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<journal-title><![CDATA[Revista Ingeniería Biomédica]]></journal-title>
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<article-title xml:lang="es"><![CDATA[MODIFICACIÓN DE SUPERFICIES DE ORO MEDIANTE LA TÉCNICA DE NANOLITOGRAFÍA DIP PEN - DPN]]></article-title>
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<article-title xml:lang="pt"><![CDATA[MODIFICAÇÃO DE SUPERFÍCIES DE OURO PELA TÉCNICA NANOLITHOGRAPHY DIP PEN - DPN]]></article-title>
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<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[In this work the effect of two types of tips A and M, over the patterns made on a gold substrate was explored. The patterns were built with a nanolithography, acrylic ink and gold substrate, disposing each tip with a triangular shape cantilever A-Frame (AF) on one side and a rectangular Dibbing Board (DB) cantilever on the other side. The patterns created by AF are more homogeneous than DB, this may be due to the rectangular shape of the DB which presents more ink concentration, because having a rectangular shape concentrates stress in the borders and the tip, having more possibilities to present ink adhesion in the borders of the cantilever and once the process begins with the creation of the pattern the ink merges with the substrate, depositing higher amount of ink in contrast with AF because it's triangular shape counts with only one zone where the stress focuses which leads to causes ink surplus.]]></p></abstract>
<abstract abstract-type="short" xml:lang="pt"><p><![CDATA[Neste trabalho são alteradas a superfície de um substrato de ouro utilizando a técnica de dip pen nanolithography (DPN) e dois tipos de pontas. Os padrões criados pelo cantilever A-Frame, AF, são mais homogêneas do que divingboard, DB, esta pode ser a ponta DB tem uma maior concentração de tinta do que a AF, ao pressentar uma forma retangular se tem mais concentração de esforços nos cantos do retângulo e ponta, por isso você tem mais opções para apresentar uma aderência da tinta para os cantos e uma vez que você iniciar o processo de criação do padrão se desprenda a tinta é aparente no substrato, depositando uma maior quantidade de ela. Por outro lado, cantilever AF apresenta uma forma triangular e tem uma única área em que se concentram os esforços e onde a tinta em excesso.]]></p></abstract>
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</front><body><![CDATA[  <font face="verdana" size="2">          <p align="center"><font size="4"><b>MODIFICACI&Oacute;N  DE SUPERFICIES DE ORO MEDIANTE LA T&Eacute;CNICA DE NANOLITOGRAF&Iacute;A DIP PEN - DPN</b></font></p>     <p align="center"><font size="3"><b>SURFACE MODIFICATION ON  GOLD SUBSTRATES USING DIP PEN NANOLITHOGRAPHY TECHNIQUE</b></font></p>     <p align="center"><font size="3"><b>MODIFICA&Ccedil;&Atilde;O DE SUPERF&Iacute;CIES DE OURO PELA T&Eacute;CNICA NANOLITHOGRAPHY DIP PEN - DPN</b></font></p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b>L. M. Ballesteros O., M. E. Londo&ntilde;o</b></p>          <p><i>Grupo de Investigaci&oacute;n en Ingenier&iacute;a Biom&eacute;dica Escuela de Ingenier&iacute;a de Antioquia - Universidad CES, Medell&iacute;n, Colombia. Direcci&oacute;n para correspondencia: <a href="mailto:catalinatobon@itm.edu.co">catalinatobon@itm.edu.co</a>.</i></p>     <p>Recibido 22 de agosto de 2013. Aprobado 08 de septiembre de 2014.</p> <hr size="1" />              <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3">RESUMEN</font></b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>En  este trabajo se modific&oacute; la superficie de un sustrato de oro usando la t&eacute;cnica  Dip Pen Nanolithography (DPN)  y dos tipos de puntas. Los patrones creados por el cantilever A-Frame, AF, son  m&aacute;s homog&eacute;neos que los <i>Diving Board</i>, DB,  esto puede deberse a que la punta DB presenta una mayor concentraci&oacute;n de tinta  que la AF, al presentar una forma rectangular  hay m&aacute;s concentraci&oacute;n de esfuerzos en las esquinas del rect&aacute;ngulo y de la  punta, por tanto se tienen m&aacute;s opciones de  presentar una adhesi&oacute;n de la tinta a las esquinas y una vez se empieza con el  proceso de creaci&oacute;n del patr&oacute;n se desprenda la  tinta en el sustrato, depositando una mayor cantidad de ella. Por otro lado, el  cantilever AF presenta una forma triangular y cuenta con una &uacute;nica zona  en la cual se concentran los esfuerzos y donde la tinta queda en exceso. </p>     <p><font size="3"><b>PALABRAS CLAVES</b></font>: Modificaci&oacute;n de superficies; Nanolitograf&iacute;a DPN; Nanotecnolog&iacute;a, Sustrato de oro.</p> <hr size="1" />              <p>&nbsp;</p>     <p><font size="3"><b>ABSTRACT</b></font></p>     <p>In this work the effect of two types  of tips A and M, over the patterns made on a gold substrate was explored. The patterns were built with a  nanolithography, acrylic ink and gold substrate, disposing each tip with a  triangular shape cantilever A-Frame (AF) on one side  and a rectangular Dibbing Board (DB) cantilever on the other side. The patterns  created by AF are more homogeneous than DB,  this may be due to the rectangular shape of the DB which presents more ink  concentration, because having a rectangular shape  concentrates stress in the borders and the tip, having more possibilities to  present ink adhesion in the borders of the  cantilever and once the process begins with the creation of the pattern the ink  merges with the substrate, depositing higher amount  of ink in contrast with AF because it's triangular shape counts with only one  zone where the  stress focuses which leads to causes ink surplus. </p>     <p><font size="3"><b>KEYWORDS</b></font>: Nanolithography; DPN; Nanotechnology; Superficial modifications.</p> <hr size="1" />       <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3">SUM&Aacute;RIO</font></b></p>     <p>Neste  trabalho s&atilde;o alteradas a superf&iacute;cie de um substrato de ouro utilizando a t&eacute;cnica  de dip pen nanolithography (DPN)  e dois tipos de pontas. Os padr&otilde;es criados pelo cantilever A-Frame, AF, s&atilde;o mais  homog&ecirc;neas do que divingboard, DB, esta  pode ser a ponta DB tem uma maior concentra&ccedil;&atilde;o de tinta do que a AF, ao  pressentar uma forma retangular se tem mais concentra&ccedil;&atilde;o de esfor&ccedil;os nos cantos  do ret&acirc;ngulo e ponta, por isso voc&ecirc; tem mais op&ccedil;&otilde;es para apresentar uma ader&ecirc;ncia  da tinta para  os cantos e uma vez que voc&ecirc; iniciar o processo de cria&ccedil;&atilde;o do padr&atilde;o se  desprenda a tinta &eacute; aparente no substrato, depositando uma  maior quantidade de ela. Por outro lado, cantilever AF apresenta uma forma  triangular e tem uma &uacute;nica &aacute;rea em que se concentram os esfor&ccedil;os e  onde a tinta em excesso. </p>     <p><font size="3"><b>PALAVRAS-CHAVE</b></font>: Modifica&ccedil;&atilde;o da superf&iacute;cie; Nanolitografia DPN; Substrato de ouro; Nanotecnologia.</p>  <hr size="1" />           ]]></body>
<body><![CDATA[<p>&nbsp;</p>       <p><font size="3"><b>I. INTRODUCCI&Oacute;N</b></font></p>          <p>En a&ntilde;os recientes se han desarrollado  varias t&eacute;cnicas para  controlar y modificar las superficies tanto qu&iacute;mica  como topogr&aacute;ficas a escala nanom&eacute;trica y ahora estas  t&eacute;cnicas se pueden usar para dise&ntilde;ar superficies con la  intenci&oacute;n de investigar como las c&eacute;lulas interact&uacute;an con  su medio &#91;<a href="#1">1</a>&#93;. La t&eacute;cnica de nanolitograf&iacute;a DPN es  una de ellas, consiste en "escribir", a una escala nanom&eacute;trica,  usando una tinta que se deposita sobre un sustrato  mediante una punta. Este proceso se introdujo en  la comunidad cient&iacute;fica a finales del siglo XX (1999) como  una herramienta para fabricar nanoestructuras en superficies  &#91;<a href="#2">2</a>&#93;. Por su versatilidad y f&aacute;cil uso, el DPN ha sido  fuente de investigaci&oacute;n para el manejo de la t&eacute;cnica nanolitogr&aacute;fica,  ya que permite la utilizaci&oacute;n de una gran cantidad  de sustratos y tintas con condiciones controladas de  humedad y temperatura &#91;<a href="#3">3</a>&#93;. Adem&aacute;s, esta t&eacute;cnica se perfila  como una herramienta muy atractiva para crear patrones  biol&oacute;gicos y estructuras org&aacute;nicas en superficies, ya  que se pueden generar modelos sin necesidad de exponer  las tintas o el sustrato a condiciones extremas, a  diferencia de otras t&eacute;cnicas como el CVD (<i>Chemical</i> <i>Vapor Deposition</i>)  &#91;<a href="#4">4</a>&#93;, fotolitograf&iacute;a o EBL (<i>Electron</i> <i>Beam Lithography</i>)  &#91;<a href="#2">2</a>&#93;, donde el sustrato o la tinta se ven  expuestos a condiciones qu&iacute;micas, iones con rayos UV  o radiaci&oacute;n por haz de electrones que pueden causar alteraciones  en el proceso. Del mismo modo, el DPN permite  una alta resoluci&oacute;n, generando peque&ntilde;as matrices alrededor  de estructuras m&aacute;s grandes &#91;<a href="#3">3</a>&#93;, en comparaci&oacute;n con  otras t&eacute;cnicas litogr&aacute;ficas como la litograf&iacute;a de nanoimpresi&oacute;n  (NIL) o la impresi&oacute;n por micro-contacto (&micro;CP)  &#91;<a href="#2">2</a>&#93;.</p>     <p>Las  variables m&aacute;s importantes que intervienen en  un proceso de nanolitograf&iacute;a DPN son: el tipo de puntas,  distancia entre puntas, temperatura de impresi&oacute;n, velocidad  de la punta, radio de la punta, la temperatura y la  humedad relativa. Por ejemplo, cuando la temperatura crece  el n&uacute;mero de mol&eacute;culas transferidas aumenta y,  un aumento en la humedad proporciona una mejor adhesi&oacute;n  de la tinta en el sustrato &#91;<a href="#5">5</a>&#93;. Por otro lado, la t&eacute;cnica  permite usar una gama muy variada de tintas ODT-  (Octadecanetiol), MHL (6--Mercapto-1-hexanol), peque&ntilde;as  secuencias de p&eacute;ptidos, nanopart&iacute;culas; y sustratos  de f&oacute;sforo de galio (GaP) y arseniuro de Galio (GaAs),  silicio, oro, hidrogeles &#91;<a href="#6">6</a>, <a href="#7">7</a>&#93;.</p>     <p>Al  ser una t&eacute;cnica tan atractiva, el desarrollo de novedosos  sistemas de bio reconocimiento hechos a medida  se est&aacute;n investigando con gran inter&eacute;s, utilizando tintas  como los tioles sobre sustratos de oro &#91;<a href="#2">2</a>&#93;. Por ejemplo,  el grupo de M&eacute;ndez ha realizado estudios en la  formaci&oacute;n de bio nanopatrones en superficies &#91;<a href="#8">8</a>&#93;. Recientemente  la universidad de M&aacute;nchester (UK) est&aacute;  abriendo camino en el estudio de la interacci&oacute;n celular  demostrando la capacidad del DPN para realizar modificaciones  superficiales que permitan emplear membranas  artificiales sobre el grafeno para su potencial aplicaci&oacute;n  en bio-sensores, bio-cat&aacute;lisis y liberaci&oacute;n de medicamentos  &#91;<a href="#9">9</a>&#93;. A su vez, en Corea se ha trabajado en  DPN para generar patrones superficiales a partir de hidrogeles  para crear patrones a escala microm&eacute;trica de <i>Escherichia Colli </i>JM  109 &#91;<a href="#10">10</a>&#93; y proponer un m&eacute;todo sencillo  para imprimir matrices de c&eacute;lulas bacterianas en superficies  s&oacute;lidas.</p>     <p>Las  aplicaciones de la nanolitograf&iacute;a DPN abarca una  amplia gama de &aacute;reas como: la electr&oacute;nica biolog&iacute;a molecular,  la biotecnolog&iacute;a, la biomedicina, los biosensores  y la cat&aacute;lisis &#91;<a href="#11">11</a>&#93;. Para lograr obtener los patrones  deseados mediante esta t&eacute;cnica se hace necesario controlar  varios par&aacute;metros y elegir adecuadamente tanto la  tinta como el sustrato y las puntas de trabajo. En este art&iacute;culo  se explor&oacute; el efecto de dos tipos de punta A y M, sobre  los patrones creados con tinta acr&iacute;lica sobre una superficie  de oro.</p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3">II. MATERIALES Y M&Eacute;TODOS</font></b></p>     <p><i><font size="3">a. Materiales</font></i></p>     <p>Para  elaborar los patrones presentados en este trabajo   se  us&oacute; un NLP 2000 (Nanoink, USA), puntas tipo M y A   con  cantilever con forma triangular A-Frame (AF) por un   extremo  de la punta y rectangular <i>Diving  Board </i>(DB) por   el  otro (Nanoink, USA), micropozos tipo M, tinta acr&iacute;lica   (Nanoink,  USA), sustrato de silicio de 8,5 mm<sup>2</sup>,  recubierto   con  una capa de oro de (25-100) nm (Nanoink, USA),   micropipeta  de (0,5-2,0) &micro;L (Gentech, Colombia) y un   microscopio  de fuerza at&oacute;mica (<i>EasyScan </i>2 <i>Flex </i>versi&oacute;n   2.2,  USA).</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><i><font size="3">b. M&eacute;todos</font></i></p>     <p>Se  prepararon los sustratos mediante una limpieza   general:  inicialmente los sustratos se sumergieron en soluci&oacute;n pira&ntilde;a durante 5 minutos,  luego se lavaron con   etanol  al 90 % y finalmente se secaron con nitr&oacute;geno   gaseoso.  Los procesos se realizaron a temperatura   ambiente  y humedad relativa 68,2 %. Los patrones   creados  consistieron en l&iacute;neas y puntos escritos con una   tinta  acr&iacute;lica sobre sustratos de oro. Los par&aacute;metros se   mantuvieron  constantes para todo el proceso de escritura:   n&uacute;mero  de l&iacute;neas (5 verticales), n&uacute;mero de puntos (5 en X   y  5 en Y), distancia entre l&iacute;neas/puntos (13&micro;m), longitud   de  l&iacute;nea (40&micro;m), velocidad de escritura de l&iacute;nea (7&micro;m/s),   espesor  de l&iacute;nea (2&micro;m), acercamiento en Z (50&micro;m),   di&aacute;metro  de punto (5&micro;m) y tiempo de inmersi&oacute;n de la   punta  (0,3seg). Los patrones creados se evaluaron en un   microscopio  de fuerza at&oacute;mica AFM EasyScan 2 Flex. Tanto  los patrones elaborados como sus mediciones se realizaron  por triplicado.</p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3">III. RESULTADOS Y  DISCUSI&Oacute;N</font></b></p>     <p>En  la <a href="#fig1">Fig. 1</a> se observan dos patrones de 5 l&iacute;neas   elaborados  con tinta acr&iacute;lica sobre un sustrato de oro   usando  una punta tipo A y formas de cantilever AF y DB   (<a href="#fig1">Fig.  1a</a> y <a href="#fig1">b</a>, respectivamente). Los patrones, en general,   lucen  uniformes, sin embargo en las primeras l&iacute;neas   se  observa un exceso de tinta en el extremo superior,   siendo  m&aacute;s evidente en las l&iacute;neas 2 y 3, mientras que   las  l&iacute;neas 4 y 5 muestran una menor concentraci&oacute;n de   tinta,  la viscosidad de la tinta, la humedad del sistema y   la  velocidad de escritura generan estas diferencias &#91;<a href="#5">5</a>&#93;. El  exceso de tinta en la parte superior de algunas l&iacute;neas se  podr&iacute;a explicar as&iacute;: cuando el cantilever se retrae al final de la l&iacute;nea el menisco ejerce una presi&oacute;n m&aacute;xima lo  cual hace que se deposite una mayor cantidad de tinta en  el sustrato, tal como lo confirma Cronin y su equipo, quienes  encontraron que al reducir el tama&ntilde;o del menisco se  reduce el contacto efectivo para la descarga, generando una  transferencia m&aacute;s regular &#91;<a href="#12">12</a>&#93;. Midiendo directamente con  el NLP 2000 el ancho de las l&iacute;neas, en promedio, se  encuentran en (1,26 &plusmn; 0,55) &micro;m para el cantilever AF y  (1,53 &plusmn; 0,58) &micro;m para el cantilever DB, similares a las encontradas  por Son y sus investigadores para la creaci&oacute;n de  patrones h&iacute;bridos en sustratos de oro y zafiro &#91;<a href="#13">13</a>&#93;.</p>     <p align="center"><a name="fig1"></a><img src="img/revistas/rinbi/v8n16/v8n16a04fig1.gif"></p>     <p>La  distancia entre l&iacute;neas tiene en promedio (13,39 &plusmn;  0,40) &micro;m para los patrones mostrados en la <a href="#fig1">Fig. 1a</a> y (12,64  &plusmn; 0,51) &micro;m para los patrones mostrados en la <a href="#fig1">Fig. 1b</a>.  Es as&iacute; como el cantilever AF produjo los patrones m&aacute;s  finos y anchos. A medida que se van escribiendo los  patrones la tinta se va agotando, por eso los &uacute;ltimos patrones  ser&aacute;n m&aacute;s difusos y no se ver&aacute;n tan afectados por  el menisco creado entre la punta y la tinta. La amplitud  de las l&iacute;neas obtenidas en este proceso son mucho  mayores que las reportadas por Haaheim y sus colaboradores,  ya que ellos trabajaron sobre un sustrato de oro  m&aacute;s homog&eacute;neo (mica pulida), el cual tiene una menor rugosidad,  causando una mejor distribuci&oacute;n de la tinta en el  sustrato &#91;<a href="#14">14</a>&#93;. Las l&iacute;neas obtenidas con el cantilever DB presentan  un ancho medio muy superior a los reportados por  Mirkin y colaboradores, quienes trabajaron con sustratos  de oro y tintas hidrof&iacute;licas de &aacute;cido mercapto hexadecanoico  (MHA), las cuales son menos viscosas que la  tinta acr&iacute;lica y por tanto producen patrones m&aacute;s finos &#91;<a href="#2">2</a>&#93;.</p>     <p>Los  patrones de l&iacute;neas creados con una punta tipo M y forma  de cantilever AF y DB se ilustran en la <a href="#fig2">Fig. 2a</a> y <a href="#fig2">2b</a>. Las  l&iacute;neas observadas presentan algunas discontinuidades debido  a la contaminaci&oacute;n presente en el sustrato de oro, no obstante  se obtienen patrones homog&eacute;neos, con un exceso de  tinta en la primera l&iacute;nea. El ancho de l&iacute;neas del patr&oacute;n generado  por el cantilever AF, en promedio se encuentra en  el rango de (1,46 &plusmn; 0,41) &micro;m y el del cantilever DB es de  (1,17 &plusmn; 0,23) &micro;m. A diferencia de lo sucedido con el cantilever  AF de la punta A, los patrones con menor ancho de  l&iacute;nea los produjo el cantilever DB. La distancia entre l&iacute;neas  se encuentran en promedio en el rango de (12,87 &plusmn;  0,22) &micro;m para el cantilever AF y (12,70 &plusmn; 0,40) &micro;m para  el DB (<a href="#fig3">Fig. 3</a>). Cabe destacar que la distancia entre l&iacute;neas  puede ser mucho menor a las reportadas en este trabajo  si se tiene en cuenta la temperatura del sustrato, la velocidad  de escritura, la humedad relativa y por supuesto las  propiedades de la tinta ya que su viscosidad y su mojabilidad  con el sustrato ser&aacute;n fundamentales para la obtenci&oacute;n  de patrones m&aacute;s homog&eacute;neos y delgados &#91;<a href="#5">5</a>&#93; &#91;<a href="#9">9</a>&#93; &#91;<a href="#14">14</a>&#93;.  El exceso de tinta presentado en la l&iacute;nea uno puede ser  causado porque en el momento de iniciar el patr&oacute;n, la punta  pudo presentar un exceso de tinta.</p>     <p align="center"><a name="fig2"></a><a href="img/revistas/rinbi/v8n16/v8n16a04fig2" target="_blank">Figura 2</a></p>     <p align="center"><a name="fig3"></a><img src="img/revistas/rinbi/v8n16/v8n16a04fig3.gif"></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>En  general, se puede evidenciar una escritura m&aacute;s homog&eacute;nea  y ordenada en los cantilever triangulares AF respecto  a los rectangulares (<a href="#fig3">Fig. 3</a>). Este fen&oacute;meno puede deberse  a la geometr&iacute;a de las puntas ya que al presentar una forma  rectangular el cantilever DB cuenta con mayores concentradores  de esfuerzo en sus esquinas, causando una  mayor adhesi&oacute;n de tinta en ella, finalmente esta concentraci&oacute;n  de tinta lleva a la formaci&oacute;n de patrones con anchos  de l&iacute;nea mucho mayores a los de la punta triangular AF  (<a href="#fig3">Fig. 3</a>).</p>     <p>Los  patrones de puntos dise&ntilde;ados fueron creados sobre  el sustrato de oro con tinta acr&iacute;lica en un arreglo (X,  Y- 5&times;5)- usando puntas tipo A y M con  cantilever AF  y DB (<a href="#fig4">Fig. 4</a>). Los patrones muestran homogeneidad y  exceso de tinta al inicio y final de los patrones para los cantilevers  AF y DB respectivamente. Estos excesos de tinta  pueden deberse por que al iniciar la descarga de tinta, la  punta cuenta con excesos de tinta generando un patr&oacute;n inicial  con di&aacute;metro y altura superior al de los dem&aacute;s (<a href="#fig4">Fig. 4</a>),  este fen&oacute;meno es indiferente de las tintas y sustratos que  se utilicen en la t&eacute;cnica de DPN ya que a Gilles y asociados  se les present&oacute; el mismo fen&oacute;meno cuando emplearon  la t&eacute;cnica para la fabricaci&oacute;n de estructuras met&aacute;licas  conductoras, recomendando que para futuras investigaciones  es necesario examinar la composici&oacute;n de la  tinta y del sustrato para reducir este asunto &#91;<a href="#15">15</a>&#93;. Dada la  sensibilidad del sistema, es probable que estos defectos sean  debidos a condiciones externas del proceso como vibraciones  o ruidos que afectan el m&eacute;todo de escritura causando  descargas excesivas de tinta (<a href="#fig4">Fig. 4b</a> y <a href="#fig4">d</a>).</p>     <p align="center"><a name="fig4"></a><img src="img/revistas/rinbi/v8n16/v8n16a04fig4.gif"></p>     <p>Los  di&aacute;metros en promedio de puntos hechos con puntas  tipo A son de (2,46 &plusmn; 0,57) &micro;m para el cantilever AF y  de (2,86 &plusmn; 0,88) &micro;m para el DB &micro;m, estos di&aacute;metros de punto  son similares a las reportadas por Kim y asociados al emplear patrones de  puntos con microorganismos &uacute;tiles en  biolog&iacute;a celular, generadores de torque y motores biomoleculares  &#91;<a href="#10">10</a>&#93;.</p>     <p>Las  distancias entre puntos fueron menores en cantilever  DB (13,12 &plusmn; 0,25) &micro;m, que para los cantilevers AF  (13,70 &plusmn; 0,01) &micro;m (<a href="#fig5">Fig. 5</a>). Al observar las im&aacute;genes se  puede detallar claramente que esta distancia entre puntos puede  ser mucho menor, corroborando lo que sustenta Haaheim  y sus colaboradores donde comentan que con la  t&eacute;cnica DPN se pueden elaborar puntos circulares muy cercanos  el uno con el otro, algo que otras t&eacute;cnicas como el  EBL no permite. Una ventaja del DPN es no requerir de m&aacute;scaras  para crear patrones circulares con poca distancia entre  puntos &#91;<a href="#3">3</a>&#93;.</p>     <p align="center"><a name="fig5"></a><img src="img/revistas/rinbi/v8n16/v8n16a04fig5.gif"></p>     <p>Para  los patrones creados con la punta M los di&aacute;metros promedio  de los puntos fueron de (1,46 &plusmn; 0,35) &micro;m para el cantilever  AF y de (2,76 &plusmn; 0,81) &micro;m para el DB (<a href="#fig4">Fig. 4g</a> y <a href="#fig4">Fig.  4h</a>). Al igual que con las puntas tipo A, las distancias entre  puntos fueron menores con el cantilever DB (13,08 &plusmn; 0,31)  &micro;m que con el AF (13,37 &plusmn; 0,14) &micro;m (<a href="#fig5">Fig. 5</a>). A su vez,  con la matriz realizada con las puntas tipo M se puede observar  un efecto de "aerosol" al final de los patrones, muy  similar a los descritos por Nanoink en la creaci&oacute;n de  patrones a partir de prote&iacute;nas &#91;<a href="#6">6</a>&#93;, sin embargo ellos variaron  el tiempo de inmersi&oacute;n de la punta (0,1- 0,5- 1,0 y 3,0)  &micro;m/s sobre el sustrato de oro. El tiempo de inmersi&oacute;n juega  un papel preponderante a la hora de elaborar patrones m&aacute;s  finos, ya que si la punta permanece en contacto un tiempo  prolongado con el sustrato, es de esperar que la  punta libere una mayor cantidad de tinta, generando patrones  m&aacute;s robustos &#91;<a href="#3">3</a>&#93; &#91;<a href="#9">9</a>&#93; &#91;<a href="#12">12</a>&#93; &#91;<a href="#14">14</a>&#93;. Del mismo modo, el  efecto aerosol puede ser originado por la constante del resorte  de las puntas, especialmente si se est&aacute;n trabajando con  sustratos suaves como el oro. Si son muy r&iacute;gidas, cuando  el cantilever este tocando el sustrato para crear el  patr&oacute;n, la fuerza ejercida por el cantilever ser&aacute; tan alta que  generar&aacute; imperfecciones en el sustrato como huecos o lagrimeos  &#91;<a href="#16">16</a>&#93;. A pesar de que todos los patrones de puntos presentaron  excesos de tinta al inicio de las secuencias, los  elaborados con el cantilever DB presentan mayor dispersi&oacute;n  que los cantilevers AF (<a href="#fig5">Fig. 5</a>).</p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3">IV. CONCLUSI&Oacute;N</font></b></p>     <p>En  este trabajo se modific&oacute; una superficie de oro   usando  la t&eacute;cnica de nanolitograf&iacute;a DPN y puntas tipo A   y  M. Los patrones de l&iacute;neas creados con el cantilever AF   y  DB de las puntas A y M respectivamente son los m&aacute;s   finos.  La poca homogeneidad del sustrato genera caminos   m&aacute;s  tortuosos para la tinta depositada creando patrones   discontinuos.</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>La  t&eacute;cnica DPN permite modificar superficies con patrones  sencillos y homog&eacute;neos como l&iacute;neas y puntos, con dimensiones  en el orden de las micras, con puntos que son muy  cercanos entre s&iacute;. Los patrones creados en este trabajo son  simples pero la t&eacute;cnica, en principio, puede generar patrones  m&aacute;s complejos y la posibilidad de usar tintas de origen  biol&oacute;gico como prote&iacute;nas, ADN ant&iacute;genos, entre otros.  Esta t&eacute;cnica abre un sinn&uacute;mero de posibilidades de aplicaci&oacute;n  en el campo m&eacute;dico ya que con ella se pueden crear  dispositivos a escala nanom&eacute;trica que pueden usarse en  el diagn&oacute;stico y tratamientos de enfermedades de una manera  m&aacute;s eficiente y poco invasiva.</p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3">AGRADECIMIENTOS</font></b></p>     <p>Los  autores agradecemos el apoyo de: la Escuela de   Ingenier&iacute;a  de Antioquia, el Laboratorio de Biomateriales   del  programa de Ingenier&iacute;a Biom&eacute;dica EIA-CES y al   TecnoParque  SENA- Nodo Medell&iacute;n- por el apoyo recibido   para  la realizaci&oacute;n de este proyecto.</p>     <p>&nbsp;</p>     <p><b><font size="3">REFERENCIAS</font></b></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="1">1</a>&#93;.  Anselme K., Davidson P., Popa A. M., Giazzon M., Liley M.,   Ploux L. The interaction of cells  and bacteria with surfaces   structured at the nanometre scale, <i>Acta  Biomater. </i>6(10), 3824-3846, Oct. 2010.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000059&pid=S1909-9762201400020000400001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="2">2</a>&#93;. Ginger D. S., Zhang H., Mirkin  C. The evolution of dip-pen nanolithography, <i>Angew.  Chem. Int. Ed. Engl</i>. 43(1), 30-45, Jan. 2004.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000061&pid=S1909-9762201400020000400002&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p>&#91;<a name="3">3</a>&#93;. Haaheim E. R. T. J R.  Commercially Available High-Throughput Dip Pen Nanolithography&reg;, 2008.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000063&pid=S1909-9762201400020000400003&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="4">4</a>&#93;. Seok-Won Kang D. B. Point-Mass  Model for Nano-Patterning Using Dip-Pen Nanolithography (DPN), <i>Sensors  Transducers J</i>. 11(4), 64-73, Mar. 2011.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000065&pid=S1909-9762201400020000400004&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="5">5</a>&#93;. Wu C.-D., Fang T.-H., Wu T.-T.  Study of process parameters and formative mechanism of patterns on a  dip-pen nanolithography array using molecular dynamics  simulations. <i>Polymer (Guildf)</i>., 53(3), 857-863, Feb. 2012.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000067&pid=S1909-9762201400020000400005&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="6">6</a>&#93;. "Silane Patterning for Protein  Attachment." Apr-2012.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000069&pid=S1909-9762201400020000400006&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="7">7</a>&#93;. Wampler H. P., Zemlyanov D. Y.,  Ivanisevic A. Comparison between Patterns Generated by  Microcontact Printing and Dip- Pen Nanolithography on InP Surfaces, <i>J. Phys.  Chem. C</i>. 111(49), 17989-17992, Dec. 2007.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000071&pid=S1909-9762201400020000400007&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p>&#91;<a name="8">8</a>&#93;. Mendes P. M., Yeung C. L.,  Preece J. A. Bio-nanopatterning of Surfaces, <i>Nanoscale  Res. Lett</i>. 2, 373-384,  2007.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000073&pid=S1909-9762201400020000400008&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="9">9</a>&#93;. Hirtz M., Oikonomou A.,  Georgiou T., Fuchs H., Vijayaraghavan A. Multiplexed biomimetic lipid  membranes on graphene by dippen nanolithography, <i>Nat. Commun. </i>4, 2591, Jan.  2013.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000075&pid=S1909-9762201400020000400009&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="10">10</a>&#93;. Kim J., Shin Y.-H., Yun S.-H.,  Choi D.-S., Nam J.-H., Kim S. R., Moon S.-K., Chung B. H., Lee J.-H.,  Kim J.-H., Kim K.-Y., Kim K.-M., Lim J.-H. Direct-write  patterning of bacterial cells by dippen nanolithography. <i>J. Am.  Chem. Soc</i>. 134(40),  16500-3, Oct. 2012.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000077&pid=S1909-9762201400020000400010&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="11">11</a>&#93;. Rivas-Cardona, J. A., Banerjee  D. Microfluidic device for delivery of multiple inks for dip  pen nanolithography. <i>J. Micro/</i> <i>Nanolithography,  MEMS, MOEMS</i>. 6(3),  033004-0330049, Sep. 2007.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000079&pid=S1909-9762201400020000400011&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="12">12</a>&#93;.  Cronin S. D., Sabolsky K., Sabolsky E. M., Sierros K. A. Dip pen nanolithography and transfer of  ZnO patterns on plastics for large-area flexible optoelectronic  applications, <i>Thin Solid Films</i>, 552, 50-55, Feb. 2014.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000081&pid=S1909-9762201400020000400012&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p>&#91;<a name="13">13</a>&#93;. Son J. Y., Shin Y.-S., Shin  Y.-H. Nanoscale resistive random access memory consisting of a NiO  nanodot and Au nanowires formed by dip-pen nanolithography, <i>Appl. Surf.  Sci</i>. 257(23), 9885-9887, Sep. 2011.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000083&pid=S1909-9762201400020000400013&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="14">14</a>&#93;. Haaheim J., Eby R., Nelson M.,  Fragala J., Rosner B., Zhang H., Athas G. Dip Pen Nanolithography  (DPN): process and instrument performance with NanoInk's  Nscriptor system, <i>Ultramicroscopy</i>, 103(2), 117-132, May 2005.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000085&pid=S1909-9762201400020000400014&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="15">15</a>&#93;. Gilles S., Tuchscherer A.,  Lang H., Simon U. Dip-pen-based direct writing of conducting silver  dots, <i>J.  Colloid Interface Sci</i>. 406, 256-62, Sep. 2013.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000087&pid=S1909-9762201400020000400015&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p>     <!-- ref --><p>&#91;<a name="16">16</a>&#93;. Oberhansl S. Construction of  versatile biomolecule nanoplatforms via Dip-pen Nanolithography and  their application in bio-sensing and cell differentiation,  Tesis doctoral Construction of versatile biomolecule nano-platforms via Dip-pen Nanolithography  and their appl. Universitat de Barcelona, 2012.    &nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000089&pid=S1909-9762201400020000400016&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --></p> </font>      ]]></body><back>
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