excited plasma processing  system''. U.S. Invention patent No. 5339039. August 16, 1994.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000133&pid=S0120-6230201300020000700006&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>       <!-- ref --><p>7. G. Rodr&iacute;guez. <i>Artefactos:  Dise&ntilde;o Conceptual</i>.  Ed. Universidad EAFIT. Medell&iacute;n, Colombia. 2003.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000135&pid=S0120-6230201300020000700007&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>       <!-- ref --><p>8. V. Camargo, J. Jaramillo. <i>Implementaci&oacute;n de un Sistema de  Caracterizaci&oacute;n de Plasma por Sonda de Langmuir</i>. Ed. Universidad EAFIT. Medellin,  Colombia. 2010.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000137&pid=S0120-6230201300020000700008&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>        <p>&nbsp;</p>      ]]></body><back>
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<page-range>1078-1085</page-range></nlm-citation>
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