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<publisher-name><![CDATA[Facultad de Ingeniería, Universidad Nacional de Colombia.]]></publisher-name>
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<article-title xml:lang="es"><![CDATA[Obtención de un recubrimiento de cromo decorativo a partir de soluciones de cromo trivalente]]></article-title>
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<abstract abstract-type="short" xml:lang="en"><p><![CDATA[The present work was aimed at a qualitative evaluation, in the laboratory, of different alternatives for assembling and operating a trivalent chromium bath for decorative chromium plating. Different chromium concentration solutions and different complexing agents were used. The initial result of this analysis was that chloride, formate and acetate solutions produced the best results. Solution preparation conditions were evaluated: temperature, chromium III complex formation time and also operation during the plating process: pH and temperature. The experimental work was done in the Alfacrom Ltda company; the parameters evaluated consisted of the appearance of chromium deposit and the minimum current density at which it appeared. Resistance to corrosion was tested in a saline-spray chamber, taking conventional hexavalent chromium plating as reference. This assay was done in the Universidad Nacional de Colombia’s Chemical Engineering Laboratory. It was concluded that trivalent chromium plating may represent a technical and economic alternative to conventional hexavalent chromium plating, this being a highly toxic and contaminant process. However, research should be continued into finding optimal process conditions.]]></p></abstract>
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</front><body><![CDATA[  <font size = "2" face = "verdana">     <p>    <center><font size = "4"><b> Obtención de un recubrimiento de cromo decorativo a partir de soluciones  de cromo trivalente </b></font></center></p>     <p>    <center><font size = "3"><b> Obtaining decorative chromium plating from trivalent chromium solutions </b></font></center></p>     <p><b> Óscar Javier Suárez García<sup>1</sup> </b></p>     <p>    <br><sup>1</sup> Ingeniero químico, Universidad Nacional de Colombia, Bogotá, Ingeniero de producción de Alfacrom Ltda. <a href = "mailto:ojsgiq@yahoo.com">ojsgiq@yahoo.com</a> </p> <hr size = "1">     <p><b> RESUMEN </b></p>     <p>   El presente trabajo tiene como objetivo evaluar de forma cualitativa, a escala    de laboratorio, diferentes alternativas para el montaje y operación de    un baño de cromo trivalente para obtener recubrimientos de cromo decorativo.    Fueron empleadas soluciones de diferentes concentraciones de cromo y diversos    agentes formadores de complejos. Este análisis arrojó como resultado    inicial que de las soluciones compuestas de cloruros, formiatos y acetatos se    obtienen los mejores resultados. Se evaluaron las condiciones de preparación    de la soluciones: temperatura y tiempo de formación del complejo de cromo    III; también la operación durante proceso de recubrimiento: pH    y temperatura. El trabajo experimental fue desarrollado en la empresa Alfacrom    Ltda., los parámetros de evaluación fueron: apariencia del depósito    de cromo y densidad mínima de corriente a la que aparece el mismo. Se    evaluó la resistencia a la corrosión en cámara salina,    tomando como referencia un recubrimiento de cromo hexavalente convencional;    este ensayo se realizó en el laboratorio de Ingeniería Química    de la Universidad Nacional de Colombia. Se concluyó que el recubrimiento    con soluciones de cromo trivalente puede ser una alternativa viable técnica    y económicamente para cambiar los procesos de cromado convencionales    que son altamente tóxicos y contaminantes; sin embargo, se debe continuar    la investigación para encontrar las condiciones óptimas del proceso. </p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p> <b>Palabras clave:</b> recubrimiento, cromo trivalente, complejos, procesos galvánicos.</p> <hr size = "1">     <p><b> ABSTRACT </b></p>     <p>   The present work was aimed at a qualitative evaluation, in the laboratory, of    different alternatives for assembling and operating a trivalent chromium bath    for decorative chromium plating. Different chromium concentration solutions    and different complexing agents were used. The initial result of this analysis    was that chloride, formate and acetate solutions produced the best results.    Solution preparation conditions were evaluated: temperature, chromium III complex    formation time and also operation during the plating process: pH and temperature.    The experimental work was done in the Alfacrom Ltda company; the parameters    evaluated consisted of the appearance of chromium deposit and the minimum current    density at which it appeared. Resistance to corrosion was tested in a saline-spray    chamber, taking conventional hexavalent chromium plating as reference. This    assay was done in the Universidad Nacional de Colombia&#8217;s Chemical Engineering    Laboratory. It was concluded that trivalent chromium plating may represent a    technical and economic alternative to conventional hexavalent chromium plating,    this being a highly toxic and contaminant process. However, research should    be continued into finding optimal process conditions. </p>     <p> <b>Keywords:</b> plating, trivalent chromium, complexing, galvanising.</p> <hr size = "1">     <p>Recibido: abril 17 de 2006    <br>   Aceptado: junio 7 de 2006</p>     <p><font size = "3"><b> Introducción </b></font></p>     <p>La galvanotecnia es una técnica que consiste en la electrodeposición    de un recubrimiento metálico sobre una superficie que puede ser o no    metálica. Se recomienda cuando por costos o por razones estructurales    es necesario modificar las características del material base, principalmente    resistencia a la corrosión, dureza, apariencia, conductividad eléctrica    y rozamiento (Acercar, 2003).</p>     <p>Los recubrimientos pueden ser anódicos o catódicos, dependiendo    de la posición de la pieza en el terminal anódico o catódico    del circuito. Los recubrimientos de cromo decorativo son catódicos y    se utilizan para mejorar la apariencia del material base y brindar resistencia    a la corrosión en ambientes moderados. Aunque existen diferentes teorías    sobre el mecanismo de reacción para la deposición del cromo hexavalente,    este se puede resumir en los siguientes pasos (Snyder y Jones, 2004:.</p>     <p><b><i>Reacción de deposición de cromo</i></b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09e1.gif"></center></p>     <p><b><i>Reacción colateral</i></b></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09e2.gif"></center></p>     <p>En Bogotá, existen aproximadamente 400 plantas galvánicas, el    13% se dedica a procesos de anodizado y preparación de superficies, las    restantes realizan procesos de recubrimientos, entre ellos el cromado (Acercar,    2003). </p>    <p>   En Colombia estos recubrimientos se emplean principalmente en autopartes, herramientas    agrícolas, grifería, muebles, artefactos a gas, entre otros. El    proceso convencional de cromado se presenta en la <a href="#fig01">Figura 1</a>.</p>     <p><a name="fig01"></a></p>     <p></p>     <p>    ]]></body>
<body><![CDATA[<center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f1.jpg"></center></p>     <p></p>     <p>   Entre cada operación se tienen tanques con agua para lavar las piezas,    así se evita contaminar la solución de la siguiente etapa; las    aguas de enjuague son descartadas periódicamente, y debido a que tienen    contenido de metales pesados, ácidos, álcalis y otras sustancias    peligrosas, deben ser llevadas a una planta depuradora antes de ser vertidas    al alcantarillado. El cromado convencional se realiza en soluciones de cromo    hexavalente, que contienen entre 200&#150;250 g/L de acido crómico (CrO<sub>3</sub>)    y 1-2 g/L de ácido sulfúrico y fluoro. Silicatos como catalizadores;    estas soluciones son altamente corrosivas y presentan gran riesgo para la salud    y el ambiente. Debido a la alta concentración de cromo en la solución,    se pierden por arrastre en los enjuagues entre 50 y 100 mL de solución    por cada m<sup>2</sup> de material procesado; además, por la reacción de    producción de hidrogeno (ecuación 4) se obtiene una niebla ácida    con contenido de material particulado de Cr<sup>+6</sup>. Las ventajas y desventajas del    proceso convencional de cromado se resumen en la <a href="#tab01">Tabla 1</a>.</p>     <p><a name="tab01"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t1.gif"></center></p>     <p></p>     <p>Los baños de cromo trivalente se desarrollaron a partir de los años    setenta como una alternativa para solucionar los problemas asociados al cromado    tradicional (Snyder y Jones, 2004). En el medio industrial colombiano los procesos    basados en Cr<sup>+3</sup> no son utilizados, principalmente por desconocimiento de tecnologías    alternativas, lo que dificulta y encarece la implementación de procesos    que pueden ser más eficientes y que reducen la generación de residuos    y peligros para el medio ambiente y la salud de los trabajadores. El presente    trabajo tiene como objetivo evaluar de forma cualitativa y a escala de laboratorio,    diferentes alternativas para el montaje y operación de un baño    de cromo trivalente para recubrimientos de cromo decorativo, y de esta manera    tener un primer acercamiento a esta tecnología con fines de una posible    aplicación industrial.</p>     <p><font size = "3"><b> Características de procesos de cromo trivalente </b></font></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Las principales ventajas de los recubrimientos a partir de cromo trivalente    son: 1) baja viscosidad por una menor concentración de cromo, lo que    disminuye pérdidas por arrastre de materia prima, 2) menor toxicidad    del proceso, 3) el peso equivalente es el doble que el del ión Cr<sup>+6</sup>,    es decir, se obtiene mayor eficiencia catódica, 4) la microestructura    del depósito que se obtiene da mayor resistencia a la corrosión    y 5) es completamente tolerante a interrupciones de corriente durante el proceso    (Dahlhaus , 2005; Snyder y Jones, 2004; Song y Chin, 2002). Sin embargo, el    cromo metálico no se puede obtener directamente a partir de una solución    de sulfato o cloruro de cromo III, ya que el cromo forma complejos estables    e inertes con los iones OH<sup>-</sup> y Cl<sup>-</sup>, y también óxidos que interfieren    en la reacción catódica, el cromo debe formar un complejo con    un compuesto que libere fácilmente el Ion Cr<sup>+3</sup> y de esta manera se produzca    la reducción a Cr<sup>0</sup> (Song y Chin, 2002).</p>     <p>Los formadores de complejos de cromo trivalente comúnmente empleados    son: hipofosfito de sodio y glicina, también otros quelantes como ácidos    carboxílicos o sus sales, urea, tiourea, tiocianatos y dimetilformamida,    entre otros (Barclay, 1977; Barelay, 1981; Benahen, 1986; Bernard y Barnes,    1977; Ward y Barnes, 1979); la formación de los complejos de cromo trivalente    no ocurre de manera instantánea, sino que se debe dar un tiempo de reacción    hasta lograr el equilibrio; la formación del complejo y por tanto la    calidad del recubrimiento de cromo, dependen del pH, temperatura y tiempo de    la reacción de complejación. El pH de la solución debe    estar entre 2-4 unidades (Bernard y Barnes, 1977), a bajas temperaturas la reacción    puede tardar hasta dos meses en llegar al equilibrio (Szyncarzuk<i> et al</i>., 1988    y Szyncarzuk, Drella, y Kubicki, 1989), mientras que a temperaturas más    altas, del orden de 90&deg;C o más, el tiempo se puede reducir considerablemente    (Bernard y Barnes, 1977).</p>     <p>Bernard y Barnes (1977) han estudiado baños de cromo trivalente con    sulfatos o cloruros, con una concentración de 200-250 g/L de sal de cromo    y 100 g/L de hipofosfito de sodio de los que se obtuvo recubrimiento brillante    en el intervalo de 1.2-35 A/dm<sup>2</sup>, y con 100g/L de urea el depósito brillante    aparece de 8-40 A/dm<sup>2</sup>. Por su parte, Song y Chin (2002) han empleado soluciones    más diluidas de 60 g/L de Cloruro de cromo (III), empleando 28 g/L de    formiatos y 12g/L de acetatos, obteniendo también superficies cromadas,    y se ha comprobado experimentalmente que los agentes formadores de complejo    participan activamente en las reacciones de reducción de Cr<sup>+3</sup> (Song y    Chin, 2002; Szyncarzuk<i> et al</i>., 1988, y Szyncarzuk, Drella, y Kubicki, 1989)    según el siguiente mecanismo:</p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09e3.gif"></center></p>     <p>En estas soluciones se deben adicionar otros componentes para mejorar propiedades    como estabilidad, conductividad, tensión superficial, entre otras (Barclay,    1977; Barelay, 1981; Benahen, 1986; Bernard y Barnes, 1977; Ward y Barnes, 1979).</p>     <p><b> Resistencia a la corrosión </b></p>     <p>Los depósitos de cromo a partir de soluciones de Cr<sup>+3</sup> poseen una estructura    microporosa (Dahlhaus, 2005 y Snyder y Jones, 2004) que aumenta la resistencia    a la corrosión al disminuir la relación área catódica    / área anódica en los pares galvánicos Cr/Ni, Cr/Fe, y    Ni/Fe que se presentan en una superficie cromada y que son en gran medida responsables    de la aparición de manchas de óxido.</p>     <p>Los depósitos de cromo hexavalente pueden ser también microporosos,    pero con un tratamiento previo de la superficie durante el niquelado que puede    incluir dos o más capas de níquel, con aditivos que permiten la    aparición de la estructura (Dahlhaus, 2005), sin embargo, este proceso    implica el montaje de instalaciones extras que aumentan los costos de producción.</p>     <p><b> Cromo trivalente en el mercado </b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>En el mercado internacional existen empresas que distribuyen actualmente productos    para el montaje de baños de cromo trivalente; las condiciones varían    según el tipo de piezas y el uso de las mismas. Los intervalos de operación    son (Atotech, 2004; Enthone Inc., 2003, y Mc Dermid, 2004):</p>     <p>Temperatura: 25-45&deg;C    <br>   Densidad: 1.16-1.21 g/cm<sup>3</sup> (20-25&deg;Be)    <br>   Corriente catódica: 3-20 A/dm<sup>2</sup>    <br>   Relación Ánodo: cátodo = 2:1    <br>   pH: 2.5-3.4    <br>   Cromo trivalente: 4.5-25 g/L    <br>   Tiempo de proceso: 30 segundos a 6 minutos    <br>   Agitación: con aire o mecánica </p>    <p>   Para velocidades de reacción altas se recomiendan grandes temperaturas,    para cromado en bajas densidades de corriente se prefieren valores altos de    pH (Atotech, 2004 y Enthone, 2003). Los productos para el montaje y la asesoría    para la operación de estos baños se deben importar, el costo comparativo    para un tanque de 1500 Litros se presenta en la <a href="#tab02">Tabla 2</a>.</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><a name="tab02"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t2.gif"></center></p>     <p></p>     <p>Por los elevados costos de la implementación de esta tecnología    con materias primas importadas se presenta la necesidad de experimentar con    procesos de cromo III que reúnan las características de calidad,    protección y costo para competir en el mercado nacional de los recubrimientos    decorativos.</p>     <p><font size = "3"><b> Desarrollo experimental </b></font></p>     <p>Debido a la posibilidad de variar componentes en los baños de Cr<sup>+3</sup> a    evaluar se estableció un procedimiento experimental (ver <a href="#fig02">Figura 2</a>) general    en el cual se pudieran cambiar los diferentes insumos y descartar alternativas    que no cumplen con los requisitos determinados para cada etapa.</p>     <p><a name="fig02"></a></p>     <p></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f2.jpg"></center></p>     <p></p>     <p>   Para la preparación de soluciones se emplearon reactivos grado técnico    (ver <a href="#tab03">Tabla 3</a>) de uso industrial común y de fácil consecución    en almacenes de productos químicos.</p>     <p><a name="tab03"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t3.gif"></center></p>     <p></p>     <p>Los ensayos se realizaron en una celda Hull de 277 mL con control de temperatura,    un rectificador de corriente con capacidad para 20 amperios y 10 voltios. Los    cátodos fueron placas de acero HR con una superficie sumergida de 0.5dm<sup>2</sup>.    Estas fueron previamente niqueladas en un baño tipo Watts, bajo las condiciones    presentadas en la <a href="#tab04">Tabla 4</a>.</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><a name="tab04"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t4.gif"></center></p>     <p></p>     <p>Debido a que en la celda de Hull la densidad de corriente en el cátodo    varía con la distancia al ánodo, la determinación de densidad    en que se obtiene el recubrimiento de cromo se realizó basándose    en las convenciones de la <a href="#fig03">Figura 3</a> y la <a href="#tab05">Tabla 5</a>.</p>     <p><a name="fig03"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f3.jpg"></center></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p></p>     <p><a name="tab05"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t5.gif"></center></p>     <p></p>     <p><b> Preparación de cloruro de cromo </b></p>     <p>Se preparó una solución de 330 g/L de sulfato básico de    cromo, el pH se ajustó a un valor de 7,0, al que se precipitó    el cromo como hidróxido; el sólido se separó por sedimentación    y se lavó varias veces hasta que la densidad del agua de lavado fue de    1.02 g/mL; por último, se adicionó ácido clorhídrico    al 37% p/v, hasta disolución total del hidróxido. Se obtuvo una    solución de cloruro de cromo de densidad 1.10 g/mL que corresponde a    una concentración aproximada de 110 g/L de CrCl<sub>3</sub> (Perry, <i>Chemical Engeneering&acute;s    Handbook</i>, pp 2-100).</p>     <p><b> Soluciones de cromo III </b></p>     <p>Se prepararon soluciones de diferente composición (ver <a href="#tab06">Tabla 6</a>); en    esta etapa se buscó seleccionar la solución de la cual se obtuviera    el recubrimiento de mejor apariencia.</p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p><a name="tab06"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t6.gif"></center></p>     <p></p>     <p><b> Formación de complejos </b></p>     <p>Para cada tipo de solución se probaron diferentes tiempos y temperaturas    de formación de complejos (ver <a href="#tab07">Tabla 7</a>) para su evaluación. Se    prepararon volúmenes de 300mL, se ajustó la temperatura, y en    ese momento se adicionó el formador de complejo; la temperatura se mantuvo    en un intervalo de +-5&deg;C con agitación intermitente. Después    de finalizado el tiempo de reacción determinado para cada una, se adicionaron    los demás componentes.</p>     <p><a name="tab07"></a></p>     <p></p>     <p>    ]]></body>
<body><![CDATA[<center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t7.gif"></center></p>     <p></p>     <p><b> Electrólisis </b></p>     <p>La deposición de cromo se realizó inicialmente a 40&deg;C con    una densidad de corriente catódica promedio de 10A/dm<sup>2</sup> durante 30 segundos,    sin modificar el pH de cada solución. Como ánodo se empleo grafito.</p>     <p><b> Estudio de condiciones para cromado </b></p>     <p>Después de escoger la solución y mejores condiciones de formación    de complejo, se preparó solución nueva y se variaron las condiciones    de pH y temperatura para la electrólisis de cromo como se muestra en    la <a href="#tab08">Tabla 8</a>, la densidad de corriente se mantuvo en 10A/dm<sup>2</sup>.</p>     <p><a name="tab08"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t8.gif"></center></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p></p>     <p><b> Resistencia a la corrosión </b></p>     <p>A fin de comparar la resistencia del cromado convencional con el cromado en    estudio, se escogieron las mejores condiciones para preparar un baño    de 20 litros, se cromaron placas de 10x10 cm en las condiciones de operación    presentadas en la <a href="#tab09">Tabla 9</a> y se realizó la evaluación de la resistencia    a la corrosión en cámara salina (prueba realizada por el Laboratorio    de Electroquímica y Corrosión de la Facultad de Ingeniería    de la Universidad Nacional de Colombia).</p>     <p><a name="tab09"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t9.gif"></center></p>     <p></p>     <p><font size = "3"><b> Resultados y análisis </b></font></p>     <p><b> Formación de complejos </b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Los resultados se presentan en la <a href="#tab10">Tabla 10</a>. A temperaturas de 60&deg;C y 180    minutos de reacción se obtuvieron los mejores resultados para cada una    de las soluciones. A tiempos cortos y bajas temperaturas únicamente se    obtuvieron depósitos manchados para la solución 1 (<a href="#fig04">Figura 4</a>).    Para las soluciones 2, 3 y 4 no hubo superficie cromada a estas condiciones,    lo que evidencia la estabilidad de los complejos inorgánicos, en especial    en soluciones con contenido de cloruros (solución 3D, <a href="#fig07">Figura 7</a>).</p>     <p>El depósito de cromo se observa manchado para todas las soluciones con    contenido de urea (<a href="#fig05">figuras 5</a> y <a href="#fig06">6</a>); estas manchas pueden deberse a la deposición    de óxidos de Cr<sup>+2</sup> y Cr<sup>+3</sup> , o por la presencia de Cromo<sup>+3</sup> sin acomplejar;    para la solución 2D que contiene sulfatos, formiato y acetato (<a href="#fig06">Figura    6</a>) se observa la presencia de un recubrimiento pero únicamente en zonas    de alta densidad de corriente (&gt;8A/dm<sup>2</sup>), lo que disminuye la posibilidad    de su uso en una aplicación industrial ya que restringe el uso a piezas    con geometrías regulares. Para la solución 4D que contiene cloruros,    formiato y acetato (<a href="#fig08">Figura 8</a>) se obtuvo el mejor recubrimiento, este aparece    desde zonas de media densidad de corriente (5 A/dm<sup>2</sup>) y no presenta manchas en    la alta densidad de corriente. Se optó entonces por emplear esta solución    para el estudio de las condiciones de cromado.</p>     <p><a name="tab10"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t10.gif"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig04"></a></p>     <p></p>     <p>    ]]></body>
<body><![CDATA[<center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f4.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig05"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f5.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig06"></a></p>     <p></p>     <p>    ]]></body>
<body><![CDATA[<center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f6.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig07"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f7.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig08"></a></p>     <p></p>     <p>    ]]></body>
<body><![CDATA[<center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f8.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig09"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f9.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig10"></a></p>     <p></p>     <p>    ]]></body>
<body><![CDATA[<center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f10.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig11"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f11.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="fig12"></a></p>     <p></p>     <p>    ]]></body>
<body><![CDATA[<center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f12.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><b> Efecto del pH y temperatura </b></p>     <p>Los resultados se presentan en la <a href="#tab11">Tabla 11</a>. Se encontró que para las    soluciones 4D I y 4D II (<a href="#fig09">figuras 9</a> y <a href="#fig10">10</a>), que tienen los valores más    bajos de pH, el área de superficie cromada se restringe a los valores    de alta densidad de corriente (&gt;8 A/dm<sup>2</sup>), mientras que a valores altos de    pH se el área cromada aumenta (<a href="#fig11">figuras 11</a> y <a href="#fig12">12</a>); esto coincide con lo    reportado en la literatura, sin embargo, el aumentar la temperatura no presenta    ventajas ya que el intervalo de cromado disminuye levemente y el recubrimiento    se presenta manchado en la alta densidad de corriente (<a href="#fig12">Figura 12</a>). Se escogieron    las condiciones de baja temperatura y alto pH para realizar el ensayo de resistencia    a la corrosión.</p>     <p><a name="tab11"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t11.gif"></center></p>     <p></p>     <p><b> Resistencia a la corrosión </b></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p>Los resultados se presentan en la <a href="#tab12">Tabla 12</a>; se observa un mayor deterioro del    recubrimiento obtenido a partir de cromo trivalente (<a href="#fig13">Figura 13</a>), este resultado    no concuerda con lo reportado en la literatura lo cual quiere decir que aunque    se obtienen recubrimientos de buena apariencia, las condiciones no son las óptimas    para obtener la máxima resistencia a la corrosión.</p>     <p><a name="fig13"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09f13.jpg"></center></p>     <p></p>     <p><a name="tab12"></a></p>     <p></p>     <p>    <center><img src="img/revistas/iei/v26n2/2a09t12.gif"></center></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<p></p>     <p><font size = "3"><b> Conclusiones y trabajos futuros </b></font></p>     <p>Se obtuvieron recubrimientos de cromo decorativo a partir de soluciones de    cromo trivalente, lo cual indica que esta tecnología es una alternativa    para mejorar los problemas asociados al proceso de cromado tradicional; el cloruro    de cromo acomplejado con formiato y acetato de sodio aparece como la mejor alternativa    pues permite obtener recubrimientos brillantes en un intervalo amplio de corriente,    con bajas densidades de corriente y con una baja concentración de cromo    metálico en la solución, esto es importante para disminuir la    pérdida de materia prima por arrastre a los enjuagues; de igual manera,    se disminuye la generación de residuos y el consumo de energía    en comparación al proceso de cromo hexavalente.</p>     <p>En estos baños a valores bajos de pH se reduce el intervalo de cromado,    mientras que a alta temperatura el recubrimiento aparece defectuoso. Las mejores    características de apariencia del recubrimiento se obtuvieron a valores    altos de pH (3,0 unidades) y temperatura de 30&deg;C, lo cual es un indicio    para una futura evaluación de las condiciones óptimas en una aplicación    industrial, ya que es necesario continuar la investigación para optimizar    el proceso. Los recubrimientos obtenidos a partir de soluciones de sulfatos    o urea no tienen buenas características, ya que aparecen manchados y    en restringidos intervalos de densidad de corriente.</p>     <p>El recubrimiento de cromo convencional presentó mayor resistencia a    la corrosión en cámara salina, lo que indica que las condiciones    de trabajo del baño de cromo trivalente en estudio, ya sea formación    de complejo, concentración de componentes o condiciones durante el cromado,    no son las óptimas para alcanzar la máxima efectividad del recubrimiento.</p>     <p>Los costos de insumos químicos para un baño de 1 500 litros con    la formulación escogida son de $1.500.000 aproximadamente, siendo menor    que el costo de un baño de cromo hexavalente del mismo tamaño,    y aunque no se han determinado las adiciones de materia prima para una producción    dada, se estima que el costo no debe ser tan elevado como el presentado para    una solución de Cr<sup>+3</sup> importada; esto, junto con una disminución    en el costo de tratamiento de residuos, hace económicamente viable la    alternativa de cambio al proceso de cromo trivalente.</p>     <p>Se recomienda profundizar en esta investigación empleando técnicas    como voltametría, coulometría o espectrometría de impedancia,    para evaluar las propiedades del recubrimiento a diferentes condiciones de obtención    (concentración, formación de complejo y cromado). Es además    recomendable determinar las adiciones de insumos químicos según    la producción, así como el costo de tratamiento de los residuos    producidos por este proceso, para poder realizar un análisis de costos    completo y hacer una evaluación de factibilidad económica para    el cambio de proceso.</p>     <p><font size = "3"><b> Agradecimientos </b></font></p>     <p>El autor expresa sus agradecimientos al ingeniero Alfonso Leyva Santacoloma,    gerente general de Alfacrom Ltda.; al ingeniero Diego Camilo Mancipe, Msc. Universidad    de Salamanca; y a todo el personal de Alfacrom Ltda.</p>     <p><font size = "3"><b> Bibliografía </b></font></p>     ]]></body>
<body><![CDATA[<!-- ref --><p>ACERCAR Industria, Planes de acción para mejoramiento ambiental GALVANOTECNIA.,    2003.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000213&pid=S0120-5609200600020000900001&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Atotech USA Inc., Tri-chrome PLUS, Trivalent chromium plating process., Technical    data sheet., 2004.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000214&pid=S0120-5609200600020000900002&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Barclay, D. J. y Morgan, W., Electrodeposition of Chromium., United States    Patent 4 062 737, Diciembre ,1977.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000215&pid=S0120-5609200600020000900003&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Barclay, D. J., Vigar J. M.L., Low concentration trivalent chromium electroplating    solution and process., United States Patent 4 278 512., Julio 1981.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000216&pid=S0120-5609200600020000900004&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Benahen, P., y Tardy, R., Chromium electroplating trivalent chromium bath therefore    and method of making such bath., United States Patent 4 612 091, Septiembre    1986.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000217&pid=S0120-5609200600020000900005&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Bernard, J. J. y Barnes C., Trivalent chromium plating bath., Patent Specification    1 488 381, Londres, 12 Octubre, 1977.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000218&pid=S0120-5609200600020000900006&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Dahlhaus, M., Calculating Corrosion., Products finishing, ENTHONE Germany,    2005.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000219&pid=S0120-5609200600020000900007&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Denis, A. J., Principles and Prevention of Corrosion., Mc Millan Publishing    company, 1992.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000220&pid=S0120-5609200600020000900008&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Dubpernell, G., Chromium modern electroplating., Jhon Wiley &amp; Son Inc,    1974.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000221&pid=S0120-5609200600020000900009&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>ENTHONE Inc., .Triclolyte IV, Trivalent Chromium Process., Technical data sheet,    2003.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000222&pid=S0120-5609200600020000900010&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Mc Dermid Inc., .Trimac Envirochrome III, Decorative trivalent chromium., Technical    data sheet, 2004.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000223&pid=S0120-5609200600020000900011&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Perry., Chemical Engeneering&acute;s Handbook., 7 ed, Mc Graw Hill,1999.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000224&pid=S0120-5609200600020000900012&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Pletcher, D., Industrial Electrochemistry., Chapman and Hall., 1991.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000225&pid=S0120-5609200600020000900013&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Shanin, G. E., Functional plating from solutions containing trivalent chromium    ion., United States Patent 5 294 326., Marzo, 1994.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000226&pid=S0120-5609200600020000900014&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Snyder, D. y Jones, R., Decorative and Functional Trivalent Chromium electroplating.,    Atotech USA, Suffice Finished, 2004.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000227&pid=S0120-5609200600020000900015&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Song, Y. B., Chin, D.T., Current efficiency and polarization behavior of trivalent    chromium electrodeposition process., Electrochimica Acta, Vol 48, 2002, pp 349-356.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000228&pid=S0120-5609200600020000900016&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Szyncarzuk, J., Drella, I. y Kubicki J., Electrochemical behaviour of chromium    III in the presence of formica acid &#150;I., Electrochimica Acta, vol 34,    No 3, 1989, pp 399-403.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000229&pid=S0120-5609200600020000900017&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Szyncarzuk, J., Drella, I., Kubicki J., Electroreduction of chromium (III)-acetate    complex to metallic chromium on the copper electrode., Electrochimica Acta,    vol 33, No 4, 1988, pp 589-592.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000230&pid=S0120-5609200600020000900018&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --><!-- ref --><p>Ward, J. y Barnes C., Trivalent chromium plating baths., United States Patent    4 157 945, Junio, 1979.&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;[&#160;<a href="javascript:void(0);" onclick="javascript: window.open('/scielo.php?script=sci_nlinks&ref=000231&pid=S0120-5609200600020000900019&lng=','','width=640,height=500,resizable=yes,scrollbars=1,menubar=yes,');">Links</a>&#160;]<!-- end-ref --> ]]></body><back>
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