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<article-title xml:lang="pt"><![CDATA[MODÉLISATION CONCEPTUELLE D´UNE UNITÉ DE FABRICATION MICROÉLECTRONIQUE]]></article-title>
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<institution><![CDATA[,Universidad de La Sabana Director del programa de Administración de Mercadeo y Logística Internacionales ]]></institution>
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<abstract abstract-type="short" xml:lang="es"><p><![CDATA[La modelación de los sistemas de producción es una tarea difícil debido al número y diversidad de variables que deben tenerse en cuenta y a la complejidad de las relaciones entre dichas variables. En este artículo, nos interesamos en el estudio de una unidad completamente automatizada para la fabricación de "wafers" semiconductores (llamada "fab"). En la literatura, el análisis se realiza comúnmente empleando modelos de simulación de eventos discretos, pero esos trabajos no presentan una verdadera conceptualización del modelo empleado. El objetivo de este artículo es conceptualizar, por medio de metodologías formales de modelación, todos los componentes de una planta de fabricación microelectrónica: en el nivel macro, el sistema físico de producción y su sistema de control, así como, en el nivel micro, el proceso de fabricación. Estos enfoques nos ayudarán a identificar los objetos del modelo y sus interacciones para permitir así el desarrollo de un programa de simulación para analizar el funcionamiento dinámico del sistema.]]></p></abstract>
<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[The modelling of industrial systems is a very hard task because of both the number and diversity of parameters to take into account, and the complex relations between these parameters. In this paper, we are interested on the study of a fully automated Integrated Circuit (IC) semiconductor manufacturing plant (fab). In the semiconductor literature, fab behaviour analysis has very often been performed using discrete-event simulation models, but little work has been devoted to the conceptualisation of the modelling approach. Other works focus on the analysis of single parts of the fab, by simplifying the relations between its components. In such a context, the aim of this paper is to use formal methodologies to model all the components of a wafer fab, that is, its physical and control systems, as well as the fabrication process. This model specification can then be used to build a simulation model for the dynamic factory behaviour analysis.]]></p></abstract>
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</front><body><![CDATA[  <font face="verdana" size="2">     <p align="center"><b><font size="4">MOD&Eacute;LISATION CONCEPTUELLE D&acute;UNE UNIT&Eacute; DE FABRICATION MICRO&Eacute;LECTRONIQUE</font></b></p>     <p align="center">&nbsp;</p>     <p><b>Jairo R. Montoya-Torres*</b></p>     <p>* Doctor en Ingenier&iacute;a Industrial, &Eacute;cole des Mines de Saint-&Eacute;tienne y Universit&eacute; Jean Monnet, Saint-&Eacute;tienne, Francia. Master of Science in Industrial Engineering and Management, Institut National Polytechnique de Grenoble, Francia. Ingeniero Industrial, Universidad del Norte, Barranquilla. Profesor Asociado y Director del programa de Administraci&oacute;n de Mercadeo y Log&iacute;stica Internacionales, Universidad de La Sabana.</p> Art&iacute;culo recibido 6-XII-2006. Aprobado 27-III-2007    <p> Discusi&oacute;n abierta hasta diciembre de 2007 <hr size="1" />     <p><b><font size="3">R&Eacute;SUM&Eacute;</font></b></p>     <p>La mod&eacute;lisation des systèmes de production est difficile en raison du nombre et de la diversit&eacute; des paramètres à prendre en compte et de la complexit&eacute; des relations entre ces paramètres. Dans cet article, nous nous int&eacute;ressons à l&acute;&eacute;tude d&acute;une unit&eacute; complètement automatis&eacute;e de fabrication de wafers semi-conduc-teurs (fab). Dans la litt&eacute;rature, leur analyse est très souvent r&eacute;alis&eacute;e en utilisant des modèles de simulation à &eacute;v&eacute;nements discrets, mais ces travaux ne pr&eacute;sentent pas une v&eacute;ritable conceptualisation du modèle utilis&eacute;. L&acute;objectif de cet article est de conceptualiser, à travers des m&eacute;thodologies formelles, tous les composants d&acute;une unit&eacute; de production micro&eacute;lectronique: au niveau macro, le système physique de production et son système de supervision, ainsi que, au niveau micro, le processus de fabrication. Ces approches nous aideront à identifier les objets du modèle et leurs interactions permettant ensuite de d&eacute;velopper un programme de simulation pour l&acute;analyser du fonctionnement dynamique du system.</p> </font>     <p><font size="2" face="verdana"><b><font size="3">MOTS-CL&Eacute;S:</font></b> mod&eacute;lisation; semi-conducteurs; process-interaction; r&eacute;seaux de Petri.</font></p> <font face="verdana" size="2"> <hr size="1" />     <p><b><font size="3">RESUMEN</font></b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>La modelaci&oacute;n de los sistemas de producci&oacute;n es una tarea dif&iacute;cil debido al n&uacute;mero y diversidad de variables que deben tenerse en cuenta y a la complejidad de las relaciones entre dichas variables. En este art&iacute;culo, nos interesamos en el estudio de una unidad completamente automatizada para la fabricaci&oacute;n de “wafers” semiconductores (llamada “fab”). En la literatura, el an&aacute;lisis se realiza com&uacute;nmente empleando modelos de simulaci&oacute;n de eventos discretos, pero esos trabajos no presentan una verdadera conceptualizaci&oacute;n del modelo empleado. El objetivo de este art&iacute;culo es conceptualizar, por medio de metodolog&iacute;as formales de modelaci&oacute;n, todos los componentes de una planta de fabricaci&oacute;n microelectr&oacute;nica: en el nivel macro, el sistema f&iacute;sico de producci&oacute;n y su sistema de control, as&iacute; como, en el nivel micro, el proceso de fabricaci&oacute;n. Estos enfoques nos ayudar&aacute;n a identificar los objetos del modelo y sus interacciones para permitir as&iacute; el desarrollo de un programa de simulaci&oacute;n para analizar el funcionamiento din&aacute;mico del sistema.</p> </font>     <p><font size="3" face="verdana"><b>PALABRAS CLAVE:</b></font><font size="2" face="verdana"> modelaci&oacute;n; semiconductores; process-interaction; redes de Petri.</font></p> <font face="verdana" size="2"> <hr size="1" />     <p><b><font size="3">ABSTRACT</font></b></p>     <p>The modelling of industrial systems is a very hard task because of both the number and diversity of parameters to take into account, and the complex relations between these parameters. In this paper, we are interested on the study of a fully automated Integrated Circuit (IC) semiconductor manufacturing plant (fab). In the semiconductor literature, fab behaviour analysis has very often been performed using discrete-event simulation models, but little work has been devoted to the conceptualisation of the modelling approach. Other works focus on the analysis of single parts of the fab, by simplifying the relations between its components. In such a context, the aim of this paper is to use formal methodologies to model all the components of a wafer fab, that is, its physical and control systems, as well as the fabrication process. This model specification can then be used to build a simulation model for the dynamic factory behaviour analysis.</p> </font>     <p><font size="2" face="verdana"><b><font size="3">KEY WORDS:</font></b> modelling; semiconductors; process-interaction approach; Petri nets.</font><font face="verdana" size="2"></font></p> <font face="verdana" size="2"><hr size="1" />     <p><b><font size="3">1. INTRODUCTION</font></b></p>     <p>La mod&eacute;lisation des systèmes de production à des fins de dimensionnement et d&acute;&eacute;valuation de performance est difficile en raison du nombre et de la diversit&eacute; des paramètres à prendre en compte et de la complexit&eacute; des relations entre ces paramètres. En particulier, dans la fabrication de wafers semi-conducteurs, la complexit&eacute; de la mod&eacute;lisation du processus de production est due principalement au très grand nombre d&acute;op&eacute;rations à r&eacute;aliser sur un même produit, avec des passages multiples sur une même s&eacute;quence de postes. L&acute;analyse de strat&eacute;gies de gestion de la production dans les unit&eacute;s micro-&eacute;lectroniques n&eacute;cessite donc imp&eacute;rativement au pr&eacute;alable une bonne mod&eacute;lisation du système de fabrication. Un bon modèle ne sert pas uniquement à faciliter l&acute;utilisation du système de gestion, mais &eacute;galement à suivre de façon efficace le statut des lots et des machines dans les ateliers, ce qui permettra à la fois de choisir la bonne strat&eacute;gie pour le pilotage en temps r&eacute;el de la production et du transport de lots, et de mettre en œuvre une d&eacute;marche formelle d&acute;optimisation de la gestion du système.</p>     <p>Cet article fait partie d&acute;une d&eacute;marche d&acute;analyse et d&acute;optimisation de la performance industrielle dans la fabrication de semi-conducteurs. Celle-ci &eacute;tant compos&eacute;e de plusieurs &eacute;tapes, notre objectif ici est de conceptualiser, à l&acute;aide de m&eacute;thodologies formelles de mod&eacute;lisation, tous les composants d&acute;une unit&eacute; de production de wafers semi-conducteurs afin de mieux comprendre les interactions entre ces composants et ainsi mettre en place une m&eacute;thodologie d&acute;optimisation.</p>     <p>Cet article est organis&eacute; comme suit. Dans la section 2 nous pr&eacute;sentons une brève description du pro-cessus de fabrication de wafer semi-conducteur. Cette pr&eacute;sentation est essentielle pour bien comprendre sa nature complexe et l&acute;importance de disposer de modè-les du système permettant son analyse et optimisation. L&acute;approche m&eacute;thodologique, ainsi que l&acute;objectif de cet article est d&eacute;crit dans la section 3. La section 4 pr&eacute;sente le niveau macro de notre modèle conceptuel, c&acute;est-à-dire, la mod&eacute;lisation du système physique et du système de supervision. Le modèle du processus de fabrication de wafers est d&eacute;crit dans la section 5. L&acute;article se termine dans la section 5 avec la pr&eacute;sentation des conclusions et quelques perspectives de travail.</p>     <p><b><font size="3">2. LA FABRICATION DES WAFERS</font></b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>La fabrication des composants &eacute;lectroniques, que l&acute;on trouve sur les cartes à puces, les cartes m&eacute;-moires et les constituants de la microinformatique (microprocesseurs), est r&eacute;alis&eacute;e aujourd&acute;hui sur des substrats de silicium (wafers) de 200 et 300 mm de diamètre. Ce processus de fabrication est très com-plexe en termes de gestion des op&eacute;rations et de la production. Dans cette section, nous pr&eacute;sentions d&acute;abord une description g&eacute;n&eacute;rique de la fabrication de wafers. Ensuite, nous nous focalisons sur les aspects de cet environnement industriel qui font de la gestion des op&eacute;rations particulièrement difficile dans la pratique.</p>     <p><b>2.1 Description g&eacute;n&eacute;rique du processus de fabrication</b></p>     <p>Le processus de fabrication de wafers semi-conducteurs consiste en une longue succession d&acute;&eacute;tapes très diff&eacute;rentes. Ces &eacute;tapes peuvent être sch&eacute;matis&eacute;es par une succession d&acute;empilements de mat&eacute;riaux en couches minces sur un support de silicium. Certains mat&eacute;riaux sont pr&eacute;sents de façon très localis&eacute;e, alors que d&acute;autres sont en film quasi-ment continus. Chaque mat&eacute;riau a une application pr&eacute;cise: di&eacute;lectrique pour l&acute;isolation, conducteurs pour les interconnexions, barrières de diffusion, passivation, etc. Même si les technologies de fabrication des composants &eacute;lectroniques ont beaucoup &eacute;volu&eacute; depuis les ann&eacute;es 1960, certains principes ont &eacute;t&eacute; conserv&eacute;s. Bien entendu, la technologie est subor-donn&eacute;e aux contraintes qui r&eacute;sultent des propri&eacute;t&eacute;s fondamentales des semi-conducteurs. Les conditions de fabrication peuvent varier d&acute;une compagnie à une autre car les proc&eacute;d&eacute;s utilis&eacute;s par chaque fabricant d&eacute;pendent du produit fabriqu&eacute; et de la technologie utilis&eacute;e. Le <a href="#t1">tableau 1</a> r&eacute;sume les principaux proc&eacute;d&eacute;s et leur description.</p>     <p>    <center><a name="t1"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02t1.jpg" /></a></center>  </p>    <p>De manière g&eacute;n&eacute;rique, la fabrication d&acute;une puce sur une plaquette de silicium consiste en plu-sieurs types de proc&eacute;d&eacute;s. Leur but est d&acute;ajouter, de modifier ou d&acute;enlever des couches de mat&eacute;riaux sur certaines r&eacute;gions de la surface de la plaquette (appel&eacute;e wafer lors du processus de fabrication). Les proc&eacute;d&eacute;s qui ajoutent des couches sont la d&eacute;position (chimique ou physique) et l&acute;oxydation thermique. Les proc&eacute;d&eacute;s qui modifient les couches sont la diffusion et l&acute;implantation ionique. Le proc&eacute;d&eacute; de gravure est utilis&eacute; pour enlever du mat&eacute;riau. Un proc&eacute;d&eacute; appel&eacute; photo-lithographie est appliqu&eacute; pour diff&eacute;rencier les r&eacute;gions qui seront concern&eacute;es par l&acute;un ou l&acute;autre des proc&eacute;d&eacute;s.</p>     <p>Une fois le wafer termine toutes les op&eacute;rations de sa gamme, seules les puces de bonne qualit&eacute; sont utilisables par la suite. Un wafer comportant de nombreux circuits identiques doit être d&eacute;coup&eacute;, puis chaque puce &eacute;l&eacute;mentaire sera mont&eacute;e sur un support (grille multipatte) et enfin, après soudure des liaisons composant-pattes de sortie, le com-posant sera encapsul&eacute; (packaging). Le produit fini doit ensuite passer par une &eacute;tape d&acute;inspection qui mesure les caract&eacute;ristiques de ses performances sous diff&eacute;rentes contraintes. Une fois ce test r&eacute;ussi, le circuit int&eacute;gr&eacute; peut être envoy&eacute; au client. Dans cet article, nous nous int&eacute;ressons à l&acute;&eacute;tape de fabrication des wafers semi-conducteurs. Comme nous avons vu, cette &eacute;tape commence avec les plaquettes de silicium vierges et se termine juste avant le test et le d&eacute;coupage de chaque wafer en puces.</p>     <p><b>2.2 Complexit&eacute; pour la gestion des op&eacute;rations</b></p>     <p>La gestion des op&eacute;rations fait r&eacute;f&eacute;rence à la gestion du flux des produits et aux op&eacute;rations de transformation des matières premières en produits finis. Dans une unit&eacute; de fabrication de semi-conducteurs, il y a plusieurs facteurs qui en font un environ-nement particulièrement difficile. Le lecteur int&eacute;ress&eacute; peut se r&eacute;f&eacute;rer aux travaux de Hogg <i>et al. </i>(1991) ou Uzsoy <i>et al. </i>(1992, 1994) pour une discussion d&eacute;taill&eacute;e sur ce sujet. Cette section pr&eacute;sente les principaux aspects li&eacute;s à cette complexit&eacute;.</p>     <p>Comme expliqu&eacute; pr&eacute;c&eacute;demment, le proces-sus de fabrication de wafers est r&eacute;alis&eacute; couche par couche. La r&eacute;alisation de chaque couche n&eacute;cessite l&acute;ex&eacute;cution de plusieurs &eacute;tapes individuelles (photo-lithographie, gravure, etc.). De plus, beaucoup de ces &eacute;tapes sont r&eacute;p&eacute;t&eacute;es plusieurs fois. Les machines utilis&eacute;es pour les ex&eacute;cuter sont très coûteuses et ne sont donc pas multipli&eacute;es dans les ateliers. Ainsi, les lots doivent passer plusieurs fois sur une même s&eacute;-quence de machines. Le produit fini peut donc être vu comme &eacute;tant un &laquo; sandwich multi-couches &raquo;. Les systèmes de fabrication dans lesquels les lots doivent visiter plusieurs fois les mêmes machines à des &eacute;tapes diff&eacute;rentes de la gamme op&eacute;ratoire sont appel&eacute;s li-gnes re-entrantes (Kumar, 1994), comme illustr&eacute; dans la <a href="#f1">figure 1</a>. La principale cons&eacute;quence du caractère re-entrant est que des wafers à diff&eacute;rents stades du cycle de fabrication sont en comp&eacute;tition pour la même machine. De cette façon, les plaquettes passent une grande partie de leur temps soit en attente d&acute;une machine, soit dans une activit&eacute; de transport entre deux op&eacute;rations, au lieu d&acute;être effectivement trait&eacute;es sur une machine. Cette caract&eacute;ristique principale engendre des problèmes d&acute;ordonnancement et de gestion des op&eacute;rations particulièrement difficile dans la pratique et th&eacute;oriquement impossible à r&eacute;soudre (i.e. problème d&acute;instabilit&eacute; du système re-entrant) (Kumar, 1994 ; Kumar et Kumar, 2001).</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>    <center><a name="f1"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f1.jpg" /></a></center> </p>     <p>En plus de la nature re-entrante du processus de fabrication de wafers, d&acute;autres facteurs rendent la gestion des op&eacute;rations particulièrement difficile dans la pratique (Kumar, 1994 ; Uzsoy <i>et al., </i>1992, 1994 ; Johri, 1993 ; Duenyas <i>et al., </i>1994):</p>     <p>- Rendements al&eacute;atoires: Les rendements du pro-cessus de fabrication sont incertains et peuvent varier du fait de problèmes sur les &eacute;quipements de production ou les conditions environnemen-tales de la salle blanche. Lors de l&acute;&eacute;tape de test, il y a aussi des conditions non-optimales qui peuvent d&eacute;grader le produit. Les pr&eacute;visions des rendements de la fabrication pour les produits bien &eacute;tablis ne sont pas difficiles puisqu&acute;on peut utiliser des donn&eacute;es historiques. Cependant, la constante introduction de nouveaux produits et de nouvelles technologies en fait un problème très complexe.</p>     <p>- Caract&eacute;ristiques diverses des &eacute;quipements: Les caract&eacute;ristiques des &eacute;quipements utilis&eacute;s pour la fabrication de wafers sont très diverses: machines avec temps de pr&eacute;paration (set-up times) très variables, machines à traitement par batch, machines s&eacute;quentielles, etc.</p>     <p>- Gestion de la maintenance: Comme indiqu&eacute; pr&eacute;c&eacute;demment, la fabrication de wafers est un environnement high tech où les machines utilis&eacute;es sont extrêmement sophistiqu&eacute;es. Donc, même si un calendrier de maintenance pr&eacute;ventive est bien &eacute;tabli, elles sont très souvent à l&acute;arrêt suite à une panne inattendue ou en calibrage suite à un produit hors sp&eacute;cifications.</p>     <p>- Production et Recherche & D&eacute;veloppement (R&D) partag&eacute;s dans les fabs: En raison du d&eacute;-veloppement constant de nouveaux produits et proc&eacute;d&eacute;s, les mêmes &eacute;quipements dans la fab sont utilis&eacute;s à la fois pour le traitement de wafers d&eacute;di&eacute;s à la production (i.e. livr&eacute; aux clients), que pour les wafers d&eacute;di&eacute;s à la recherche et d&eacute;veloppement et d&acute;ing&eacute;nierie pour le test et la qualification des machines. Cette confusion augmente à cause du conflit entre les objectifs de la production et des ing&eacute;nieurs de d&eacute;veloppement.</p>     <p>- Disponibilit&eacute; et maintenance des donn&eacute;es de la production: Du fait de la quantit&eacute; de donn&eacute;es à traiter dans les fabs, l&acute;obtention et la gestion de l&acute;information sont des tâches très compliqu&eacute;es et ardues.</p>     <p><b><font size="3">3. OBJECTIF DE L&acute;ARTICLE ET APPROCHE M&Eacute;THODOLOGIQUE</font></b></p>     <p><b>3.1 Objectif de l&acute;article</b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Le travail pr&eacute;sent&eacute; dans cet article s&acute;inscrit dans une d&eacute;marche formelle d&acute;analyse et d&acute;op-timisation de la performance industrielle dans la fabrication de semi-conducteurs. Notre travail est en fait compos&eacute; de plusieurs grandes &eacute;tapes, comme illustr&eacute; par la <a href="#f2">figure 2</a>. En raison de la complexit&eacute; intrinsèque de cet environnement industriel, dans cet article, notre objectif est de conceptualiser, à l&acute;aide de m&eacute;thodologies formelles de mod&eacute;lisation, tous les composants d&acute;une unit&eacute; de production de wafers semi-conducteurs. Selon la terminologie d&eacute;finie par Jacobson et Yücesan (1999), cette partie de notre travail constitue la sp&eacute;cification du modèle lors d&acute;une d&eacute;marche d&acute;analyse par la simulation et d&acute;optimisation. Notre modèle conceptuel nous permet donc de savoir comment notre système est constitu&eacute; et ce que notre système fait. Comme d&eacute;-crit par ces auteurs, à partir du modèle conceptuel, l&acute;&eacute;tape suivante est de d&eacute;velopper l&acute;impl&eacute;mentation du modèle. Dans notre d&eacute;marche globale (voir <a href="#f2">figure 2</a>), nous sommes all&eacute;s plus loin en mettant aussi en œuvre une m&eacute;thodologie d&acute;optimisation des paramètres critiques pour la gestion globale du système de fabrication (Montoya-Torres, 2005).</p>     <p>    <center><a name="f2"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f2.jpg" /></a></center> </p>     <p>Comme indiqu&eacute; plus haut, le travail pr&eacute;sent&eacute; dans cet article se limite à la conceptualisation de l&acute;unit&eacute; de production micro&eacute;lectronique. Pour ce faire, dans un premier temps, nous nous focalisons sur le système physique de production, ainsi que sur son système de supervision. L&acute;objectif de cette première phase de la mod&eacute;lisation est d&acute;identifier les entit&eacute;s du système et les interactions entre ces entit&eacute;s. Cette partie de notre d&eacute;marche constitue le niveau macro de la mod&eacute;lisation. Dans un deuxième temps, nous mod&eacute;lisons au niveau micro tout le processus de fabrication automatis&eacute;e des wafers. Ce dernier permet d&acute;avoir une vision d&eacute;taill&eacute;e des interactions entre les entit&eacute;s dynamiques du système (i.e. lots de fabrication) et les ressources de production de la fab.</p>     <p>En raison des concepts pr&eacute;sent&eacute;s ci-avant, le contenu de cet article est donc compl&eacute;mentaire au travail pr&eacute;sent&eacute; dans Montoya-Torres, 2006 ; Mon-toya-Torres et Dauzère-P&eacute;rès, 2006 et Montoya-Torres <i>et al.</i>, 2006.</p>     <p><b>3.2 Approche m&eacute;thodologique</b></p>     <p>L&acute;ensemble des travaux pr&eacute;sent&eacute;s dans cet article s&acute;appuie sur des m&eacute;thodologies formelles de mod&eacute;lisation, comme illustr&eacute; par la <a href="#f3">figure 3</a>. En par-ticulier, pour la mod&eacute;lisation du système (physique et de supervision) de production, nous utilisons la &laquo; Process-Interaction Approach &raquo;, tandis que pour le processus de fabrication, nous d&eacute;veloppons un modèle bas&eacute; sur les r&eacute;seaux de Petri. La pertinence de l&acute;utilisation de ces deux m&eacute;thodologies pour la mo-d&eacute;lisation à des fins de simulation a &eacute;t&eacute; discut&eacute;e par diff&eacute;rents auteurs, e.g. (Rooda, 2000 ; van Campen, 2001 ; Schruben et Yücesan, 1993). Afin de faciliter la compr&eacute;hension, avant d&acute;appliquer ces m&eacute;thodologies à l&acute;unit&eacute; de production de wafers, nous pr&eacute;sentons succinctement les &laquo; briques &eacute;l&eacute;mentaires &raquo; des mo-dèles utilis&eacute;s.</p>     <p>    <center><a name="f3"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f3.jpg" /></a></center> </p>     <p><b><font size="3">4. MOD&Eacute;LISATION DU SYSTÈME DE FABRICATION</font></b></p> </font>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><font size="2" face="verdana"><b>4.1 La Process-Interaction Approach</b></font></p> <font face="verdana" size="2">    <p>La &laquo; Process-Interaction Approach &raquo; est un for-malisme de mod&eacute;lisation de systèmes industriels qui a &eacute;t&eacute; conçu par une &eacute;quipe de chercheurs dirig&eacute;e par le Prof. Dr. J. E. Rooda à l&acute;Universit&eacute; de Technologie d&acute;Eindhoven, au Pays-Bas (Overwater, 1987 ; Rooda, 2000). Le principal objectif de cette approche est de conceptualiser les notions relativement vagues des systèmes industriels et des outils de production dans l&acute;optique d&acute;une application bien pr&eacute;cise de mod&eacute;lisation et d&acute;analyse des systèmes complexes de production. L&acute;avantage le plus important de cette m&eacute;thodologie consiste à prendre en compte à la fois le système physique et le système de supervision de la production, ainsi que leurs interactions. Dans une repr&eacute;sentation graphique du système &eacute;tudi&eacute;, les cercles repr&eacute;sentent les objets ou entit&eacute;s (appel&eacute;s &laquo; process &raquo;) du système, tandis que les flèches sont le symbole des interactions que d&eacute;veloppent entre eux les process (informations, ordres, transport de mat&eacute;riaux ou d&acute;&eacute;nergie, etc.). Chaque process peut ainsi être divis&eacute; en plusieurs autres process jusqu&acute;au moment où il n&acute;est plus possible de descendre dans la hi&eacute;rarchie parce que l&acute;on atteint les process &eacute;l&eacute;-mentaires ou indivisibles. Cette m&eacute;thodologie a d&eacute;jà &eacute;t&eacute; appliqu&eacute;e dans les semi-conducteurs pour la mod&eacute;lisation d&acute;une fab à l&acute;&eacute;tape de conception (van Campen, 2001) et à l&acute;analyse focalis&eacute;e du système de pilotage de machines type cluster (Ansquer, 1996) utilis&eacute;es par le proc&eacute;d&eacute; de d&eacute;position. Comme indiqu&eacute; pr&eacute;c&eacute;demment, la nouveaut&eacute; de notre travail concerne l&acute;int&eacute;rêt que nous portons à la mod&eacute;lisation de l&acute;int&eacute;gralit&eacute; de l&acute;unit&eacute; de fabrication: système physique et système de supervision.</p>     <p><b>4.2 Modèle du système physique de production</b></p>     <p>L&acute;environnement dans lequel l&acute;entreprise opère est appel&eacute; le march&eacute;. Le march&eacute; comporte des donneurs d&acute;ordres (ou clients) et des fournisseurs (voir <a href="#f4">figure 4</a>). Le modèle du march&eacute; contient ainsi un ensemble de clients (Clients), un ensemble de fournisseurs (Fournisseurs) et une unit&eacute; de fabrication de wafers semi-conducteurs (Fab). L&acute;unit&eacute; de fabrication interagit &eacute;galement avec l&acute;environnement naturel. L&acute;unit&eacute; de fabrication se comporte à la fois comme un donneur d&acute;ordres pour ses fournisseurs et comme un fournisseur pour clients. Elle reçoit des ordres de produits finis (wafers) venant de ses clients et envoie des ordres de matières premières à ses fournisseurs. Ces derniers d&eacute;livrent ainsi ces matières premières (wafers vierges, produits chimiques, &eacute;ner-gie, etc.), qui sont ensuite transform&eacute;es par l&acute;unit&eacute; de fabrication afin de livrer le produit fini (wafers) aux clients. Ceci est le niveau le plus agr&eacute;g&eacute;.</p>     <p>    <center><a name="f4"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f4.jpg" /></a></center> </p>     <p>En regardant plus en d&eacute;tail, l&acute;unit&eacute; de fabrication (Fab dans la <a href="#f4">figure 4</a>) peut être d&eacute;compos&eacute;e en un ensemble de ressources de production (FabRe-sources) et un système de supervision et de pilotage de la fabrication (FabController), comme illustr&eacute; dans la <a href="#f5">figure 5</a>. Le système physique de production (FabResources) reçoit des messages de son système de supervision (FabController), qui envoie des tâches à r&eacute;aliser au système de fabrication et coordonne l&acute;approvisionnement des mat&eacute;riaux n&eacute;cessaires à la fabrication. Le système de production envoie des signaux au système de supervision concernant les &eacute;tats de l&acute;&eacute;quipement de fabrication (i.e. achèvement des tâches, disponibilit&eacute; des machines). &Eacute;tant donn&eacute; que la capacit&eacute; de fabrication est fixe, le superviseur de production doit s&acute;assurer que les ressources ne sont ni surcharg&eacute;es ni sous-utilis&eacute;es. Ceci est r&eacute;alis&eacute; grâce à un suivi r&eacute;gulier du système à l&acute;aide d&acute;un ensemble d&acute;indicateurs de performance appropri&eacute;s. Dans la fabrication des wafers semi-conducteurs, les indicateurs le plus souvent utilis&eacute;s sont le temps de cycle et sa variance, le niveau des en-cours, le taux d&acute;utilisation des machines, entre autres.</p>     <p>    <center><a name="f5"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f5.jpg" /></a></center> </p>     <p>Le système physique de fabrication (FabRe-sources) peut être d&eacute;compos&eacute; comme illustr&eacute; dans la <a href="#f6">figure 6</a>. Celui-ci est constitu&eacute; d&acute;un ensemble d&acute;&eacute;tagè-res pour le stockage des lots de wafers en cours de fabrication (FabStorage), d&acute;un ensemble de machines usuellement regroup&eacute;es par familles (WorkCenters), et d&acute;un système automatis&eacute; de transport (FabTrans-porters). Chaque process WorkCenters est compos&eacute; de plusieurs machines identiques qualifi&eacute;es pour ex&eacute;cuter les op&eacute;rations. Chaque groupe de machines (WorkCenters) correspond à chacune des familles (i.e. photolithographie, gravure, etc.). À l&acute;int&eacute;rieur de ces groupes, les machines peuvent être cat&eacute;go-ris&eacute;es en plusieurs types selon leur fonctionnalit&eacute;. Dans notre modèle, nous distinguons les machines à traitement par batch et les machines s&eacute;quentielles.</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>    <center><a name="f6"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f6.jpg" /></a></center> </p>     <p>Les premières correspondent aux machines capa-bles d&acute;ex&eacute;cuter plusieurs lots à la fois, tandis que les deuxièmes sont des machines qui ne peuvent traiter qu&acute;un lot à la fois. Le process FabTransporters est n&eacute;-cessaire pour le transfert des lots entre les op&eacute;rations ex&eacute;cut&eacute;es sur les machines (i.e. pour transporter les lots entre les diff&eacute;rentes familles WorkCenters). Il est ainsi compos&eacute; d&acute;une flotte de v&eacute;hicules et d&acute;un système de pilotage. Le routage des lots à travers le système (physique) de production ne fait pas partie du processus de fabrication, et en cons&eacute;quence, n&acute;ajoute pas de valeur au produit final (mais sans lui, aucune valeur n&acute;est ajout&eacute;e). La destination du produit en cours de fabrication est d&eacute;termin&eacute;e par le superviseur de production (FabController). De cette façon, dans une unit&eacute; de fabrication automa-tis&eacute;e, c&acute;est le superviseur de production qui d&eacute;cide quelle ressource ex&eacute;cute quelle op&eacute;ration et qui suit l&acute;avancement de la production en temps r&eacute;el. Une description à un niveau plus d&eacute;taill&eacute; sera pr&eacute;sent&eacute;e dans la section 5 où nous pourrons voir &eacute;galement comment les entit&eacute;s dynamiques du système (lots de fabrications) interagissent avec les composants physiques (FabResources).</p>     <p><b>4.3 Modèle du système de supervision</b></p>     <p>Le modèle du système de supervision de production (FabController) est illustr&eacute; par la <a href="#f7">figure 7</a>. Il est divis&eacute; en plusieurs sous-systèmes selon les types de fonctions qui doivent être r&eacute;alis&eacute;es. Certaines fonctions existent en tant que sous-systèmes indivi-duels, tandis que d&acute;autres sont incorpor&eacute;es dans plus d&acute;un sous-système. Le superviseur doit coordonner les activit&eacute;s des diff&eacute;rentes ressources dans l&acute;unit&eacute; de fabrication et donc prend des d&eacute;cisions concernant les actions qui doivent être r&eacute;alis&eacute;es par ces derniè-res. Les tâches du superviseur sont la planification, l&acute;ordonnancement et dispatching, et le suivi de la production. Les difficult&eacute;s associ&eacute;es à la planification et à l&acute;ordonnancement/dispatching sont de nature combinatoire et sont la cause des &eacute;carts entre les r&eacute;sultats pr&eacute;vus et les r&eacute;sultats r&eacute;els obtenus par le système de fabrication (Smit, 1992).</p>     <p>    <center><a name="f7"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f7.jpg" /></a></center> </p>     <p>Dans la litt&eacute;rature, plusieurs d&eacute;finitions existent pour la tâche de planification (Kempf, 1989 ; Askin et Goldberg, 2002). Nous pouvons consid&eacute;rer que la planification est divis&eacute;e en sous-tâches telles que la planification de la capacit&eacute; et du processus de production, les achats et le suivi (Smit, 1992). La planification de la capacit&eacute; assure un niveau d&acute;utilisa-tion des ressources pour la fabrication plus ou moins constant au cours du temps, et d&eacute;cide si un ordre de fabrication peut être accept&eacute; ou non. La planification du processus de production d&eacute;finit la façon dont les matières premières sont transform&eacute;es tout au long de la fabrication. La fonction achat gère la commande de ces matières premières aux fournisseurs. Enfin, la fonction de suivi permet de d&eacute;terminer la prochaine op&eacute;ration qui doit être r&eacute;alis&eacute;e sur une pièce à partir du plan de fabrication et de l&acute;information concernant le statut du produit.</p>     <p>L&acute;ordonnancement de la production consiste à d&eacute;finir une date de d&eacute;but et une date d&acute;achèvement pour chaque op&eacute;ration devant être r&eacute;alis&eacute;e sur les produits, ainsi que la sp&eacute;cification des ressources qui doivent être utilis&eacute;es. L&acute;allocation des ressources d&eacute;pend de la gamme de fabrication du produit, de la qualification des machines pour ex&eacute;cuter les op&eacute;ra-tions et de la capacit&eacute; de production disponible dans le système. Le dispatching concerne le suivi en temps r&eacute;el de l&acute;&eacute;tat des ressources et de la fabrication.</p>     <p>Deux composants très importants à l&acute;int&eacute;rieur du FabController sont le MES (Manufacturing Execution System) et le MCS (Material Control System). Le MES contrôle tous les processus de l&acute;unit&eacute; de fabrication, y compris le niveau d&acute;en-cours et le statut des ressources en s&acute;appuyant sur une base de donn&eacute;es, tandis que le MCS contrôle le système automatique pour le transport des lots. En effet, le MES a les informations concernant la route à suivre par les lots et les instants auxquels les lots doivent être trait&eacute;s sur les machines. Le MCS utilise ensuite ces informations et d&eacute;termine les destinations et mouvements des lots dans le système. De cette façon, le lancement de nouveaux lots et l&acute;ordonnancement des machines est possible grâce aux informations contenues dans leurs bases de donn&eacute;es, ce qui permet aussi la gestion du niveau des encours.</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Le transport des lots dans le système peut être r&eacute;alis&eacute; de façon manuelle ou automatique. Puisque nous &eacute;tudions une unit&eacute; de fabrication automatis&eacute;e, notre modèle part donc de l&acute;hypothèse que le transport des lots est r&eacute;alis&eacute; par un système automatique. La gestion de ce système (i.e. le routage et l&acute;affecta-tion des chariots) est effectu&eacute;e par le VCS (Vehicle Control System).</p>     <p>Comme nous avons pu remarquer, il existe diff&eacute;rentes hi&eacute;rarchies dans le modèle. Toutes les d&eacute;cisions pour la gestion du système de production doivent être prises par le système de supervision (FabController). Puisque le système de production est usuellement g&eacute;r&eacute; de façon hi&eacute;rarchis&eacute;e, l&acute;algorithme utilis&eacute; pour sa gestion est lui aussi de type hi&eacute;rarchis&eacute;.</p>     <p>Cette hi&eacute;rarchie et les relations entre les diff&eacute;rents composants du système de gestion nous permet-tent de d&eacute;terminer les paramètres et les variables à consid&eacute;rer pour &eacute;valuer la performance du système lors d&acute;une &eacute;tude plus fine des règles de gestion du système automatique de transport des lots ou pour l&acute;ordonnancement de la production. De plus, cette d&eacute;marche de conceptualisation permet de mieux comprendre les interactions entre les composants physiques (e.g. machines, transporteurs, lots) et logi-ques (e.g. logiciels de pilotage) de la fab.</p>     <p><b><font size="3">5. MOD&Eacute;LISATION DU PROCESSUS DE FABRICATION</font></b></p>     <p>Une fois identifi&eacute;s les composants principaux du système physique et de supervision de la fab, nous pouvons nous focaliser sur la compr&eacute;hension du processus de fabrication lui-même. Le principal int&eacute;rêt de la mod&eacute;lisation pr&eacute;sent&eacute;e ci-après est d&acute;analyser plus en d&eacute;tail la façon dont le système physique (pr&eacute;c&eacute;demment nomm&eacute;s FabRessources, FabTransporters, FabStorage) interagit avec le sys-tème de supervision de la fab (FabController). Pour ce faire, nous utilisons les r&eacute;seaux de Petri comme formalisme de mod&eacute;lisation.</p> </font>    <p><font size="2" face="verdana"><b>5.1 Une approche par les r&eacute;seaux de Petri</b></font></p> <font face="verdana" size="2">    <p>Le concept de r&eacute;seau de Petri (RdP) a &eacute;t&eacute; fortement utilis&eacute; pour la mod&eacute;lisation et l&acute;analyse des systèmes de production, comme les ateliers flexibles (Murata, 1989) et très r&eacute;cemment pour l&acute;&eacute;tude de certaines &eacute;tapes de la fabrication de circuits int&eacute;gr&eacute;s (Montoya-Torres <i>et al.</i>, 2006). La repr&eacute;sentation graphique des RdP permet de visualiser les activit&eacute;s dynamiques des systèmes complexes (e.g. la fabrication de wafers). Cette visualisation est r&eacute;alis&eacute;e à l&acute;aide de jetons qui sont introduits dans le r&eacute;seau. À partir de ce r&eacute;seau graphique, nous pouvons d&eacute;crire le comportement du système.</p>     <p>Dans la d&eacute;finition de RdP ordinaires, les notions de temps et de diversit&eacute; de jetons ne sont pas prises en compte. Si le temps est consid&eacute;r&eacute;, l&acute;&eacute;volution d&acute;un RdP temporis&eacute; ne d&eacute;pend pas uniquement de l&acute;&eacute;tat du r&eacute;seau, mais aussi de l&acute;&eacute;tat de l&acute;environnement. Un RdP temporis&eacute; est ainsi utile pour l&acute;&eacute;valuation des performances du système mod&eacute;lis&eacute;. Dans les RdP color&eacute;s un identificateur (couleur) est associ&eacute; à chaque jeton d&acute;une place. Chaque transition peut être franchie de diff&eacute;rentes manières repr&eacute;sent&eacute;es par les diff&eacute;rentes couleurs de franchissement asso-ci&eacute;es à la transition.</p>     <p>Pour la mod&eacute;lisation du processus de fabrication de wafers, nous utilisons une repr&eacute;sentation bas&eacute;e sur un r&eacute;seau de Petri color&eacute; et temporis&eacute; (RdPCT). Certains auteurs ont utilis&eacute; les r&eacute;seaux de Petri pour mod&eacute;liser certaines &eacute;tapes du processus de fabrication de wafers, e.g. gravure (Jeng <i>et al.</i>, 1998 ; Liu <i>et al.</i>, 2005), test (Xiong et Zhou, 1998), diffusion (Lin et Huang, 1998). Becker (2003) propose un r&eacute;seau de Petri très complexe pour mod&eacute;liser tout le processus de fabrication de wafers. Les diff&eacute;rents &eacute;quipements et &eacute;tapes du processus de fabrication sont consid&eacute;r&eacute;s dans son modèle. Les activit&eacute;s de transport, cependant, sont mod&eacute;lis&eacute;es de façon très simpliste uniquement à l&acute;aide d&acute;une transition tem-poris&eacute;e stochastique. De plus, tel que le dit l&acute;auteur lui-même, la taille du r&eacute;seau est très importante et donc pas vraiment utile lorsqu&acute;on d&eacute;sire effectuer une analyse des performances. En d&eacute;finissant un type particulier de places et de transitions, Chen <i>et al. </i>(2001) ont simplifi&eacute; la mod&eacute;lisation en r&eacute;seaux de Petri de toute une fab. Dans leur modèle, cependant, les contraintes associ&eacute;es au transport de wafers ne sont pas consid&eacute;r&eacute;es. D&acute;autres auteurs ont tent&eacute; de mod&eacute;liser le système de transport de façon d&eacute;taill&eacute;e (Kuo, 2002 ; Liao <i>et al.</i>, 2004), mais sans prendre en compte les &eacute;quipements de fabrication (machines). Nous pr&eacute;sentons ici une extension du modèle propos&eacute; dans Chen <i>et al. </i>(2001), dans lequel nous int&eacute;grons à la fois toutes les &eacute;tapes de fabrication et les activit&eacute;s associ&eacute;es au transport des wafers dans la fab.</p>     <p>Formellement, un r&eacute;seau de Petri color&eacute; temporis&eacute; (RdPCT) est en fait un graphe biparti d&eacute;fini par un 6-uplet RdPCT=(P,T,C,I,O,M), oü:</p> </font>    ]]></body>
<body><![CDATA[<p><font size="2" face="verdana"><i>P=Pi </i>&upsilon; <i>Pc </i>est l&acute;ensemble des places, avec <i>Pi </i>et <i>Pc </i>les ensembles des places ordinaires et des places communicantes, respectivement ;</font></p> <font face="verdana" size="2"></font>    <p><font size="2" face="verdana"><i>T=Tu </i>&upsilon; <i>Tt </i>&upsilon; <i>Ts </i>&upsilon; <i>Tp </i>&upsilon; <i>Tm </i>est l&acute;ensemble de transitions, avec Tu l&acute;ensemble de transitions ordinaires, <i>Tt </i>et <i>Ts, </i>respectivement, les ensembles de transitions temporis&eacute;es d&eacute;terministes et stochas-tiques, <i>Tp </i>l&acute;ensemble de transitions de registre des couleurs, <i>Tm </i>l&acute;ensemble de macro-transitions (i.e. l&acute;agr&eacute;gation d&acute;un processus plus complexe) ;</font></p> <font face="verdana" size="2">    <p><i>C </i>est l&acute;ensemble des couleurs ;</p> </font>     <p><font size="2">I</font><font size="2" face="verdana"> est l&acute;ensemble des ares d&acute;entr&eacute;e aux places et aux transitions ;</font></p> <font face="verdana" size="2">    <p><i>O </i>est l&acute;ensemble des ares de sortie des places et des transitions ;</p>     <p><i>M </i>est le vecteur de marquage initial <img src="img/revistas/eia/n7/n7a02e1.jpg" /></p>     <p>La repr&eacute;sentation graphique utilis&eacute;e pour notre RdPCT est illustr&eacute;e dans la <a href="#f8">figure 8</a>.</p>     <p>    <center><a name="f8"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f8.jpg" /></a></center> </p>     <p><b>5.2 Le modèle</b> </p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Notre modèle est une extension du modèle propos&eacute; dans Chen <i>et al. </i>(2001), qui est focalis&eacute; uni-quement sur l&acute;ordonnancement de la production. Ici, nous consid&eacute;rons explicitement tous les composants du système de transport des lots et l&acute;ajoutons à la mod&eacute;lisation. Chaque lot qui entre dans l&acute;unit&eacute; de fabrication (salle blanche) a une s&eacute;quence d&acute;op&eacute;ra-tions pr&eacute;d&eacute;finie par la technologie associ&eacute;e au type de produit qui doit être livr&eacute; au client. Si nous ne faisons pas allusion à la couleur associ&eacute;e aux places ou transitions, alors la couleur de ces places p et ces transitions <i>t </i>est <img src="img/revistas/eia/n7/n7a02e2.jpg" />, où la couleur est cod&eacute;e comme une chaîne de caractères de la forme <i>xzws, </i>où <i>X </i>repr&eacute;sente les gammes de fabrication, Z est le code du lot, W repr&eacute;sente l&acute;&eacute;tape du processus de fabrication dans laquelle se trouve le lot de wafers, et <i>S </i>repr&eacute;sente le type d&acute;op&eacute;ration à r&eacute;aliser. De cette façon, l&acute;unit&eacute; de production a &eacute;t&eacute; divis&eacute;e en <i>n </i>familles de machines selon le type d&acute;op&eacute;ration qu&acute;elles sont qualifi&eacute;es pour ex&eacute;cuter (voir <a href="#f9">figure 9</a>). À l&acute;instant initial, un jeton repr&eacute;sentant un lot entre dans le système avec une couleur <i>xzws<sub>0</sub></i>. Ensuite, ce jeton est marqu&eacute; avec la couleur xzws1 signifiant que la première op&eacute;ration à r&eacute;aliser sera effectu&eacute;e sur la famille de machines assi-gn&eacute;e dans la place <i>dispatchinglot </i>conform&eacute;ment à la route qu&acute;il doit suivre dans le système. Avant d&acute;arriver à la machine pour l&acute;ex&eacute;cution de l&acute;op&eacute;ration, le lot est transport&eacute; par le système automatique (macro-transition <i>amhs</i>). Une fois l&acute;op&eacute;ration achev&eacute;e, la couleur du lot est incr&eacute;ment&eacute;e d&acute;une unit&eacute; et le lot transport&eacute; à la famille de machines qualifi&eacute;e pour ex&eacute;cuter l&acute;op&eacute;ration suivante. Lorsque le produit est termin&eacute;, le jeton (lot) passe dans la place <i>end. </i>Cette description est repr&eacute;sent&eacute;e dans la <a href="#f9">figure 9</a>. Les places et transitions figurant dans ce modèle ont les significations suivantes:</p>     <p>    <center><a name="f9"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f9.jpg" /></a></center> </p>     <p>- <i>enterfab </i>est une place. Un jeton dans cette place repr&eacute;sente un lot de plaquettes vierges qui entre dans le système avec une couleur sp&eacute;cifique selon la route de fabrication associ&eacute;e au type de produit à fabriquer (i.e. <i>xzws<sub>0</sub></i>).</p>     <p>- <i>marking </i>est une transition de registre de couleurs. Lorsque cette transition est franchie, le jeton est marqu&eacute; avec la couleur s qui correspond à la toute première op&eacute;ration à r&eacute;aliser sur le wafer selon la gamme qu&acute;il doit suivre.</p>     <p>-<i>dispatchinglot </i>est une place communicante qui peut être vue comme le système d&acute;ordonnancement de la fabrication. Un jeton dans cette place doit être dirig&eacute; vers l&acute;une des familles de machines selon l&acute;op&eacute;ration à effectuer (i.e. la couleur du jeton) et la qualification des machines pour r&eacute;aliser cette op&eacute;ration. Ce système a &eacute;t&eacute; d&eacute;crit dans la section 4.3.</p>     <p>- <i>amhs </i>est une macro-transition qui correspond au transfert automatis&eacute; des lots entre les op&eacute;rations de fabrication. Cette transition sera pr&eacute;sent&eacute;e plus en d&eacute;tail par la suite.</p>     <p>- <i>buffer_j (j=1,2,...,n) </i>est une place communican-te. Elle repr&eacute;sente la liste d&acute;ordonnancement. Un jeton dans cette place est un lot attendant son traitement devant une famille de machines. Cette place contient aussi les règles de choix si plusieurs machines dans la famille sont disponibles pour ex&eacute;cuter une op&eacute;ration donn&eacute;e. Ces règles sont principalement bas&eacute;es sur les priorit&eacute;s d&acute;ex&eacute;cution des lots, i.e. FIFO <i>(First In First Out), SPT (Shortest Processing Time), EDD (Earliest Due Date), </i>CR (Critical Ratio).</p>     <p>- <i>operation_j (j=1,2,...,n) </i>est une macro-transition qui repr&eacute;sente le processus d&acute;ex&eacute;cution d&acute;une op&eacute;ration sur le wafer. Cette transition sera analy-s&eacute;e par la suite.</p>     <p>- <i>out </i>est une place communicante. Un jeton dans cette place est un lot qui a fini le traitement de l&acute;op&eacute;ration en ex&eacute;cution. Le jeton peut ainsi franchir l&acute;une des deux transitions et aller soit à <i>nextoper, </i>soit à <i>complete, </i>selon qu&acute;il ait à r&eacute;aliser une nouvelle op&eacute;ration ou qu&acute;il ait fini son cycle de production, respectivement.</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>- <i>nextoper </i>est une transition de registre. Lorsqu&acute;elle est franchie, la couleur du jeton est incr&eacute;ment&eacute;e d&acute;une unit&eacute;. Elle repr&eacute;sente l&acute;achèvement d&acute;une op&eacute;ration sur un lot (jeton) qui passe maintenant à son op&eacute;ration suivante.</p>     <p>- <i>complete </i>est une transition de registre. Elle est franchie lorsqu&acute;un lot (jeton) a fini toutes les op&eacute;rations de sa gamme op&eacute;ratoire et passe ainsi à la place <i>end.</i></p>     <p>- <i>end </i>est une place. Un jeton dans cette place veut dire que toutes les op&eacute;rations n&eacute;cessaires à la fabrication du produit souhait&eacute; ont &eacute;t&eacute; accomplies et le produit fini peut être livr&eacute; au client.</p>     <p><b>Le transport des lots</b></p>     <p>Nous pr&eacute;sentons maintenant le modèle du processus de transfert des lots de wafers qui correspond à la macro-transition <i>amhs </i>dans la <a href="#f9">figure 9</a>. Les places et transitions du modèle pr&eacute;sent&eacute; dans la <a href="#f10">figure 10</a> ont les significations suivantes:</p>     <p>    <center><a name="f10"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f10.jpg" /></a></center> </p>     <p>- <i>demandvehicle </i>est une place. Un jeton dans cette place est un lot qui demande un v&eacute;hicule pour effectuer le service de transfert.</p>     <p>- <i>assignvehicle </i>est une transition stochastique. Son franchissement est possible s&acute;il y a des v&eacute;hicules disponibles pour le transfert et si un lot en a fait la demande. Son temps de franchissement d&eacute;pend du temps d&acute;attente pour l&acute;arriv&eacute;e d&acute;un v&eacute;hicule et du temps n&eacute;cessaire au système de pilotage pour r&eacute;aliser l&acute;affectation d&acute;un v&eacute;hicule selon les règles d&eacute;finies dans le système, comme expliqu&eacute; dans la section 4.3.</p>     <p>- <i>transfertlot </i>est une place. Un jeton dans cette place est un lot qui est transport&eacute;. Selon la destination finale (couleur du jeton), le lot peut être transf&eacute;r&eacute; soit vers une &eacute;tagère pour stockage temporaire (la transition <i>traveltostock </i>sera ensuite franchie), soit vers une machine (la transition <i>timetotravel </i>sera franchie). En cas de panne du v&eacute;hicule, le transfert est interrompu est un jeton est dirig&eacute; vers la transition <i>failuretraveling.</i></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>- <i>timetotravel </i>est une transition stochastique. Le temps de franchissement d&eacute;pend du temps n&eacute;-cessaire au transfert du lot entre sa localisation actuelle et sa destination finale (la machine).</p>     <p>- <i>traveltostock </i>est aussi une transition stochastique et son temps de franchissement d&eacute;pend du temps n&eacute;cessaire pour le transfert du lot vers la zone de stockage temporaire.</p>     <p>- <i>stocker </i>est une place. Un jeton dans cette place est un lot stock&eacute; de façon temporaire dans une &eacute;tagère (stocker).</p>     <p>- <i>stockercapacity </i>est une place. Elle est marqu&eacute;e à l&acute;instant initial car elle repr&eacute;sente la capacit&eacute; de stockage temporaire de lots.</p>     <p>- <i>storage </i>est une transition stochastique corres-pondant au temps qu&acute;un lot a pass&eacute; en stockage avant d&acute;être transf&eacute;r&eacute; vers une op&eacute;ration. Le franchissement de cette transition g&eacute;nère deux jetons. Le premier est le lot qui va maintenant vers la place <i>dispatchinglot </i>afin qu&acute;il puisse être dirig&eacute; vers sa prochaine op&eacute;ration. Le deuxième jeton correspond à la place dans le stocker qui vient d&acute;être lib&eacute;r&eacute;e par le lot et se dirige vers la place <i>stockercapacity.</i></p>     <p>- <i>vehiclefleet </i>est une place marqu&eacute;e à l&acute;instant initial. Le nombre de jetons dans cette place repr&eacute;sente le nombre de v&eacute;hicules disponibles pour effectuer les op&eacute;rations de transfert.</p>     <p>- <i>repairvehOK, failurevehicle et failuretraveling </i>sont des transitions temporis&eacute;es stochastiques. Le temps de franchissement de <i>repairvehOK </i>d&eacute;pend du temps moyen pour la r&eacute;paration du v&eacute;hicule. Les temps de franchissement de <i>failurevehicle </i>et <i>failuretraveling </i>d&eacute;pendent du temps moyen entre deux pannes. Si la transition <i>failuretraveling </i>est franchie, cela veut dire que la panne du v&eacute;hicule s&acute;est produite lorsqu&acute;il transportait un lot. Dans ce cas, le v&eacute;hicule est enlev&eacute; du r&eacute;seau (pour &eacute;viter le blocage du tronçon) et le lot est plac&eacute; dans la file d&acute;attente de la machine (place <i>buffer_j</i>).</p>     <p>- <i>repairvehicle </i>est une place. Les jetons dans cette place repr&eacute;sentent des v&eacute;hicules en r&eacute;paration.</p>     <p><b>Ex&eacute;cution de lots sur les machines</b></p>     <p>Le RdPCT pour le traitement des lots sur les machines est illustr&eacute; dans la <a href="#f11">figure 11</a> ci-après. Cette repr&eacute;sentation correspond à la macro-transition <i>ope-ration_j </i>de la <a href="#f9">figure 9</a>. Les significations des places et transitions sont les suivantes:</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>    <center><a name="f11"><img src="img/revistas/eia/n7/n7a02f11.jpg" /></a></center> </p>     <p>- <i>enter_j (j=1,...,n) </i>est une transition ordinaire qui est franchie lorsqu&acute;un lot (jeton) doit commencer son traitement sur une machine.</p>     <p>- <i>betimecritical_j (j=1,...,n) </i>est une place. Un jeton dans cette place (avec n&acute;importe quelle couleur) correspond à un lot avec une priorit&eacute; d&acute;ex&eacute;cution sur la machine plus importante car il va bientôt d&eacute;passer une contrainte de traitement. Un jeton dans cette place empêche le franchissement de la transition <i>enter_j.</i></p>     <p>- <i>timecritical_j (j=1,...,n) </i>est une transition tempori-s&eacute;e d&eacute;terministe qui sera franchie par un jeton se trouvant dans la place <i>buffer_j </i>et qui a d&eacute;pass&eacute; le d&eacute;lai d&acute;attente pour l&acute;ex&eacute;cution d&acute;une op&eacute;ration. Le temps n&eacute;cessaire au franchissement de cette transition d&eacute;pend de la couleur du jeton (i.e. si l&acute;op&eacute;ration à ex&eacute;cuter n&eacute;cessite une attente ou ne peut pas exc&eacute;der une limit&eacute; de temps).</p>     <p>- <i>entercrit_j </i>est une transition ordinaire. Elle est franchie si et seulement s&acute;il y a une machine disponible dans <i>machines_j </i>afin qu&acute;un lot se trouvant dans <i>betimecritical_j </i>commence son traitement. Après le franchissement, le jeton sera plac&eacute; dans <i>setup_j.</i></p>     <p>- <i>setup_j (j=1,...,n) </i>est une place. Un jeton dans cette place repr&eacute;sente une machine prête à d&eacute;-marrer une op&eacute;ration.</p>     <p>- <i>setuptime_j (j=1,...,n) </i>est une transition tempori-s&eacute;e d&eacute;terministe. Son temps de franchissement est donn&eacute; par le temps de pr&eacute;paration de la machine selon la couleur (i.e. type de produit) du jeton qui va être trait&eacute;. Ce temps est nul si la machine ne requiert pas de temps de pr&eacute;paration ou si la couleur du jeton arrivant et la couleur du jeton pr&eacute;c&eacute;dent sont les mêmes.</p>     <p>- <i>processing_j (j=1,...,n) </i>est une place. Un jeton dans cette place est un lot en ex&eacute;cution sur une machine. Si l&acute;op&eacute;ration ex&eacute;cut&eacute;e comporte aussi une inspection entraînant un refus du lot, alors le jeton doit franchir la transition <i>processfail_j. </i>Si au contraire, le lot est conforme, alors il franchit la transition <i>processOK_j.</i></p>     <p>- <i>processOK_j (j=1,...,n) </i>est une transition tempo-ris&eacute;e d&eacute;terministe. Le temps de franchissement est une fonction de la couleur (type d&acute;op&eacute;ration) du jeton. Le franchissement repr&eacute;sente donc l&acute;achèvement de cette op&eacute;ration et g&eacute;nère deux jetons: le premier repr&eacute;sente une machine qui se libère et se dirige à la place <i>machines_j, </i>tandis que le deuxième est le lot qui doit maintenant aller dans la place <i>out.</i></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>- <i>processfail_j (j=1,...,n) </i>est aussi une transition d&eacute;terministe. De façon similaire, le temps de franchissement de cette transition est fonction de la couleur du jeton. Lorsqu&acute;elle est franchie, deux jetons sont cr&eacute;&eacute;s: le premier va vers la place <i>dispatchinglot </i>afin de le re-ordonnancer pour une op&eacute;ration de reprise ; et le deuxième repr&eacute;sente la lib&eacute;ration de la machine et se dirige donc vers la place <i>machines_j.</i></p>     <p>- <i>machines_j (j=1,...,n) </i>est une place qui est mar-qu&eacute;e à l&acute;instant initial. Les jetons dans cette place repr&eacute;sentent les machines qualifi&eacute;es disponibles pour effectuer l&acute;op&eacute;ration <i>j.</i></p>     <p>- <i>repair_j </i>est une place. Un jeton dans cette place est une machine qui est en maintenance (pr&eacute;-ventive ou suite à une panne inattendue ou à un r&eacute;glage).</p>     <p>- <i>repairOK_j, failure_j, et failureproc_j (j=1,...,n) </i>sont des transitions temporis&eacute;es stochastiques. Le temps de franchissement de <i>repairO</i>K d&eacute;-pend du temps moyen de r&eacute;paration (MTTR) de la machine. Les temps de franchissements des transitions <i>failure_j </i>et <i>failureproc_j </i>d&eacute;pendent du temps moyen entre deux pannes. Le franchisse-ment de la transition <i>failureproc_j </i>veut dire que la machine est tomb&eacute;e en panne pendant le traitement d&acute;un lot.</p>     <p><b>Le traitement des batchs</b></p>     <p>La description de la fabrication sur les machines à traitement par batch est un peu plus complexe, mais sa repr&eacute;sentation est la même que la <a href="#f11">figure 11</a>. La couleur de <i>enter_j, setup_j, entercrit_j, setuptime_j, processing_j, failure_j, processOK_j et processfail_j </i>d&eacute;pend de la taille du batch. Par exemple, si la taille du batch est deux lots, alors la couleur est <img src="img/revistas/eia/n7/n7a02e3.jpg" />. La transition <i>enter_j </i>(resp. <i>entercrit_j</i>), avec <i>j=1,...,n, </i>est une transition ordinaire. Un jeton fran-chissant cette transition repr&eacute;sente un batch pour une op&eacute;ration normale (resp. urgente dû à une fenêtre de temps). Il doit y avoir deux jetons dans la place <i>buffer_j </i>(resp. <i>betimecritical_j</i>) avec les couleurs <img src="img/revistas/eia/n7/n7a02e4.jpg" />, </i>et un jeton dans la place <i>machi-nes_j </i>avec la couleur <i>b</i>&isin;<i>W. </i>Après franchissement, un seul jeton entrera dans la place setup_j avec comme couleur <i>bx</i><sub>1</sub><i>z</i><sub>1</sub><i>w</i><sub>1</sub><i>s</i><sub>1</sub><i>x</i><sub>2</sub><i>z</i><sub>2</sub><i>w</i><sub>2</sub><i>s</i><sub>2</sub> ou <i>bx</i><sub>2</sub><i>z</i><sub>2</sub><i>w</i><sub>2</sub><i>s</i><sub>2</sub><i>x</i><sub>1</sub><i>z</i><sub>1</sub><i>w</i><sub>1</sub><i>s</i><sub>1</sub><i>.</i></p>     <p><b><font size="3">6. CONCLUSIONS</font></b></p>     <p>Dans cet article, nous nous sommes int&eacute;res-s&eacute;s à la mod&eacute;lisation conceptuelle d&acute;une unit&eacute; de fabrication de wafers semi-conducteurs. Nous avons utilis&eacute; des m&eacute;thodologies formelles de mod&eacute;lisation pour mieux comprendre aussi bien le système physique de production et son système de supervision que le processus de fabrication lui-même. Ces modèles, qui facilitent à la fois la compr&eacute;hension du système de gestion et de supervision de la production, constituent une base fondamentale pour le d&eacute;veloppement d&acute;une &eacute;tude simulatoire pour l&acute;&eacute;valuation des performances. Cette partie du travail constitue donc la sp&eacute;cification du modèle lors d&acute;une analyse quantitative par simulation. Notre modèle conceptuel nous permet ainsi de savoir ce que notre système fait. À partir des modèles pr&eacute;sent&eacute;s, il est possible d&acute;effectuer une analyse d&eacute;taill&eacute;e de l&acute;&eacute;vo-lution dans le temps du système de fabrication à l&acute;aide d&acute;un programme de simulation à &eacute;v&eacute;nements discrets. Cette partie constitue ainsi l&acute;impl&eacute;mentation du modèle conceptuel, avec laquelle il est possible de voir comment fonctionne le système. Cette &eacute;tude par simulation permettra de comparer des strat&eacute;gies pour la gestion de la production, et en particulier, en int&eacute;grant les activit&eacute;s de production et de transport de plaquettes dans un environnement complètement automatis&eacute;. À partir des r&eacute;sultats obtenus par cette mod&eacute;lisation conceptuelle, il nous sera possible de d&eacute;velopper cette d&eacute;marche globale d&acute;aide à la d&eacute;-cision bas&eacute; sur la simulation à &eacute;v&eacute;nements discrets.</p>     <p>Dans cette d&eacute;marche, nous envisageons un couplage de la gestion transport-production et l&acute;impl&eacute;mentation in situ des m&eacute;thodologies propos&eacute;es.</p>     <p><b><font size="3">REMERCIEMENTS</font></b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Le travail pr&eacute;sent&eacute; dans cet article est bas&eacute; sur le travail de recherche effectu&eacute; par l&acute;auteur lors du d&eacute;veloppement de sa thèse de doctorat, co-financ&eacute;e par l&acute;Association Nationale de la Recherche Technique (ANRT) sous contrat CIFRE n&deg; 621/2002 et par la Communaut&eacute; du Pays d&acute;Aix, le Conseil G&eacute;n&eacute;ral des Bouches du Rhône et le Conseil R&eacute;gional Provence Alpes Côte d&acute;Azur dans le cadre du projet &laquo;Rousset 2003-2008&raquo;.</p>     <p><b><font size="3">R&Eacute;F&Eacute;RENCES</font></b></p>     <!-- ref --><p>Ansquer R. Mod&eacute;lisation d&acute;&eacute;quipements de type &laquo; cluster &raquo; et application à l&acute;&eacute;tude des rendements, Projet de fin d&acute;&eacute;tudes, IUP G&eacute;nie de Mat&eacute;riaux, Universit&eacute; d&acute;Evry Val d&acute;Essonne, France, 1996.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000145&pid=S1794-1237200700010000200001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Askin R. G, and Goldberg J. F. Design and analysis of lean production systems, John Wiley & Sons, Inc., 2002.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000146&pid=S1794-1237200700010000200002&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Becker M. Modeling and simulation of a complete semiconductor manufacturing facility using Petri nets, Proceedings of the IEEE International Conference on Emerging Technologies and Factory Automation, 2003, Vol. 2, p. 153-156.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000147&pid=S1794-1237200700010000200003&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Van Campen E. Design of a multi-process multi-product wafer fab, PhD dissertation, Technische Universiteit Eindhoven, The Netherlands, 2001.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000148&pid=S1794-1237200700010000200004&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Chen J. H., Fu L. C., Lin M. H. and Huang A. C. Petri-Net and GA-based approach to modeling, scheduling, and performance evaluation for wafer fabrication, IEEE Transactions on Robotics and Automation, Vol. 17, n&deg; 5, 2001, p. 619-636.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000149&pid=S1794-1237200700010000200005&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Duenyas L., Fowler J. W. and Schruben L. W. Planning and scheduling in Japanese semiconductor manufacturing, Journal of Manufacturing Systems, Vol. 13, n&deg; 5, 1994, p. 323-332.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000150&pid=S1794-1237200700010000200006&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Hogg G., Fowler J. W. and Ibrahim M. Flow control in semiconductor manufacturing: A survey and projection of needs, Technical report 91110757A-GEN. International SEMATECH, 1991.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000151&pid=S1794-1237200700010000200007&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Jacobson S. H. and Yücesan E. On the complexity of verifying structural properties of discrete event simulation models, Operations Research, Vol. 47, n&deg; 3, 1999, p. 476-481.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000152&pid=S1794-1237200700010000200008&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Jeng M. D., Xie X. and Chou S.W. Modeling, qualitative analysis, and performance evaluation of the etching area in an IC wafer fabrication system using Petri nets, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 11, 1998, p. 358-373.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000153&pid=S1794-1237200700010000200009&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Johri P. K. Practical issues in scheduling and dispatching in semiconductor wafer fabrication, Journal of Manufacturing Systems, Vol. 12, n&deg; 6, 1993, p. 474-485.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000154&pid=S1794-1237200700010000200010&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Kempf K. G. Manufacturing planning and scheduling: where we are and where we need to be, Proceedings of the 5th Conference on Artificial Intelligent Applications, 1989, p. 13-19, Invited presentation.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000155&pid=S1794-1237200700010000200011&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Kumar P. R. Scheduling semiconductor manufacturing plants, IEEE Control Systems Magazine, Vol. 14, n&deg; 6, 1994, p. 33-40.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000156&pid=S1794-1237200700010000200012&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Kumar S. and Kumar P. R. Queueing network models in the design and analysis of semiconductor wafer fabs, IEEE Transactions on Robotics and Automation, Vol. 17, 2001, p. 548-561.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000157&pid=S1794-1237200700010000200013&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Kuo C. H. Modelling and performance evaluation of an overhead hoist transport system in a 300mm fabrication plant, International Journal of Advanced Manufacturing Technology, Vol. 20, 2002, p. 153-161.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000158&pid=S1794-1237200700010000200014&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Liao D. Y. , Jeng M. D. and Zhou M. C. Petri net modeling and lagrangian relaxation approach to vehicle scheduling in 300mm semiconductor manufacturing, Proceedings of the 2004 IEEE International Conference on Robotics and Automation, 2004, p. 5301-5306.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000159&pid=S1794-1237200700010000200015&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Lin S. Y. and Huang H. P. Modeling and emulation of a furnace in IC fab based on colored-timed Petri net, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 11, 1998, p. 410-420.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000160&pid=S1794-1237200700010000200016&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Liu H., Fung R. Y. K. and Jiang Z. Modelling of semiconductor wafer fabrication systems by extended object-oriented Petri nets, International Journal of Production Research, Vol. 43, n&deg; 3, 2005, p. 471-495.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000161&pid=S1794-1237200700010000200017&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Montoya-Torres J. R. Transport automatis&eacute; dans la fabri-cacion de semi-conducteurs: Nouvelles approches de gestion tactique et op&eacute;rationnelle, Thèse de doctorat, &Eacute;cole des Mines de Saint-&Eacute;tienne et Universit&eacute; Jean Monnet, Saint-&Eacute;tienne, France, 2005.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000162&pid=S1794-1237200700010000200018&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Montoya-Torres, J. R. Procedimiento jer&aacute;rquico basado en optimizaci&oacute;n y simulaci&oacute;n para la gesti&oacute;n de veh&iacute;culos en sistemas automatizados de manufactura Ingenier&iacute;a y Universidad, Vol. 10, n&deg; 1, p. 77-96, Enero-Junio 2006.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000163&pid=S1794-1237200700010000200019&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Montoya-Torres, J. R. and Dauzère-P&eacute;rès, S. Automated material handling in semiconductor factories using zone-based tactical vehicle location, Working paper, (submitted to IIE Transactions), 2006.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000164&pid=S1794-1237200700010000200020&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Montoya-Torres, J. R., Dauzère-P&eacute;rès, S. and Vermariën, L. A consistency approach for vehicle planning and control in large unified automated material handling systems, Progress in Material Handling Research, p. 73-82. 2006. 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Process and interactions, an approach to the modelling of industrial systems, PhD dissertation, Technische Universiteit Eindhoven, The Netherlands, 1987.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000167&pid=S1794-1237200700010000200023&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Rooda J. E. Modelling Industrial Systems, Lecture notes, Technische Universiteit Eindhoven, The Netherlands, 2000, <a href="http://se.wtb.tue.nl/documentation/" target="_blank"><u>http://se.wtb.tue.nl/documentation/</u></a>.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000168&pid=S1794-1237200700010000200024&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Schruben L. and Yücesan E. Complexity of simulation models: A graph theoretic approach, Proceedings of the 1993 Winter Simulation Conference, 1993, p. 641-649.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000169&pid=S1794-1237200700010000200025&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Smit H. A hierarchical control architecture for job-shop manufacturing systems, PhD dissertation, Technische Universiteit Eindhoven, The Netherlands, 1992.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000170&pid=S1794-1237200700010000200026&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Uzsoy R., Lee C. Y. and Martin-Vega L. A. A review of production planning and scheduling models in the semiconductor industry. Part I: System characteristics, performance evaluation and production planning, IIE Transactions, Vol. 24, n&deg; 4, 1992, p. 47-60.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000171&pid=S1794-1237200700010000200027&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Uzsoy R., Lee C. Y. and Martin-Vega L. A. A review of production planning and scheduling models in the semiconductor industry. Part II: Shop-floor control, IIE Transactions, Vol. 26, n&deg; 5, 1994, p. 44-55.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000172&pid=S1794-1237200700010000200028&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Xiong H. H. and Zhou M. C. Scheduling of semiconductor test facilities via Petri nets and hybrid heuristic search, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 11, n&deg; 3, 1998, p. 384-393.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000173&pid=S1794-1237200700010000200029&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --> ]]></body><back>
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